专利名称：热可成像元件中的烧蚀作用最小化的制作方法
技术领域：
本发明涉及平版印刷(lithographic printing)。更尤其，本发明涉及用作平版印刷板前体的多层热可成像元件，所述前体可用含水碱性显影剂热成像和处理。
背景技术：
在平版印刷中，称作图像区的油墨接受区域在亲水表面上产生。如果该表面被水润湿并施用油墨，则亲水区域保留水并排斥油墨，而油墨接受区域接受油墨并排斥水。油墨被转移至材料表面，图像将在该表面上被复制。通常，油墨首先转移至中间覆盖层，然后中间覆盖层将油墨转移至材料表面，图像将在该表面上被复制。
用作平版印刷板的可成像元件也称作印刷板前体，它通常包括施用到基材的亲水表面上的可成像层。该可成像层包括一种或多种可分散在合适的粘结剂中的射线敏感组分。或者，射线敏感组分也可以是粘结剂。
用作平版印刷板前体的热可成像元件避免了对通过光罩曝光的需求，因此在印刷工业上变得日益重要。在以成像方式热曝光之后，显影剂在正性元件中去除曝光区域的速率大于去除未曝光区域的速率，这样显影剂去除曝光区域，形成图像。这些体系公开于例如Parsons的WO97/39894和U.S.6,280,899；Nagasaka的EP 0 823 327；Miyake的EP 0909 627；West的WO 98/42507；和Nguyen的WO 99/1145。
使用平版印刷板的难题之一是可成像层在成像过程中的烧蚀(ablation)。在成像过程中由这些板烧蚀的材料聚集在称作板调节器的成像设备的透镜、光学镜片和聚焦设备上。合理使用一段时间之后，该板调节器可具有覆盖主要聚焦透镜的烧蚀材料薄膜。由此发生成像错误。因此，板调节器必须经常清洁，以防止这些错误。
所用板设计成曝光烧蚀的板调节器具有强力的“真空清洁器”和过滤系统。使用者因为其成本、噪音和尺寸而不喜欢这些机器。随着热可成像元件的敏感性的增加，烧蚀的可能性增加。
因此，需要一种具有较少烧蚀作用以减少板调节器的清洁并降低其成本、噪音和尺寸的可成像元件。
发明内容
本发明是一种在热成像时具有较少烧蚀作用的、用作印刷板前体的正性热可成像元件。该元件包括(a)亲水基材；(b)底层，(c)阻挡层；和，(d)顶层；其中顶层包含第一聚合材料；底层包含第二聚合材料；阻挡层包含第三聚合材料；顶层是油墨接受性的，且不溶于碱性显影剂；顶层、阻挡层和底层分别在该元件热曝光之后通过碱性显影剂去除；底层包含光热转化材料；和阻挡层和顶层基本上没有光热转化材料。
除非另有所指，在说明书和权利要求书中，术语“第一聚合材料”、“第二聚合材料”、“第三聚合材料”、“光热转化材料”、“溶解抑制剂”、“红外吸收剂”和类似术语也是指这些材料的混合物。
本发明是一种热可成像元件。该元件包括亲水基材、底层、阻挡层和顶层。底层包含光热转化材料。
亲水基材亲水基材(即包括至少一个亲水表面的基材)包括载体，它可以是常用于制备用作平版印刷板的可成像元件的任何材料。该载体优选为强力的、稳定的和柔性的。它应该在使用条件下抗得住尺寸变化，这样颜色记录可记录在全色图像中。通常，它可以是任何自支撑的材料，包括例如聚合膜，如聚对苯二甲酸乙二酯膜、陶瓷、金属或硬纸，或任何这些材料的层压品。金属载体包括铝、锌、钛和其合金。
铝载体的表面可通过本领域已知的技术，包括物理糙化、电化学糙化、化学糙化和阳极化进行处理。基材应该具有足够的厚度，以经受印刷磨损，并足够薄以包裹印刷型式，通常为约100-约600μm。
通常，基材包括在铝载体和可成像层之间的中间层。中间层可通过用例如硅酸盐、糊精、六氟硅酸、磷酸盐/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)或聚乙烯基膦酸共聚物处理载体而形成。
底层底层在亲水基材的亲水表面和吸收剂层之间。成像之后，它在成像区域中与吸收剂层和顶层一起被显影剂去除，暴露出基材的下层亲水表面。它优选可溶于显影剂，以防显影剂的淤积。
底层包含第二聚合材料。第二聚合材料优选可溶于含水碱性显影剂。另外，如果第二聚合材料和第三聚合材料不同，则第二聚合材料优选不溶于用于涂覆阻挡层的溶剂，这样阻挡层可覆盖在底层上而不溶解底层。第二聚合材料也优选不溶于用于涂覆顶层的溶剂，这样顶层可涂覆在底层上而不溶解底层。
用作第二聚合材料的聚合材料包括包含酸和/或苯酚官能度的那些，以及这些材料的混合物。有用的聚合材料包括羧基官能丙烯酸类、乙酸乙烯酯/巴豆酸酯/新葵酸乙烯基酯共聚物、苯乙烯马来酸酐共聚物、酚醛树脂、马来酸酯化木松香和其组合。
耐溶剂性底层公开于Shimazu的WO 01/46318。尤其有用的聚合材料是共聚物，其包括聚合形式的N-取代马来酰亚胺类，尤其是N-苯基马来酰亚胺；甲基丙烯酰胺类，尤其是甲基丙烯酰胺；和丙烯酸和/或甲基丙烯酸，尤其是甲基丙烯酸。更优选两个官能团存在于该聚合材料，和最优选所有三个官能团存在于该聚合材料。优选的这种聚合材料是N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸的共聚物，更优选包括聚合形式的约25-约75mol％、优选约35-约60mol％N-苯基马来酰亚胺；约10-约50mol％、优选约15-约40mol％甲基丙烯酰胺；和约5-约30mol％、优选约10-约30mol％甲基丙烯酸的那些。其它的亲水单体如甲基丙烯酸羟乙酯可用于替代一些或所有的甲基丙烯酰胺。其它的含水碱可溶单体，如丙烯酸，可用于替代一些或所有的甲基丙烯酸。
这些聚合材料可溶于含水碱性显影剂。另外，它们可溶于乳酸甲酯、二乙基酮和水的约50∶40∶10wt％混合物；乳酸甲酯、二乙基酮、丁内酯和水的约50∶25∶15∶10wt％混合物；和乳酸甲酯/甲醇/二氧戊环的约15∶42.5∶42.5wt％混合物。这些和类似混合物可用作底层的涂覆溶剂。但它们在溶剂如丙酮、异丙醇、乙酸丁酯和丁醇中可溶性差，所述溶剂可用作涂覆底层上的顶层而不溶解底层的溶剂。这些聚合材料通常耐80wt％二丙酮醇/20wt％水的洗涤。
另一组用于第二聚合材料的优选聚合材料是公开于Ishizuka的U.S.5,731,127的含水碱性显影剂可溶共聚物，它以聚合形式包含在其侧链中具有脲键(即侧脲基团)的单体。这些共聚物包含约10-80wt％、优选约20-80wt％的表示为以下通式的一种或多种单体CH2＝C(R)-CO2-X-NH-CO-NH-Y-Z其中R是-H或-OH3；X是二价键接基团；Y是取代的或未取代的二价芳族基团；和Z是-OH、-COOH或-SO2NH2。
R优选为-CH3。优选X是取代的或未取代的亚烷基基团、取代的或未取代的亚苯基[C6H4]基团或取代的或未取代的萘基[C10H6]基团；如-(CH2)n-，其中n是2-8；1，2-、1，3-和1，4-亚苯基；以及1，4-、2，7-和1，8-萘。更优选X是未取代的，和甚至更优选的是n为2或3；最优选X是-(CH2CH2)-。优选Y是取代的或未取代的亚苯基基团或取代的或未取代的萘基团；如1，2-、1，3-和1，4-亚苯基；以及1，4-、2，7-和1，8-萘。更优选Y是未取代的，最优选未取代的1，4-亚苯基。Z是-OH、-COOH或-SO2NH2，优选-OH。优选的单体是CH2＝C(CH3)-CO2-CH2CH2-NH-CO-NH-p-C6H4-Z其中Z是-OH、-COOH或-SO2NH2，优选-OH。
在合成共聚物时，可以使用一种或多种包含脲基团的单体。该共聚物也包含20-90wt％的其它的可聚合单体，如马来酰亚胺、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺。除了丙烯酰胺和/或甲基丙烯酰胺还包含超过60mol％且不超过90mol％的丙烯腈和/或甲基丙烯腈的共聚物提供优异的物理性能。更优选碱可溶共聚物包含30-70wt％的包含脲基团的单体；20-60wt％丙烯腈或甲基丙烯腈，优选丙烯腈；和5-25wt％丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺，优选甲基丙烯酰胺。
上述聚合材料可溶于含水碱性显影剂。另外，它们可溶于用作底层涂覆溶剂的极性溶剂，如乙二醇单甲基醚。但它们在不太极性的溶剂的溶剂如2-丁酮(甲基乙基酮)中溶解性差，所述溶剂可用作涂覆底层上的顶层而不溶解底层的溶剂。
这两种聚合材料可通过本领域熟练技术人员熟知的方法如自由基聚合反应而制成。在其侧链中具有脲键的含水碱可溶共聚物的合成公开于例如Ishizuka的U.S.5,731,127。
其它的含水碱性显影剂可溶聚合材料可用于底层。可以使用包含N-取代的环状酰亚胺部分的甲基乙烯基醚/马来酸酐共聚物的衍生物和包含N-取代的环状酰亚胺部分的苯乙烯/马来酸酐共聚物的衍生物，只要它们具有所需溶解度特性。这些共聚物可通过马来酸酐共聚物与胺，如对氨基苯磺酰胺或对氨基苯酚反应，随后用酸闭环而制成。
可用于底层的另一组聚合材料包括含水碱性显影剂可溶共聚物，它包含聚合形式的约10-90mol％磺酰胺单体单元，尤其是包含N-(对氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(间氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(邻氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺和/或相应的丙烯酰胺的那些。包含侧磺酰胺基团的有用的碱性显影剂可溶聚合材料公开于Aoshima的U.S.5,141,838中。尤其有用的聚合材料包含聚合形式的(1)磺酰胺单体单元，尤其是N-(对氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺；(2)丙烯腈和/或甲基丙烯腈；和(3)甲基丙烯酸甲酯和/或丙烯酸甲酯。
碱性显影剂可溶聚合材料的组合可用于底层，以提高耐化学性，即，对润版溶液(fountain solution)和侵蚀性洗涤两者的耐性。通过将测试对UV洗涤耐性的耐80wt％二丙酮醇/20wt％水的聚合材料与测试对醇辅助润版溶液耐性的耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水的聚合材料结合，可惊人地得到对这两种溶剂混合物都具有良好耐性的层。优选地，该层具有(1)低于约20％、更优选低于约10％和最优选低于约5％的在80wt％二丙酮醇/20wt％水中的一分钟浸渍损失，和(2)低于约20％、更优选低于约10％和最优选低于约10％的在80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水中的一分钟浸渍损失。一分钟浸渍损失这样测定通常以涂覆重量约1.5g/m2涂覆该层，将涂覆基材在室温下在合适的溶剂中浸渍一分钟，干燥该涂覆基材，然后测定存在于基材上的聚合材料的总重的百分重量损失。
底层经受润版溶液和侵蚀性洗涤的能力可通过定义如下的耐化学性参数(CRP)评估CRP＝[(100-a)(100-b)]/104
其中a是在80wt％二丙酮醇/20wt％水中的一分钟％浸渍损失；和b是在80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水中的一分钟％浸渍损失。
耐化学性参数应该大于约0.4，优选大于约0.5，和更优选大于约0.6。在有利的情况下，可得到至少约0.65的耐化学性参数。在每种溶剂中的一分钟浸渍损失应该低于约60％，优选低于约40％，和更优选低于约35％。优选地，在一种溶剂中的一分钟浸渍损失应该低于约60％，优选低于约40％，和更优选低于约35％，并在另一溶剂中低于约40％，更优选低于约30％；和更优选低于约20％，和最优选低于约10％。
(1)包含N-取代的马来酰亚胺类，尤其是N-苯基马来酰亚胺；甲基丙烯酰胺类，尤其是甲基丙烯酰胺；和丙烯酸和/或甲基丙烯酸，尤其是甲基丙烯酸的共聚物(2)与在其侧链中包含脲的碱可溶共聚物或与包含10-90mol％磺酰胺单体单元的碱可溶共聚物，尤其是包含N-(对氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(间氨基磺酰基苯基甲基丙烯酰胺、N-(邻氨基磺酰基苯基)甲基丙烯酰胺和/或相应的丙烯酰胺的那种的组合是特别有利的。一种或多种其它的聚合材料如酚醛树脂也可存在于组合物中。如果存在，优选的其它的聚合材料是酚醛清漆树脂。
如果结合使用聚合材料，基于这些聚合材料在底层中的总重，底层通常包含约10％-约90％重量的耐80wt％二丙酮醇/20wt％水的聚合材料，和约10％-约90％重量的耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水的聚合材料。优选底层包含约40％-约85％重量的耐80wt％二丙酮醇/20wt％水的聚合材料和约15％-约60％的耐80wt％2-丁氧基乙醇/20wt％水的聚合材料，基于第一和第二聚合材料在底层中的总重。这些聚合材料通常共同占底层的至少约50wt％，优选至少约60wt％，和更优选至少约65wt％，基于材料在底层中的总重。最高约20wt％、优选约1-约20wt％的其它的聚合材料可存在于底层，基于所有的聚合材料在底层中的总量。
底层吸收射线，优选在约800nm-1200nm范围内的射线，所述范围的射线常用于成像热可成像元件。有时称作“光热转化材料”的吸收剂或吸收剂的混合物存在于底层。光热转化材料吸收射线并将它转化成热。光热转化材料可吸收紫外、可见和/或红外辐射并将其转化成热。
光热转化材料通过底层和顶层之间施用的阻挡层而防止由底层扩散至顶层。阻挡层防止光热转化材料由底层迁移至顶层，并因此在底层中包含否则会迁移至顶层的光热转化材料。
光热转化材料是一种染料，如squarylium、部花菁、中氮茚、吡喃鎓或金属diothiolene类的染料。优选可溶于含水碱性显影剂的染料，以防止显影剂因不可溶材料而淤积。染料可选自例如靛苯胺染料、氧杂菁(oxonol)染料、卟啉衍生物、蒽醌染料、部苯乙烯基(merostyryl)染料、吡喃鎓化合物和sqarylium衍生物。吸收性染料公开于本领域的许多出版物和专利申请中，例如，Nagasaka，EP 0,823,327；VanDamme，EP 0,908,397；DeBoer，U.S.4,973,572；Jandrue，U.S.5,244,771；和Chapman，U.S.5,401,618。有用的吸收性染料的例子包括ADS-830 WS和ADS-1064(两者得自American Dye Source，Montreal，加拿大)，EC2117(得自FEW，Wolfen，德国)，Cyasorb IR 99和Cyasorb IR165(两者得自Glendale Protective Technology)，Epolite IV-62B和Epolite III-178(两者得自Epoline)，PINA-780(得自AlliedSignal Corporat ion)，SpectraIR 830A和SpectraIR 840A(两者得自Spectra Colors)。
本领域技术人员熟知，吸收特定量的射线所需的吸收剂的量可利用比尔定律根据吸收层的厚度、吸收剂在该层中的浓度和吸收剂在成像波长的消光系数确定。通常底层的涂覆重量是约2.0g/m2。
阻挡层阻挡层在底层和顶层之间。阻挡层在底层(包含光热转化材料)和顶层之间提供缓冲区域，以减少和防止光热转化材料扩散到顶层中。
阻挡层包含可溶于含水碱性显影剂的第三聚合材料。如果第三聚合材料不同于第二聚合材料，则它优选可溶于至少一种第二有机聚合材料不溶于其中的有机溶剂。第三聚合材料可选自描述为第二聚合材料的聚合材料。除了这些，优选的第三聚合材料是聚乙烯基醇。
第三聚合材料可以与第二聚合材料相同。在这种情况下，尽管阻挡层包含与底层相同的聚合材料，但阻挡层作为一种基本上没有光热转化材料的材料而施用。
如果第三聚合材料与第二聚合材料相同，则阻挡层应该足够厚，以防光热转化材料在涂覆工艺过程中与其混合。阻挡层应该至少为底层厚度的一半，和更优选与底层一样厚。
如果第三聚合材料不同于第二聚合材料，可以使用明显更薄的层。在这些条件下使用厚层对成像元件的分辨率产生不利影响。阻挡层应该低于底层厚度的约1/5，优选低于底层厚度的约1/10。
顶层顶层是油墨接受性的并保护一个或多个下方层使其不受显影剂影响。它在成像之前不溶于含水碱性显影剂。但顶层的曝光(即成像)区域可在热曝(即热成像)之后通过含水碱性显影剂而去除。尽管不局限于任何理论或解释，但据信热曝引起顶层更容易溶解或分散在含水显影剂中和/或减弱顶层和阻挡层之间的键接。这使得显影剂透过顶层、阻挡层和底层，并在曝光区域中溶解阻挡层和底层，暴露出亲水基材的下方亲水表面。
顶层包含第一聚合材料。第一聚合材料可不溶于含水碱性显影剂。当显影剂在曝光区域中透过顶层并在这些区域中溶解或分散一个或多个下方层时，它被去除并分散在显影剂中。这种类型的有用的聚合物包括丙烯酸聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸共聚物；聚酯；聚酰胺；聚脲；聚氨酯；硝基纤维素；环氧树脂；和其组合。优选的这种聚合物是聚甲基丙烯酸甲酯、硝基纤维素和聚苯乙烯。
顶层可以是正性的光可成像组合物。在这种情况下，顶层的曝光区域在热曝之后变得更容易溶解在含水碱性显影剂中。
正性的光可成像组合物是熟知的。它们例如讨论于PhotoreactivePolymersScience and Technology of Resists的第5章，A.Reiser，Wiley，New York，1989，第178-225页。这些组合物包含一种为水不溶、碱可溶粘结剂的第一聚合材料以及包含光敏部分的材料。光敏部分可键接到第一聚合材料上和/或存在于单独的化合物中。
包含苯酚羟基基团的聚合物、即酚醛树脂是优选的。优选第一聚合材料是光稳定的、水不溶、碱性显影剂可溶的成膜聚合材料，它具有在聚合物主链上或在侧基团上的多个酚羟基基团。苯酚基团赋予顶层以含水碱性显影剂溶解度，而且还据信与溶解抑制剂形成热易碎的配合物。酚醛清漆树脂、可熔酚醛树脂、包含侧苯酚基团的丙烯酸树脂和聚乙烯基苯酚树脂是优选的酚醛树脂。酚醛清漆树脂是更优选的。
酚醛清漆树脂是市售的且为本领域技术人员所熟知。它们通常通过酚如苯酚、间甲酚、邻甲酚、对甲酚等与醛如甲醛、低聚甲醛、乙醛等或酮如丙酮在酸催化剂存在下的缩合反应而制成。重均分子量是通常约1,000-15,000。典型的酚醛清漆树脂包括例如苯酚-甲醛树脂、甲酚-甲醛树脂、苯酚-甲酚-甲醛树脂、对-叔丁基苯酚-甲醛树脂和连苯三酚-丙酮树脂。尤其有用的酚醛清漆树脂通过将间甲酚，间甲酚和对甲酚的混合物或苯酚与甲醛在常规条件下反应而制成。
可用作第一聚合材料的其它的酚醛树脂包括具有苯酚羟基基团的聚乙烯基化合物。这些化合物包括例如聚羟基苯乙烯和包含羟基苯乙烯重复单元的共聚物，以及包含取代的羟基苯乙烯重复单元的聚合物和共聚物。第一聚合材料也可以是具有侧磺酰胺基团的水不溶、碱可溶聚合化合物，例如描述于Aoshima的U.S.5,141,838(EP 330,239)。
光敏部分通常是邻重氮萘醌部分。包含邻重氮萘醌部分(即醌二叠氮化物)的化合物、最好是包含连接到具有分子量至少1500、但低于约5000的压重部分上的邻重氮萘醌部分的化合物是优选的。通常，这些化合物通过在4-或5-位上具有卤磺酰基基团、通常为磺酰氯基团的1，2-萘醌二叠氮化物与单-或多羟基苯基化合物如单-或多羟基二苯酮的反应而制成。
聚合重氮萘醌化合物包括通过将包含重氮萘醌部分的反应性衍生物和包含合适的反应性基团如羟基或氨基基团的聚合材料进行反应而形成的衍生树脂。适用于形成这些衍生树脂的聚合材料包括酚醛清漆树脂、可熔酚醛树脂、聚乙烯基苯酚、含羟基的单体如羟基苯乙烯的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯共聚物。代表性的反应性衍生物包括重氮萘醌部分的磺酸和羧酸、酯或酰胺的衍生物。酚醛树脂与包含重氮萘醌部分的化合物的衍生反应是本领域熟知的，且描述于例如West的U.S.5,705,308和5,705,322。
一方面，正性的热可成像顶层包含第一聚合材料和溶解抑制剂。这些体系公开于例如Parsons的WO 97/39894和U.S.6,280,899；Nagasaka的EP 0 823 327；Miyake的EP 0 909 627；West的WO 98/42507；和Nguyen的WO 99/11458。第一聚合材料通常是酚醛树脂，如酚醛清漆树脂。
可用于溶解抑制剂的极性基团包括例如重氮基团；重氮鎓基团；酮基团；磺酸酯基团；磷酸酯基团；三芳基甲烷基团；鎓基团，如锍，碘鎓，和鏻；其中氮原子被引入杂环的基团；和包含带正电荷的原子、尤其是带正电荷的氮原子、通常是季铵化氮原子即铵基团的基团。包含其它的极性基团如醚、胺、偶氮、硝基、二茂铁鎓、亚砜、砜和二砜的化合物也可用作溶解抑制剂。具有重复缩醛或缩酮基团的单体或聚合缩醛、具有至少一种原羧酸酯或酰胺基团的单体或聚合原羧酸酯、烯醇醚、N-酰基亚氨基碳酸酯、环缩醛或缩酮、β-酮酯或β-酮酰胺也可用作溶解抑制剂。
可用作溶解抑制剂的包含带正电荷的(即季铵化的)氮原子的化合物包括例如四烷基铵化合物、喹啉鎓化合物、苯并噻唑鎓化合物、吡啶鎓化合物、和咪唑鎓化合物。
季铵化杂环化合物可用作溶解抑制剂。代表性咪唑鎓化合物包括Monazoline C、Monazoline O、Monazoline CY和Monazoline T，所有这些都由Mona Indus tries制造。代表性喹啉鎓溶解抑制剂包括1-乙基-2-甲基喹啉鎓碘化物、1-乙基-4-甲基喹啉鎓碘化物和包含喹啉鎓部分的菁染料如Quinoldine Blue。代表性苯并噻唑鎓化合物包括3-乙基-2(3H)-亚苯并噻唑基)-2-甲基-1-(丙烯基)苯并噻唑鎓阳离子染料和3-乙基-2-甲基苯并噻唑鎓碘化物。合适的吡啶鎓溶解抑制剂包括鲸蜡基溴化吡啶鎓和乙基紫罗碱(viologen)二阳离子。
重氮鎓盐可用作溶解抑制剂且包括例如取代的和未取代的二苯基胺重氮鎓盐，如甲氧基取代的二苯基胺重氮鎓六氟硼酸盐。这些化合物尤其可用于非预热板。
优选种类的溶解抑制剂是三芳基甲烷染料，如乙基紫、晶体紫、孔雀石绿、亮绿、维多利亚蓝B、维多利亚蓝R和维多利亚蓝BO。这些化合物也可用作对比染料，它能够区别显影的可成像元件中的未成像区域和成像区域。
溶解抑制剂可以是一种包含邻重氮萘醌部分的化合物，例如如下讨论的。包含邻重氮萘醌部分的衍生树脂可同时用作第一聚合材料和溶解抑制剂。它们可单独使用，或它们可与其它的聚合材料和/或溶解抑制剂结合使用。
如果溶解抑制剂存在于顶层，其量可变化较大，但一般至少为约0.1wt％，通常约0.5wt％-约30wt％，优选约1wt％-15wt％，基于该层的总组合物干重。
或者或另外，第一聚合材料本身可包含用作与存在于聚合材料中的羟基基团氢键键接的受体位的极性基团，并因此用作溶解抑制剂的。使用熟知的方法，粘结剂的一部分羟基基团可衍生以引入极性基团，例如羧酸酯，如苯甲酸酯；磷酸酯；醚，如苯基醚；和磺酸盐，如甲基磺酸盐，苯基磺酸盐，对甲苯磺酸盐(甲苯磺酸盐)，和对溴苯基磺酸盐(对溴苯磺酸盐)。用包含重氮萘醌部分的化合物衍生的树脂的一个例子是P-3000，为连苯三酚/丙酮树脂的萘醌二叠氮化物(得自PCAS，法国)。这些衍生的聚合材料可同时用作第二聚合材料和溶解抑制剂。它们可单独用于顶层，或它们可与其它的聚合材料和/或溶解抑制剂结合使用。
或者，顶层可包含第一聚合材料，但不含用作第一聚合材料的溶解抑制剂的材料。在这种情况下，顶层基本上由第一聚合材料组成。这些体系公开于Hauck的美国专利申请系列号09/638,556(递交于2000年8月14日)。这些体系在具有pH至少7-约11的碱性溶液中显影。优选用于这些体系的含水碱性显影剂具有pH约8-约10.5，更优选约9-10，和还更优选约10。pH在13或更高的范围内的显影剂不能用于这些体系。
顶层也可包含染料，以帮助视觉检查曝光的和/或显影的元件。印出染料在处理过程中能够区别曝光区域和未曝光区域。对比染料能够区别显影板中的未成像区域和成像区域。
基本上所有的成像射线应该被底层吸收。尽管顶层可吸收紫外和/或可见射线(如当染料如乙基紫用作溶解抑制剂或当将染料为检查目的而加入顶层时)，但顶层应该基本上没有能够吸收成像射线(通常是在约800nm-约1200nm范围内的红外射线，更通常是在约830nm或在约1056nm的射线)的材料。尤其是，顶层应该基本上没有光热转化材料。
热可成像元件的制备热可成像元件可使用常规涂覆和/或层压方法，通过顺序地将底层施用到亲水基材的亲水表面上，将阻挡层施用到底层上，并随后将顶层施用到阻挡层上而制成。但重要的是避免这些层在该工艺过程中的互混。尤其重要的是，顶层和阻挡层应基本上没有光热转化材料。
底层可通过任何常规方法施用到亲水基材上。通常将各成分分散或溶解在合适的涂覆溶剂中，并将所得混合物通过常规方法如旋涂、杆涂、凹涂或辊涂进行涂覆。阻挡层可通过任何常规方法，如以上列举的那些方法施用到底层上，通常是施用到底层的表面上。术语“溶剂”包括溶剂的混合物，尤其是有机溶剂的混合物。
用于涂覆各层的溶剂的选择取决于第一聚合材料、光热转化材料、第二聚合材料的性质和第三聚合材料(如果存在)以及存在于各层的其它的成分(如果有的话)的性质。如果第二聚合材料和第三聚合材料不同，为了防止在将阻挡层涂覆在底层上时底层溶解和与阻挡层混合，阻挡层优选由一种第二聚合材料基本上不溶于其中的溶剂涂覆。因此，用于阻挡层的涂覆溶剂可以是一种底层的第二聚合材料和其它组分基本上不溶于其中的溶剂。
尽管所用的溶剂取决于聚合材料的性质，但通常第一聚合材料可溶于更极性的溶剂并不溶于不太极性的溶剂，这样用于涂覆阻挡层的溶剂和用于涂覆底层的溶剂与用于涂覆顶层的溶剂相比不太极性。
或者，顶层可涂覆成水分散体，以避免在涂覆工艺过程中溶解底层。或者，底层、阻挡层、顶层或所有的层可通过常规挤塑涂料方法由层组分的熔体混合物施用。通常，这种熔体混合物不含挥发性有机溶剂。
在本发明的其它的方面，用于涂覆顶层和底层的光热转化材料和溶剂可选择使得光热转化材料在顶层直接涂覆到底层面上时不会迁移至顶层。因此，如果将合适的染料用作光热转化材料并由合适的溶剂涂覆顶层，无需阻挡层以防光热转化材料在涂覆步骤过程中移动至顶层。
已经发现，即使不存在阻挡层，当将顶层是涂覆到包含其结构在以下给出的IR染料B，IR染料C，和/或IR染料D的底层上时，顶层保持基本上没有光热转化材料。顶层由二乙基酮，甲基异丁基酮，甲基异丁基酮/甲基乙基酮(约50∶50重量)，甲基乙基酮/甲苯/3-乙氧基丙酸酯(约50∶20∶30重量)，或类似的溶剂涂覆。底层可例如，由乳酸甲酯，二乙基酮，和水的约50∶40∶10wt％混合物；乳酸甲酯，二乙基酮，丁内酯，和水的约50∶25∶15∶10wt％混合物；乳酸甲酯/甲醇/二氧戊环的约15∶42.5∶42.5wt％混合物；或类似溶剂涂覆。
成像和处理热可成像元件的成像可通过熟知的方法进行。元件可由能够发出在底层所吸收的波长区域中的调制的近红外或红外射线的激光器或一排激光器而成像。红外射线，尤其是在约800nm-约1200nm范围内的红外射线常用于热可成像元件的成像。成像适宜使用在约830nm或在约1056nm处发光的激光器进行。合适的市售成像设备包括图像调节器(image setters)如Creo Trendsetter(CREO，British Columbia，加拿大)和Gerber Crescent 42T(Gerber)。
成像产生包含成像(曝光)区域和未成像(未曝光)区域的潜像的成像元件。将成像元件显影形成印刷板或印刷形式，使潜像通过去除曝光区域而转化成图像，暴露出下方基材的亲水表面。
显影剂可以是能够透过并去除顶层的曝光区域、阻挡层的下方区域(如果存在)和底层的下方区域而基本上不影响互补的未曝光区域的任何液体或溶液。尽管不局限于任何理论或解释，但据信热曝对顶层进行改变，使其更可被显影剂所渗透。这使得显影剂更容易地透过顶层并溶解曝光区域中的底层，显影进行足够时间以去除顶层的曝光区域、阻挡层的下方区域(如果存在)和底层的下方区域，但不能足够长以去除顶层的未曝光区域。因此，曝光区域被描述为在显影剂中“可溶”或“可去除”，由于它们与未曝光区域相比可更迅速地在显影剂中被去除和溶解和/或分散。通常，底层溶解在显影剂中，阻挡层溶解或分散在显影剂中，且顶层分散在显影剂中。
对于包含溶解抑制剂的顶层，有用的显影剂是具有pH约7或更高的溶液。优选的碱性显影剂是具有pH约8-约13.5、通常至少约11、优选至少约12的那些。有用的显影剂包括市售显影剂，如PC3000、PC955、PC956和PC9000，其分别为得自Kodak Polychrome Graphics LLC的碱性显影剂。显影剂描述于例如Yamasue，U.S.4,259,434；Seino，U.S.4,452,880；Miller，U.S.5,851,735；Eckler，U.S.5,998,102；Miro，EP-A-0 732 628；Toyama，GB-A-2,276,729(DE-A-4 411 176)；和Fiebag，U.S.6,143,479。
显影通常在配有浸渍型显影浴、用于水漂洗的部分、树胶粘合部分、干燥部分和传导率测量单元的处理器中进行。通常，显影剂通过用包含显影剂的涂布器摩擦或擦拭元件而施用到成像前体上。或者，成像前体可用显影剂刷涂，或可通过以足够去除曝光区域的力将显影剂喷射到该元件上而施用到前体上。在任何情况下，均得到印刷板。显影可在市售处理器如Mercury Mark V处理器(Kodak PolychromeGraphics)中进行。
显影之后，印刷板用水漂洗并干燥。干燥适宜通过红外辐射器或用热空气进行。干燥之后，印刷板可用树胶粘合溶液处理。树胶粘合溶液包含一种或多种水溶性聚合物，例如聚乙烯基醇、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酰胺、聚甲基丙烯酸羟乙酯、聚乙烯基甲基醚、明胶和多糖如葡聚糖、出芽短梗孢糖、纤维素、阿拉伯胶和藻酸。优选的材料是阿拉伯胶。
显影的并树胶粘合的板也可烘烤以增加板的运行时间长度。烘烤可例如在约220℃-约240℃下进行约7-10分钟，或在温度120℃下进行30分钟。
或者，元件可用一种组合的显影和树胶粘合溶液显影，它具有pH约10.0-约14和约10wt％-约30wt％的一种或多种具有结构R1(CHOH)nR2的水溶性聚羟基化合物，其中n是4-7；和(i)R1是氢、芳基或CH2OH；和R2是氢、具有1-4个碳原子的烷基基团、其中R3是氢或具有1-4个碳原子的烷基基团的CH2OR3、其中R4和R5分别独立地为氢或具有1-4个碳原子的烷基基团的CH2N(R4R5)或CO2H，或(ii)R1和R2共同形成碳碳单键。有用的水溶性聚羟基化合物包括例如甘露糖醇、山梨醇、木糖醇和阿糖醇内消旋肌醇、核糖酸、葡糖酸、mammonic酸、古洛糖酸、葡糖胺、N-甲基-葡糖胺和1-脱氧-1-(甲基氨基)-乙基半乳糖。在这种情况下，无需并可省略单独的树胶粘合步骤。
一旦可成像元件已成像并显影，印刷可随后通过将润版溶液和随后的平版印刷油墨施用到元件表面的图像上而进行。润版溶液被成像(曝光)区域吸收，即，亲水基材的表面通过成像和显影工艺而暴露，且油墨被未成像(未曝光)区域吸收。油墨随后直接或使用胶印(offsetPrinting)覆盖层间接转移至合适的接受材料(如布、纸、金属、玻璃或塑料)，在其上产生图像的所需印记。成像元件可根据需要使用常规清洁装置在印记之间清洁。
本发明的有利性能可根据以下用于说明而非限定本发明的实施例观察到。在说明书、实施例和权利要求书中，除非另有所指，所有的百分数都是基于显影剂重量的重量百分数。
具体实施例方式
词表Aerosol OT表面活性剂(Cytec Industries Inc.，WestPater son，NJ，USA)BYK 307 聚乙氧基化二甲基聚硅氧烷共聚物(Byk-Chemie，Wallingford，CT，USA)共聚物A N-苯基马来酰亚胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸(45∶35∶20mol％)的共聚物Cymel-303 六甲氧基甲基蜜胺(AmericanCyanamid，Toronto，Ontario，Canada)乙基紫C.I.42600；CAS 2390-59-2(λmax＝596nm)[(p-(CH3CH2)2NC6H4)3C+Cl-]IR染料B 红外吸收染料(Eastman Kodak，Rochester，NY，USA)IR染料C 红外吸收染料(Eastman Kodak，Rochester，NY，USA)IR染料D 红外吸收染料(Eastman Kodak，Rochester，NY，USA)Nacure 2530 胺封端的对甲苯磺酸(King IndustriesSpecialty Chemicals，Norwalk，CT，USA)AIRVOL103 聚(乙烯基醇)(Air Products，Allentown，PA，USA)SD140A酚醛清漆树脂(Borden Chemical，Columbus，OH，USA)Solvent Blue 35 C.I.61554，CAS 17354-14-2；1，4-双(丁基氨基)-9，10-蒽二酮TRITONX-100 辛苯聚糖-9(octoxynol-9)，乙氧基化烷基苯酚(Rohm & Haas，Philadelphia，PA，USA)IR染料A 红外吸收染料(λmax＝830nm)(EastmanKodak，Rochester，NY，USA)Witco Bond W-240 聚氨酯树脂(Crompton Corp.，Chicago，IL，USA)ZONYLFSN氟表面活性剂(DuPont Canada，Inc.，Specialty Chemicals，Streetville，Mississauga，ON，CANADA) IR染料A IR染料B IR染料C IR染料D实施例1多层可成像元件制备如下。
底层将包含85wt％共聚物A和15wt％IR染料A光热转化材料(5.4wt％总固体)的涂覆溶液涂覆到已电糙化、阳极化和用聚乙烯基膦酸溶液处理的3格基(3gauge)铝片材上。涂覆溶剂是乳酸甲酯/二乙基酮/水(50∶40∶10重量)。涂覆重量是2.0g/m2。
阻挡层阻挡层由分别包含0.1％的ZONYLFSN知Aerosol OT的聚乙烯基醇水溶液涂覆在底层上。制备出三个样品。该层的涂层干重是0.011、0.022和0.054g/m2。
顶层将SD 140A(96.3％)和乙基紫(3.7％)(5.4wt％总固体)的顶层由2-戊酮溶液施用到阻挡层的顶面上。涂覆重量是0.7g/m2。
对比制备出如上具有基材、底层和顶层，但没有阻挡层的对比元件。
光热转化材料向顶层中的迁移通过用2-戊酮剥离每个元件的顶层并用分光光度计扫描所得溶液的可见和近红外区域而评估。对于具有聚(乙烯基醇)阻挡层的元件，没有在顶层中检测到在830nm处的吸收。但没有PVA阻挡层的对比元件的溶液在830nm处吸收，表明存在光热转化材料。
将每个元件的样品用830nm射线用内试验图案(
图12)在Creo 3230Trendsetter上以100-175mJ/cm2(9W)成像，并用956显影剂(溶剂基显影剂，Kodak Polychrome Graphics，Norwalk，CT，USA)在KodakPolychrome Graphics 85 NS处理器上进行机器处理。
在最低的阻挡层涂覆重量(0.011g/m2)下，分辨率显示为在150线/英寸下至少为2-98％。在阻挡层涂覆重量为0.022g/m2时出现一些分辨率损失。在阻挡层涂覆重量为0.054g/m2时，在处理之后观察到明显的图像侵入(attack)。
实施例2多层可成像元件制备如下。
底层将包含85wt％共聚物A和15wt％IR染料A光热转化材料(5.4％总固体)的涂覆溶液涂覆到0.3格基未加底的聚酯膜上。涂覆溶剂是乳酸甲酯/二乙基酮/水(50∶40∶10重量)。底层的涂覆重量是2.0g/m2。
阻挡层底层随后由乳酸甲酯∶二乙基酮∶水(50∶40∶10重量)以涂覆干重0.7g/m2和2.0g/m2被涂以共聚物A(5.4wt％总固体)层。
顶层随后将由二乙基酮涂覆(5.4wt％)的SD 140A(96.3％)和乙基紫(3.7％)的顶层施用到阻挡层的面上。涂覆重量是0.7g/m2。
对比制备出如上具有基材、底层和顶层，但没有阻挡层的对比元件。
光热转化材料向顶层中的迁移通过用二乙基酮剥离每个元件的顶层并用分光光度计扫描所得溶液的可见和近红外区域而评估。对于具有2.0g/m2涂覆重量阻挡层的元件，没有在来自顶层的溶液中检测到在830nm处的吸收。没有阻挡层的对比元件的溶液在830nm处有吸收。对于具有的0.7g/m2阻挡层的元件，观察到顶层溶液具有较低的在830nm处的吸收。
将每个元件的样品用内试验图案(图12)在Creo 3230Trendsetter上以200mJ/cm2成像并用956显影剂(溶剂基显影剂，Kodak Polychrome Graphics，Norwalk，CT，USA)进行机器处理。对于所有的样品，对成像图案进行了精确复制。
实施例3其中光热转化材料在顶层的对比元件制备如下。将包含共聚物A(5.4wt％固体)的涂覆溶液由溶剂乳酸甲酯/二乙基酮/水(50∶40∶10)涂覆到用于实施例1的基材上，得到具有涂覆重量2.0g/m2的底层。将在二乙基酮中包含94.3wt％SD 104A、3.7wt％乙基紫和2.0wt％IR染料A(5.4wt％总固体)的涂覆溶液涂覆到底层上，得到具有涂覆重量0.7g/m2的顶层。
对未曝光元件进行扫描电子显微照相。没有观察到烧蚀材料。
对比元件以50％点在Creo 3230 trendsetter上以120mJ/cm2成像。曝光的对比元件在显影剂956(溶剂基显影剂，Kodak Po1ychromeGraphics，Norwalk，CT，USA)中令人满意地显影。
得到如上所述曝光但没有显影的对比元件的扫描电子显微照片。观察到大量的烧蚀材料覆盖着成像对比元件的整个表面。
得到在实施例1中描述的、具有阻挡层涂覆重量0.022g/m2、如上所述进行了曝光但没有显影的元件的扫描电子显微照片。没有观察到烧蚀材料。
实施例4底层底层按照实施例1所述涂覆到基材上。
顶层将包含94wt％SD 140A和6wt％溶剂蓝35的顶层涂覆到底层上。涂覆溶剂是3-乙氧基丙酸乙酯/甲苯(30∶70)。
制备出对比，其中使用乙基紫替代溶剂蓝35。二乙基酮是涂覆溶剂。
每个体系在防止光热转化材料迁移至面层上的效力通过用3-乙氧基丙酸酯/甲苯(30∶70)剥离掉面层并按照实施例1所述分析所得溶液而估计。
对于其中顶层由3-乙氧基丙酸乙酯/甲苯25(30∶70)涂覆的元件，没有在溶液中检测到在800-850nm处的吸收。对于其中顶层由二乙基酮涂覆的元件，检测到在830nm处的吸收。
将每个元件的样品在Creo 3230 Trendsetter上以120mJ/cm2成像，并用956显影剂(溶剂基显影剂，Kodak PolychromeGraphics，Norwalk，CT，USA)进行机器处理。对于所有的元件，对成像图案进行了精确复制。
实施例5该实施例说明IR染料B、IR染料C和IR染料D在不含阻挡层的元件的底层中的应用。
底层 制备出四种元件。在对比元件中，底层按照实施例1所述制成。在其它的三种元件中，底层按照实施例1所述制成，只是IR染料B在一种元件中替代IR染料A，IR染料C在一种元件中替代IR染料A，和IR染料D在一种元件中替代IR染料A。
顶层 将包含96.3wt％SD 140A和3.7wt％乙基紫的顶层涂覆到四种底层上。涂覆溶剂是二乙基酮。任何这四种元件中都不存在阻挡层。
光热转化材料向顶层中的迁移通过用3-乙氧基丙酸酯/甲苯(30∶70)剥离顶层并按照实施例1所述分析所得溶液而估计。对于其中底层包含IR染料B、IR染料C或IR染料D的元件，没有在溶液中检测到在800-850nm处的吸收。在830nm处的吸收在对比元件的溶液中检测到。
将每个元件的样品在Creo 3230 Trendsetter上以120mJ/cm2成像，并用956显影剂(溶剂基显影剂，Kodak PolychromeGraphics，Norwalk，CT，USA)进行机器处理。对于所有的元件，对成像图案进行了合理的复制。
在已描述本发明之后，我们现要求以下内容及其等同物。
权利要求
1.一种可成像元件，按顺序包括(a)亲水基材；(b)底层，(c)阻挡层；和，(d)顶层；其中顶层包含第一聚合材料；底层包含第二聚合材料；阻挡层包含第三聚合材料；顶层是油墨接受性的且不溶于碱性显影剂；顶层、阻挡层和底层分别在元件热曝之后用碱性显影剂可去除；底层包含光热转化材料；和阻挡层和顶层基本上没有光热转化材料。
2.根据权利要求1的元件，其中第一聚合材料选自丙烯酸聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸共聚物；聚酯，聚酰胺；聚脲；聚氨酯；硝基纤维素；环氧树脂；和其组合。
3.根据权利要求1的元件，其中第一聚合材料是酚聚合物。
4.根据权利要求1的元件，其中第一聚合材料是酚醛清漆树脂，且顶层还包含溶解抑制剂。
5.根据权利要求1的元件，其中第三聚合材料是聚乙烯基醇。
6.根据权利要求5的元件，其中第一聚合材料是酚醛清漆树脂，且顶层还包含溶解抑制剂。
7.根据权利要求1的元件，其中第二聚合材料和第三聚合材料是相同的材料，而阻挡层至少是底层厚度的一半。
8.根据权利要求7的元件，其中第一聚合材料是酚醛清漆树脂，且顶层还包含溶解抑制剂。
9.根据权利要求1的元件，其中底层的耐化学性参数大于约0.5。
10.根据权利要求1的元件，其中第二聚合材料包含约35至约60mol％的N-苯基马来酰亚胺、约15至约40mol％的甲基丙烯酰胺和约10至约30mol％的甲基丙烯酸。
11.根据权利要求10的元件，其中第一聚合材料是酚醛清漆树脂，且顶层还包含溶解抑制剂。
12.根据权利要求11的元件，其中第三聚合材料是聚乙烯基醇。
13.一种用于形成图像的方法，该方法包括步骤(a)将可成像元件用在约800nm-约1200nm范围内的射线成像，并形成包含曝光和未曝光区域的成像元件；和(b)将该成像元件在显影剂中显影，并去除曝光区域；其中可成像元件按顺序包括(a)亲水基材；(b)底层，(c)阻挡层；和，(d)顶层；其中顶层包含第一聚合材料；底层包含第二聚合材料；阻挡层包含第三聚合材料；顶层是油墨接受性的且不溶于碱性显影剂；顶层、阻挡层和底层分别在元件热曝之后用碱性显影剂可去除；底层包含光热转化材料；和阻挡层和顶层基本上没有光热转化材料。
14.根据权利要求13的方法，其中第一聚合材料选自丙烯酸聚合物和共聚物；聚苯乙烯；苯乙烯-丙烯酸共聚物；聚酯，聚酰胺；聚脲；聚氨酯；硝基纤维素；环氧树脂；和其组合。
15.根据权利要求13的方法，其中第一聚合材料是酚聚合物。
16.根据权利要求13的方法，其中第一聚合材料是酚醛清漆树脂，且顶层还包含溶解抑制剂。
17.根据权利要求16的方法，其中显影剂的pH为约8-约13.5。
18.根据权利要求13的方法，其中第三聚合材料是聚乙烯基醇。
19.根据权利要求18的方法，其中第一聚合材料是酚醛清漆树脂，且顶层还包含溶解抑制剂。
20.根据权利要求13的方法，其中底层的耐化学性参数大于约0.5。
21.根据权利要求13的方法，其中第二聚合材料包含聚合形式的约35至约60mol％的N-苯基马来酰亚胺、约15至约40mol％的甲基丙烯酰胺和约10至约30mol％的甲基丙烯酸。
22.根据权利要求21的方法，其中第一聚合材料是酚醛清漆树脂，且顶层还包含溶解抑制剂。
23.根据权利要求22的方法，其中第三聚合材料是聚乙烯基醇。
24.根据权利要求13的方法，其中第一聚合材料是酚醛清漆树脂，顶层还包含溶解抑制剂；且显影剂是含水碱性显影剂。
25.一种形成可用作印刷板前体的可成像元件的方法，该方法包括步骤(a)在亲水基材的亲水表面上形成底层；和(b)在底层上形成顶层；其中顶层通过将包含第一涂覆溶剂和第一聚合材料的第一涂覆溶液涂覆到底层上而形成；底层通过将包含第二涂覆溶剂、第二聚合材料和光热转化材料的第二涂覆溶液涂覆到亲水表面上而形成；顶层是油墨接受性的且不溶于碱性显影剂；顶层和底层分别在元件的热曝之后由碱性显影剂可去除；顶层基本上没有光热转化材料；和光热转化材料选自IR染料B、IR染料C、IR染料D和其组合。
26.根据权利要求25的方法，其中第一涂覆溶剂选自二乙基酮、甲基异丁基酮、约50∶50wt％的甲基异丁基酮/甲基乙基酮和约50∶20∶30wt％的甲基乙基酮/甲苯/3-乙氧基丙酸酯。
27.根据权利要求26的方法，其中第二聚合材料包含聚合形式的约25至约75mol％的N-苯基马来酰亚胺；约10至约50mol％的甲基丙烯酰胺；和约5至约30mol％的甲基丙烯酸。
28.根据权利要求27的方法，其中第二涂覆溶剂选自乳酸甲酯、二乙基酮和水的约50∶40∶10wt％混合物；乳酸甲酯、二乙基酮、丁内酯和水的约50∶25∶15∶10wt％混合物；和乳酸甲酯/甲醇/二氧戊环的约15∶42.5∶42.5wt％混合物。
29.根据权利要求28的方法，其中第一聚合材料包括酚醛清漆树脂。
全文摘要
本发明公开了可用作印刷板前体、并在热成像时具有较少烧蚀作用的正性热可成像元件及其制备方法。一方面，该元件包含亲水基材、底层、阻挡层和顶层。底层包含光热转化材料。
文档编号B41C1/10GK1420019SQ0215130
公开日2003年5月28日 申请日期2002年11月15日 优先权日2001年11月15日
发明者J·帕特尔, P·维斯特, K·雷, K·威廉斯 申请人:柯达彩色绘图有限公司