专利名称：纤维复合擦拭布的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种吸尘布，尤其涉及一种吸附尘埃的纤维复合擦拭布。
背景技术：
传统的非织造布也俗称无纺布，它是直接利用高聚物切片、短纤维或长丝将纤维通过气流或机械成网，经过热轧加固，最后经过整理形成的无编织的布料。该类产品的优点是不产生纤维屑、不导电、耐褶皱等，而且还有棉质的感觉。但其缺点在于:1、与纺织布相比强度和耐久性较差；2、不能作为柔软的擦拭布料；3、因纤维按一点方向排列，容易从直角方向裂开。现有的一种擦拭尘埃布是单层针织布(纺织布)，通过针织而成，厚度薄，吸附功能不佳，吸水性差，无法满足半导体、光电、电子行业对无尘、超净、除静电要求。
实用新型内容为解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种具有高效吸附尘埃、除杂物，除静电功能，厚度倍增、吸水性优的纤维复合擦拭布。所采用的技术方案为:一种纤维复合擦拭布，包括两层纤维布，两层所述纤维布通过超声波压制成型固定连接，所述纤维布表面具有纹路，所述纹路由连续排列且不连接的凹点组成。优选地，所述凹点为斜向排列。进一步地， 所述凹点的形状为方形或椭圆形。进一步地，所述凹点在纤维布的分布密度为5-6个/mm2。优选地，所述擦拭布的大小为30mmX30mmX 1mm。本实用新型通过两层纤维布压制而成，在纤维布的表面设置多个连续排列的凹点，增加纤维布的表面积，容纳更多尘埃，高效吸附；而且可以除静电，其吸水性更优。本实用新型除了能用于传统电子、IT行业外，还用于日常家用工艺艺术品，玻璃塑胶纪念品、家用电器等除尘防静电的清洁，能满足电子、制币、医药化工，液晶，半导体芯片制造，光电子，电脑硬盘等IT行业对于清洁布的需要。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本实用新型的结构示意图；图2为本实用新型的生产工艺流程图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的优选的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。参见图1，一种纤维复合擦拭布，包括两层纤维，1，两层所述纤维布I通过超声波压制成型固定连接，所述纤维布表面具有纹路2，所述纹路由连续排列且不连接的凹点3组成。凹点为斜向排列。可以增加擦拭布的抗撕裂。所述凹点的形状为方形或椭圆形。所述凹点在纤维布的分布密度为5-6个/mm2。擦拭布的大小为30_X30_X 1mm。参见图2所示的工艺流程图，本实用新型通过工艺流程批量生产。首先，将两层针织单层通过超声波压焊，然后设计表面结构，如凹点排列方式形成纹路，并通过相应的纹路模具进行成型，生产出带有纹路的双层复合体，然后通过QC检测(即质量检测)合格后即可进行切割成方便使用的尺寸，切割后的小片双层复合体经净化清洗后真空包装，即可成品入库。本实用新型除了能用于传统电子、IT行业外，还用于日常家用工艺艺术品，玻璃塑胶纪念品、家用电器等除尘防静电的清洁。以上所述的仅是本实用新型的优选的实施方式，并不是用于限定本实用新型，对于本领域的普通技术人员所作的等同变化，如凹点的排列方式，凹点在纤维布分布的密度等，均视为落在本实用新型的保 护范围内。
权利要求1.一种纤维复合擦拭布，其特征在于，包括两层纤维布，两层所述纤维布通过超声波压制成型固定连接，所述纤维布表面具有纹路，所述纹路由连续排列且不连接的凹点组成。
2.如权利要求1所述的纤维复合擦拭布，其特征在于:所述凹点为斜向排列。
3.如权利要求2所述的纤维复合擦拭布，其特征在于:所述凹点的形状为方形或椭圆形。
4.如权利要求3所述的纤维复合擦拭布，其特征在于:所述凹点在纤维布的分布密度为 5_6 个 /mm2。
5.如权利要求4所述的纤维复合擦拭布，其特征在于:所述擦拭布的大小为30mmX 30mmX Im m0
专利摘要本实用新型提出了一种纤维复合擦拭布，包括两层纤维布，两层所述纤维布通过超声波压制成型固定连接，所述纤维布表面具有纹路，所述纹路由连续排列且不连接的凹点组成。本实用新型具有高效吸附尘埃、除杂物，除静电功能，厚度倍增、吸水性优。
文档编号B32B3/30GK203089015SQ20132007748
公开日2013年7月31日 申请日期2013年2月19日 优先权日2013年2月19日
发明者陈燕存 申请人:厦门市捷瑞静电设备有限公司