一种高透光抗冲击保护膜的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及保护膜【技术领域】，尤其涉及一种高透光抗冲击保护膜，该保护膜包括主膜层，所述主膜层上表面设置有软胶层，软胶层上表面设置有抗冲击层。本实用新型在主膜层的一个表面涂布一层软胶层，并在软胶层上面涂布一层抗冲击层，抗冲击层的表面硬度高达3-5H，一定程度上除增加保护膜的硬度外，还具有较高透光率，本实用新型的保护膜的透光率可达92%以上，抗冲击压强为1.5x103帕斯卡，屏幕没有破损，相当于1.6KG力度冲击1平方毫米的屏幕所产生压强，抗冲击压强为104帕斯卡，屏幕虽严重破碎，但是没有屏幕碎片溅出。
【专利说明】一种高透光抗冲击保护膜
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及保护膜【技术领域】，尤其涉及一种高透光抗冲击保护膜。
【背景技术】
[0002]随着电子产品科技的快速发展，使更多的人拥有了电子产品，保护膜不但能美容电子产品，而且能延长电子产品寿命，因此，更多消费者愿意使用保护膜。
[0003]市场上用于手持移动电话、平板电脑和触控信息终端屏幕的保护膜种类繁多，但仅仅是用于防刮花，功能单一，对于苛刻条件下的损伤起不到保护作用，如当人们使用手持移动电话时，难免会出现屏幕被碰撞、被金属物刮擦、甚至屏幕朝下摔向地面等意外情况发生，现有的保护膜却难以起到此类特殊保护作用。因此，市场上亟需提供一种透光效果好，抗冲击性能强，遇到激烈碰撞不易破损且能有效保护屏幕的保护膜。
实用新型内容
[0004]本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种高透光抗冲击保护膜，具有高透光、抗冲击性能好的优点。
[0005]本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的。
[0006]一种高透光抗冲击保护膜，包括主膜层，所述主膜层上表面设置有软胶层，软胶层上表面设置有抗冲击层，所述保护膜还包括有上护膜层和下护膜层，所述抗冲击层和所述上护膜层之间设置有第一胶层，所述主膜层下表面与所述下护膜层之间设置有第二胶层。
[0007]其中，所述抗冲击层的厚度为5μπι?ΙΟμπι。
[0008]其中，所述软胶层的厚度为5 μ m?10 μ m。
[0009]其中，所述主膜层的厚度为ΙΟΟμπι?200μπι。
[0010]其中，所述上护膜层的厚度为50μπι?ΙΟΟμπι。
[0011]其中,所述第一胶层的厚度为5 μ m?15 μ m。
[0012]其中，所述第二胶层的厚度为5 μ m?30 μ m。
[0013]其中，所述下保护层的厚度为50 μ m?100 μ m。
[0014]其中，所述上护膜层、所述下护膜层和所述主膜层均为PET材料层。
[0015]本实用新型的有益效果为:在主膜层的一个表面涂布一层软胶层，并在软胶层上面涂布一层抗冲击层，抗冲击层的表面硬度高达3-5H，一定程度上除增加保护膜的硬度外，还具有较高透光率，本实用新型的保护膜的透光率可达92%以上，抗冲击压强为1.5xl03帕斯卡，屏幕没有破损，相当于1.6KG力度冲击I平方毫米的屏幕所产生压强，抗冲击压强为IO4帕斯卡，屏幕虽严重破碎，但是没有屏幕碎片溅出。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1为本实用新型的剖面结构示意图。
[0017]附图标记包括:[0018]I—上护膜层2—主膜层
[0019]3—下护膜层4—第一胶层
[0020]5——抗冲击层6——软胶层
[0021]7—第二胶层。
【具体实施方式】
[0022]下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明，如图1所示。
[0023]实施例1。
[0024]一种高透光抗冲击保护膜，包括主膜层2，所述保护膜还包括有上护膜层I和下护膜层3，所述主膜层2上表面设置有软胶层6，软胶层6上表面设置有抗冲击层5，所述抗冲击层5和所述上护膜层I之间设置有第一胶层4，所述主膜层2下表面与所述下护膜层3之间设置有第二胶层7。
[0025]第一胶层4与抗冲击层5贴合，使用前起保护抗冲击层5的作用，在主膜层2下表面设置第二胶层7，第二胶层7下表面设置下护膜层3，使用前起保护第二胶层7的作用，使用时，将下护膜层3撕开，即可将本实用新型的高透光抗冲击保护膜转移到所需使用的屏幕上，使用简单。
[0026]在主膜层的一个表面涂布一层软胶层，并在软胶层上面涂布一层抗冲击层，抗冲击层的表面硬度高达3-5H，一定程度上除增加保护膜的硬度外，还具有较高透光率，本实用新型的保护膜的透光率可达92%以上，抗冲击压强为1.5xl03帕斯卡，屏幕没有破损，相当于1.6KG力度冲击I平方毫米的屏幕所产生压强，抗冲击压强为IO4帕斯卡，屏幕虽严重破碎，但是没有屏幕碎片溅出。
`[0027]其中，所述抗冲击层5的厚度为5 μ m，所述软胶层6的厚度为5 μ m，所述主膜层2的厚度为100 μ m,所述上护膜层I的厚度为50 μ m,所述第一胶层4的厚度为5 μ m,所述第二胶层7的厚度为5 μ m,所述下保护层的厚度为50 μ m。
[0028]一种高透光抗冲击保护膜的制备方法，包括以下加工步骤:
[0029]步骤A、取主膜，在主膜的表面采用不锈钢刮刀涂布方式涂布软胶层6的胶质材料，经UV光固化后，使主膜表面形成一软胶层6。
[0030]步骤B、在软胶层6的表面采用不锈钢刮刀涂布方式涂布抗冲击层5的胶质材料，经UV光固化后,使软胶层6表面形成一抗冲击层5。
[0031]步骤C、在抗冲击层5的表面采用逗号式刮刀涂布方式涂布第一胶层4的胶水材料，然后取上层护膜粘贴在胶水材料上，烘干，使上层护膜固定在抗冲击层5表面。
[0032]步骤D、在主膜的另一表面采用逗号式刮刀涂布方式涂布第二胶层7的胶水材料，然后取下层护膜粘贴在胶水材料上，烘干，使下层护膜固定在主膜的另一表面，制得高透光抗冲击保护膜。
[0033]其中，所述上护膜层1、所述下护膜层3和所述主膜层2均为PET材料层，PET材料具有吸收能量起到一定缓冲压力的性质，透光率高，雾度低。
[0034]实施例2。
[0035]本实施例与实施例1的不同之处在于，本实施例的所述抗冲击层5的厚度为8 μ m，所述软胶层6的厚度为8 μ m,所述主膜层2的厚度为150 μ m,所述上护膜层I的厚度为75 μ m,所述第一胶层4的厚度为10 μ m,所述第二胶层7的厚度为20 μ m,所述下保护层的厚度为75 μ m。
[0036]本实施例的其余部分与实施例1相同，这里不再赘述。
[0037]实施例3。
[0038]本实施例与实施例1的不同之处在于，本实施例的所述抗冲击层5的厚度为10 μ m,所述软胶层6的厚度为10 μ m,所述主膜层2的厚度为200 μ m,所述上护膜层I的厚度为100 μ m,所述第一胶层4的厚度为15 μ m,所述第二胶层7的厚度为30 μ m,所述下保护层的厚度为ΙΟΟμπι。
[0039]本实施例的其余部分与实施例1相同，这里不再赘述。
[0040]以上所述实施方式，只是本实用新型的较佳实施方式，并非来限制本实用新型实施范围，故凡依本实用新型申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括本实用新型专利申请范围内。
【权利要求】
1.一种高透光抗冲击保护膜，包括主膜层，其特征在于:所述主膜层上表面设置有软胶层，软胶层上表面设置有抗冲击层，所述保护膜还包括有上护膜层和下护膜层，所述抗冲击层和所述上护膜层之间设置有第一胶层，所述主膜层下表面与所述下护膜层之间设置有第二胶层。
2.根据权利要求1所述的一种高透光抗冲击保护膜，其特征在于:所述抗冲击层的厚度为 5 μ m ~ 10 μ m。
3.根据权利要求1所述的一种高透光抗冲击保护膜，其特征在于:所述软胶层的厚度为 5 μ m ?10 μ m0
4.根据权利要求1所述的一种高透光抗冲击保护膜，其特征在于:所述主膜层的厚度为 100 μ m ?200 μ m。
5.根据权利要求1所述的一种高透光抗冲击保护膜，其特征在于:所述上护膜层的厚度为 50 μ m ?100 μ m。
6.根据权利要求1所述的一种高透光抗冲击保护膜，其特征在于:所述第一胶层的厚 5 μ m ~ 15 μ m。
7.根据权利要求1所述的一种高透光抗冲击保护膜，其特征在于:所述第二胶层的厚度为5 μ m?30 μ m。
8.根据权利要求1所述的一种高透光抗冲击保护膜，其特征在于:所述下保护层的厚度为 50 μ m ?100 μ m。
9.根据权利要求1所述的一种高透光抗冲击保护膜，其特征在于:所述上护膜层、所述下护膜层和所述主膜层均为PET材料层。
【文档编号】B32B33/00GK203580273SQ201320741932
【公开日】2014年5月7日 申请日期:2013年11月22日 优先权日:2013年11月22日
【发明者】陈克勇, 朱文峰, 杨忠芝, 吴建海, 虞礼森, 齐东东 申请人:东莞市纳利光学材料有限公司, 深圳比科斯电子股份有限公司