一种无拈纺纱用并条机的导向机架的制作方法

文档序号:15724905发布日期:2018-10-23 15:53阅读:226来源:国知局

本实用新型涉及并条机技术领域,尤其涉及一种无拈纺纱用并条机的导向机架。



背景技术:

并条机的作用是改善条子的内部结构,从而提高其长片段均匀度,同时降低重量不匀率,使条子中的纤维伸直平行,减少弯钩,使细度符合规定,使不同种类或不同品质的原料混和均匀,达到规定的混和比。但一些待进行并条的棉条的宽度之间存在一定的差距,所以在并条机上一般会设有一个导条架来处理棉条的宽度差。不同规模的并条机往往配置了不同个数的导条筒,一种规格的导向机架往往不能满足正常需要,若更换导条架则浪费了生产成本,而且导条要穿过较高的导条架时,往往会克服不了它自身的重力而造成意外伸长或断头,使生产不正常,产品质量不稳定。



技术实现要素:

为解决上述技术问题,本实用新型提供一种无拈纺纱用并条机的导向机架。

本实用新型采用如下技术方案:

一种无拈纺纱用并条机的导向机架,包括底座,所述底座上设有支撑柱,所述支撑柱上设有横梁,所述横梁的两侧分别设有导槽,所述导槽的一侧设有若干导条辊,每个所述导条辊内均设有活动辊,所述活动辊可在所述导槽内滑动,所述导条辊包括第一半圈和第二半圈,所述第一半圈和所述第二半圈的一侧铰接连接,所述横梁的上方设有竖梁,所述横梁与所述竖梁固定连接,所述竖梁的两侧设有连接板,所述连接板的顶部设有气缸,所述连接板的底部设有连接杆,所述连接杆与所述第一半圈连接。

优选的,所述活动辊的一侧设有滑块,所述滑块内设有第一磁铁,所述导槽内间隔均匀地设有若干第二磁铁,所述活动辊通过所述滑块在所述导槽内滑动并通过所述第一磁铁和所述第二磁铁固定,所述滑块的一侧设有伸缩杆,所述伸缩杆的端部设有吸盘。

优选的,所述滑块为球形结构,所述导条辊与所述连接杆的底部活动连接。

优选的,所述连接杆可在所述连接板的底部滑动。

优选的,所述竖梁、所述连接板以及所述连接杆均为相互连通的中空结构,所述竖梁的一侧连接有水箱,所述连接杆上设有喷淋头。

本实用新型具有以下有益效果:

1、导条辊内设有活动辊,当有多个导条筒时,可以根据需要将活动辊从导条辊内拉出,适用于不同规模的并条机,提高了工作效率,不用的时候,可以将其收回进导条辊内,减少了占用空间。

2、活动辊和导条辊均可以调节角度,防止条子要穿过较高的导条架时,往往会克服不了它自身的重力而造成意外伸长或断头,使生产不正常,产品质量不稳定的现象发生。

3、在导向机架上设置喷淋头,在导条经过导条辊时,可以向空中喷洒水,防止棉絮、纤维等漂浮在空中。

附图说明

下面结合附图对本实用新型作优选的说明:

图1为本实用新型整体结构示意图;

图2为本实用新型导条辊结构示意图;

图3为本实用新型喷淋头结构示意图;

图中标记为:1、底座;2、支撑柱;3、横梁;4、导槽;5、导条辊;51、第一半圈;52、第二半圈;6、活动辊;7、竖梁;8、连接板;9、气缸;10、连接杆;11、滑块;12、伸缩杆;13、吸盘;14、水箱;15、喷淋头。

具体实施方式

如图1至图3所示,为本实用新型的一种无拈纺纱用并条机的导向机架,包括底座1,底座1上设有支撑柱2,支撑柱2上设有横梁3,横梁3的两侧分别设有导槽4,导槽4的一侧设有若干导条辊5,每个导条辊5内均设有活动辊6,活动辊6可在导槽4内滑动,导条辊5包括第一半圈51和第二半圈52,第一半圈51和第二半圈52的一侧铰接连接,横梁3的上方设有竖梁7,横梁3与竖梁7固定连接,竖梁7的两侧设有连接板8,连接板8的顶部设有气缸9,连接板8的底部设有连接杆10,连接杆10与第一半圈51连接。

工作时,由气缸9带动连接板8向上移动,从而将第一半圈51和第二半圈52打开,此时可根据需要的个数,将活动辊6从导条辊5内拉出,并且固定在导槽4上,具体的,活动辊6的一侧设有滑块11,滑块11内设有第一磁铁,导槽4内间隔均匀地设有若干第二磁铁,活动辊6通过滑块11在导槽4内滑动并通过第一磁铁和第二磁铁固定,滑块11的一侧设有伸缩杆12,伸缩杆12的端部设有吸盘13,设置伸缩杆12和吸盘13可以将相邻的活动辊6连接,从而可以一起拉出。

作为优选的,滑块11为球形结构,导条辊5与连接杆10的底部活动连接,可以调节活动辊6和导条辊5的角度,防止条子要穿过较高的导条架时,往往会克服不了它自身的重力而造成意外伸长或断头,使生产不正常,产品质量不稳定的现象发生。

连接杆10可在连接板8的底部滑动,可以调节导条辊5之间的间隔宽度。

竖梁7、连接板8以及连接杆10均为相互连通的中空结构,竖梁7的一侧连接有水箱14,连接杆10上设有喷淋头15,在导条经过导条辊5时,可以向空中喷洒水,防止棉絮、纤维等漂浮在空中,从而可以保护工作环境。

以上仅为本实用新型的具体实施例,但本实用新型的技术特征并不局限于此。任何以本实用新型为基础,为解决基本相同的技术问题,实现基本相同的技术效果,所作出的简单变化、等同替换或者修饰等,皆涵盖于本实用新型的保护范围之中。

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