专利名称：一种可异地加工的镀膜玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜玻璃，更具体地说，是涉及一种可异地加工的镀膜玻璃。
背景技术：
由于业务量的扩大，销售半径不断延伸，在工厂镀膜后加工成中空玻璃成品发往远距离市场，运输成本高、加工周期长。因此，需研制一种可异地加工的镀膜玻璃产品，将此玻璃产品发往远距离市场，在市场当地对此镀膜玻璃再进行切割、磨边、钢化等后续加工减少运输成本。
发明内容本实用新型的目的是针对上述存在问题，提供一种可后续切割、磨边、钢化等加工而减少运输成本的镀膜玻璃。 本实用新型的目的是这样实现的包括有玻璃基片，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有四个膜层，其中，第一膜层即最内层为氮化硅层，第二膜层为钛的氧化物层，第三膜层为不锈钢层，第四膜层为钛的氧化物层。本实用新型，第一膜层的厚度为5(T60nm，第二膜层的厚度为15 25nm，第三膜层的厚度为5 10nm，第四膜层的厚度为3(T40nm本实用新型，具有如下积极效果I)、寻找新材料进行磁控溅射镀膜。将半导体复合材料TiOx应用到磁控溅射镀膜行业，并有效地与现有的扩散泵系统匹配；2)、半导体靶材TiOx进行磁控溅射时的灭弧技术，即合理的电容、电感配置。本实用新型，具有可后续切割、磨边、钢化等加工而减少运输成本的优点。下面实施例结合附图说明对本实用新型作进一步的说明。
图I是本实用新型的一个实施例的结构示意图。图中，I、玻璃基片；2、复合面；21、氮化硅层；22、钛的氧化物层；23、不锈钢层；24、钛的氧化物层。
具体实施方式
参照图1，本实施例是一种可异地加工的镀膜玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的复合面2上由内到外依次相邻地复合有四个膜层，其中，第一膜层即最内层为氮化硅层21，第二膜层为钛的氧化物层22，第三膜层为不锈钢层23，第四膜层为钛的氧化物层24 ；第一膜层的氮化硅层21，即Si3N4层，Si3N4是一种非常坚硬的材料，它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性及耐腐蚀性，Si3N4层的厚度为5(T60nm ;第二膜层的钛的氧化物层22，即打02层，采用高折射率n=2. 5的TiO2是为了提高玻璃的透光率，而且玻璃呈中性颜色，使之具有较高的可见光透过率，TiO2膜表面非常光滑，厚度为15 25nm;第三膜层的不锈钢层23，即SST层，不锈钢层作为功能层，用来调整产品的透过率，它与其它的功能层相比具有低廉的价格，厚度为5 10nm ;第四膜层的钛的氧化物层24，即TiO2层，采用高折射率n=2. 5的TiO2是为了提高玻璃的透光率，而且玻璃呈中性颜色，使之具有较高的可见光透过率，TiO2膜表面非常光滑，且具有非常高的耐高温性，能耐700度以上的高温，从而满足异地加工的需求，厚度为3(T40nm。[0014]本实用新型,单位nm是纳米，Im=IO9 nm。
权利要求1.一种可异地加工的镀膜玻璃，包括有玻璃基片(1)，在玻璃基片的复合面(2)上由内到外依次相邻地复合有四个膜层，其特征在于其中，第一膜层即最内层为氮化硅层(21)，第二膜层为钛的氧化物层(22)，第三膜层为不锈钢层(23)，第四膜层为钛的氧化物层(24)。
2.根据权利要求I所述的可异地加工的镀膜玻璃，其特征在于所述第一膜层的厚度为5(T60nm，所述第二膜层的厚度为15 25nm，所述第三膜层的厚度为5 10nm，所述第四膜层的厚度为3(T40nm。
专利摘要本实用新型涉及一种可异地加工的镀膜玻璃，包括有玻璃基片，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有四个膜层，其中，第一膜层即最内层为氮化硅层，第二膜层为钛的氧化物层，第三膜层为不锈钢层，第四膜层为钛的氧化物层。具有可后续切割、磨边、钢化等加工而减少运输成本的优点。
文档编号B32B15/04GK202378359SQ201220001790
公开日2012年8月15日 申请日期2012年1月3日 优先权日2012年1月3日
发明者魏佳坤 申请人:揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司