一种耐指纹透明硬化膜的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种耐指纹透明硬化膜，包括基材及位于所述基材上的涂层，所述涂层上具有多个涂层凸起结构，所述涂层凸起结构的横截面为方形、圆形、椭圆形或菱形等，所述涂层凸起结构与所述涂层一体成型，所述涂层凸起结构中具有耐指纹添加剂。本发明提供的耐指纹透明硬化膜，既保证了耐指纹效果也保证了光的正视高透过率。另外还能保证表面硬度，使划痕的产生也因为阻断和接触的原因而不显著。
【专利说明】一种耐指纹透明硬化膜
[0001]
【技术领域】
[0002]本发明涉及膜材料【技术领域】，尤其涉及一种耐指纹透明硬化膜。
【背景技术】
[0003]传统硬化膜分为两种:
第一种是表面光滑型，其表面铅笔硬度通过树脂材料来实现，通常可达2~3H，但表面没有耐指纹性能。即使通过在树脂材料中加入耐指纹添加剂，也非长效型。其优点是光透过率高；缺点是表面不耐指纹(尤其是用于手机表面防护膜等情况下);
第一种类型的生产工艺为湿式涂布技术，采用树脂与溶剂的方式，先经过热烘烤，再进行紫外光照。此种工艺对形成表面光滑的加硬膜提高表面硬度非常有效，但不能在表面形成特定结构，不能控制表面结构生成。
[0004]第二种是表面磨砂型，顾名思义，其表面做成磨砂状，但这种磨砂是随机分布的，且表面凹凸不平。其优点是耐指纹；缺点是光透过率低。磨砂表面可以通过UV涂布干式制程直接成型，也可以通过粒子的湿式制程实现。
【发明内容】
[0005]本发明要解决的技术问题在于，提供一种既耐指纹又具有光的高透过率的耐指纹透明硬化膜。表面微结构的设计是以两种目的为最终效果的:
一、正面光透过率高，尽量接近目前市售的表面光滑性的硬化膜；
二、表面涂层结构实现耐指纹效果及保证一定的硬度。
[0006]本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种耐指纹透明硬化膜，其特征在于，包括基材及位于所述基材上的涂层，所述涂层上具有多个涂层凸起结构，所述涂层凸起结构的横截面为方形、圆形、椭圆形或菱形，所述涂层凸起结构与所述涂层一体成型。
[0007]作为对本发明所述技术方案的一种改进，所述涂层凸起结构中具有耐指纹添加剂。
[0008作为对本发明所述技术方案的一种改进，所述耐指纹添加剂为硅氧烷或含氟化物。
[0009]作为对本发明所述技术方案的一种改进，所述涂层凸起结构均匀的分布在所述涂层上。
[0010]作为对本发明所述技术方案的一种改进，所述涂层凸起结构无规律的分布在所述涂层上，且具有一定的分布密度。
[0011]作为对本发明所述技术方案的一种改进，所述涂层凸起结构的长度和宽度为0-2000 微米。
[0012]作为对本发明所述技术方案的一种改进，所述涂层凸起结构的高度一致。[0013]作为对本发明所述技术方案的一种改进，所述涂层凸起结构的高度不一致。
[0014]作为对本发明所述技术方案的一种改进，所述涂层凸起结构的高度为0-2000微米。
[0015]作为对本发明所述技术方案的一种改进，多个所述涂层凸起结构之间的距离为0-5000 微米。
[0016]因此，本发明提供的耐指纹透明硬化膜，既保证了耐指纹效果，也保证了光的正视高透过率。另外还能保证表面硬度，使划痕的产生也因为阻断和接触的原因而不显著。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中:
图1是本发明耐指纹透明硬化膜的非接触式结构示意图；
图2是本发明耐指纹透明硬化膜的非接触式与阻断式结构示意图；
现将附图中的标号说明如下:10为基材，20为涂层，30为涂层凸起结构。
[0018]【具体实施方式】
[0019]为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0020]本发明的耐指纹透明硬化膜，包括基材10及位于基材10上的涂层20，涂层20上具有多个涂层凸起结构30，涂层凸起结构30与涂层20 —体成型。涂层凸起结构30的横截面为方形、圆形、椭圆形或菱形，即其为水平横截面为方形、圆形、椭圆形或菱形的柱体结构，涂层凸起结构中具有耐指纹添加剂，耐指纹添加剂为硅氧烷或含氟化物，比如3M的含氟类添加剂，和德国毕克化学(BYK)及日本SILOK的几款硅氧烷添加剂都具有比较好的耐指纹效果，同时，表面微结构中加入耐指纹添加剂也能在一定程度上增加表面铅笔硬度及耐摩擦性能。
[0021]在本发明较佳实施例中，图1是本发明耐指纹透明硬化膜的非接触式结构示意图，如图1所示，涂层凸起结构30均匀的分布在涂层20上，涂层凸起结构30的长度和宽度范围在0-2000微米之间，涂层凸起结构30的高度一致，高度范围在0-2000微米之间。涂层凸起结构30之间的距离范围为0-5000微米。但本发明不限于此，也可以采用其他范围内的数值，不再赘述。另外，涂层凸起结构30中具有耐指纹添加剂。
[0022]图2是本发明耐指纹透明硬化膜的非接触式与阻断式结构示意图，如图2所示，与耐指纹透明硬化膜的非接触式不同之处在于，涂层凸起结构30无规律的分布在涂层20上，但要满足一定的分布密度，涂层凸起结构30的高度不一致。
[0023]本发明具体实施例并不仅限于以上描述，例如，图1和图2中，涂层凸起结构30的高度可以一致也可以不一致，其分布可以具有一定的规律，也可以无序排布，同样，涂层凸起结构30的尺寸、高度以及其间距等也可以根据实际需要进行调整。本发明提供的耐指纹透明硬化膜，既保证了耐指纹效果，耐指纹的效果因为阻断和接触的原因而显著，也保证了光的正视高透过率。另外还能保证表面硬度，使划痕的产生也因为阻断和接触的原因而不显著。
[0024]应当理解的是，对本领域普通技术人员来说，可以根据上述说明加以改进或变换，而所有这些改进和变换都应属于本发明所附权利要求的保护范围。
【权利要求】
1.一种耐指纹透明硬化膜，其特征在于，包括基材及位于所述基材上的涂层，所述涂层上具有多个涂层凸起结构，所述涂层凸起结构的横截面为方形、圆形、椭圆形或菱形，所述涂层凸起结构与所述涂层一体成型。
2.根据权利要求1所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，所述涂层凸起结构中具有耐指纹添加剂。
3.根据权利要求2所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，所述耐指纹添加剂为硅氧烷或含氟化物。
4.根据权利要求1所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，所述涂层凸起结构均匀的分布在所述涂层上。
5.根据权利要求1所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，所述涂层凸起结构无规律的分布在所述涂层上。
6.根据权利要求1所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，所述涂层凸起结构的长度和宽度为0-2000微米。
7.根据权利要求1所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，所述涂层凸起结构的高度—致。
8.根据权利要求1所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，所述涂层凸起结构的高度不一致。
9.根据权利要求7或8所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，所述涂层凸起结构的高度为0-2000微米。
10.根据权利要求1所述的耐指纹透明硬化膜，其特征在于，多个所述涂层凸起结构之间的距离为0-5000微米。
【文档编号】B32B33/00GK103660486SQ201310663339
【公开日】2014年3月26日 申请日期:2013年12月10日 优先权日:2013年12月10日
【发明者】王安娜 申请人:昆山东大智汇技术咨询有限公司