专利名称：转印膜结构的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种转印膜结构，尤其是涉及一种在饰纹层与黏着膜层之间设有硬化 膜层的转印膜结构。
背景技术：
随着人们对生活品质的提高，产品外观的设计成为了影响消费行为的重要因素， 具备独特构图设计与时尚质感的产品往往自能够得到较多青睐。模内装饰(IMD，In-mold decoration)是一项新型塑料加工技术，是将上面印有装饰图纹的转印膜定位在射出机的 模具内，在塑料制品射出成形的同时，进行图纹转印，完成壳体外观装饰。相对于传统喷涂、 印刷、电镀等加工方式，模内装饰技术可配合制品批量生产，连续完成图纹转印，可疑简化 生产步骤、缩短制程时间，已广泛应用于电子装置、家用电器等诸多领域。图1为现有技术的转印膜结构的剖面示意图，图2为图1的转印膜结构的应用状 态的剖面示意图。如图所示，转印膜结构10包括一基底薄膜层11以及上方次序堆栈形成的 一离型层12、一硬化膜层13、一饰纹层14以及一黏着膜层15。基底薄膜层11可为塑料、金 属或纤维系薄膜，用以提供表面平坦且不易变形的基材，以便于后续涂布与印刷等加工。离 型层12设置于基底薄膜层11表面上方，用以辅助基底薄膜层11离型。硬化膜层13设置 于离型层12表面上，由树脂溶液干燥形成，为具有高硬度的保护层。饰纹层14设置于硬化 膜层13表面上，是由印刷形成的油墨装饰图纹。黏着膜层15设置于饰纹层14表面上方。 转印时，提供一定的制程条件(例如预定温度值)，使黏着膜层15紧密黏着于物品20表 面，从而将转印膜10结合于物品20。最后，借着离型层12将基底薄膜层11撕离，即完成图 纹转印。但是，在实际应用中，转印膜结构10中，黏着膜层15的胶水极易向下渗入饰纹层 14，致使油墨图纹受到破坏，成为不良品。具有瑕疵的转印膜假如没有被检出剔除，进一步 流入后端制程，则将导致更多的物料损失。而且，若射出成型条件改变，导致转印膜的结构 强度不够，极易出现油墨层破坏。
发明内容
为解决现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种可阻挡黏着膜层的胶水渗入 饰纹层，以防止油墨图纹遭受破坏，而且可加强膜层结构强度，从而提升转印膜制程合格率 的转印膜结构。为解决上述技术问题，本发明是通过采用的技术方案来实现的。一种转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层；一离型层，设置于该基底薄膜层 的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰绞层，设置于该第一硬化膜层 的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬 化膜层的上表面。前述的转印膜结构，其特征在于该饰纹层包括一油墨层，该油墨层设置于该第一 硬化膜层的上表面。
前述的转印膜结构，其特征在于该饰纹层包括一油墨层以及一金属薄膜层，该油 墨层设置于该第一硬化膜层的上表面，该金属薄膜层设置于该油墨层的上表面。前述的转印膜结构，其特征在于该第一硬化膜层以及该第二硬化膜层的厚度为3 微米至60微米。前述的转印膜结构，其特征在于该第一硬化膜层以及该第二硬化膜层的材料为聚 胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树 脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系 树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂以及异氰酸酯中的一种。前述的转印膜结构，其特征在于该基底薄膜层为高分子聚合物基材、金属薄膜基 材以及纤维系薄膜中的一种。前述的转印膜结构，其特征在于该高分子聚合物的材料为聚乙烯系树脂、聚丙烯 系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂中的一种。前述的转印膜结构，其特征在于该纤维素系薄膜为一玻璃纸或一涂布纸或一赛珞 凡或为玻璃纸、涂布纸及赛珞凡组成的一种薄膜。本发明的有益效果是与现有技术相比，本发明在饰纹层与黏着膜层之间设置第 二硬化膜层，可阻挡黏着膜层的胶水渗入饰纹层，以防止油墨图纹遭受破坏，且加强膜层结 构强度，从而达到提升转印膜制程良率功效。
图1为现有技术的转印膜结构的剖面示意图。图2为图1的转印膜结构的应用状态的剖面示意图。图3为本发明的转印膜结构的第一具体实施例的剖面示意图。图4为本发明的转印膜结构的第二具体实施例的剖面示意图。附图中主要标记含义说明如下，10、30、40 转印膜结构，11、31、41 基底薄膜层， 12、32、42 离型层，13 硬化膜层，14、；34、44 饰纹层，15、36、46 黏着膜层，20 物品，33、 43 第一硬化膜层，340、440 油墨层，35、45 第二硬化膜层，441 金属薄膜层。
具体实施例方式以下结合附图和具体实施例对本发明作具体的介绍。本发明提出一种转印膜结构，旨在防止黏着膜层的胶水渗入饰纹层，以保持油墨 装饰图纹的完整性，且加强膜层结构强度。图3为本发明的转印膜结构的第一具体实施例的剖面示意图。如图所示，转印膜 结构30包括一基底薄膜层31、一离型层32、一第一硬化膜层33、一饰纹层34、一第二硬化 膜层35以及一黏着膜层36。其中，离型层32设置于基底薄膜层31的上表面，第一硬化膜 层33设置于离型层32的上表面，饰纹层34设置于第一硬化膜层33的上表面，第二硬化膜 层35设置于饰纹层34的上表面，黏着膜层36设置于第二硬化膜层35的上表面。基底薄膜层31作为后续涂布与印刷等加工的基材，所以应具备高平坦度且不易 变形，可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、 聚氯乙烯系树脂等高分子聚合物基材，或选用铝箔、铜箔等金属薄膜基材，亦可选用玻璃纸、涂布纸、赛珞凡等纤维系薄膜，或上述薄膜组成的复合基材。基底薄膜层31的厚度约为 5微米(μ m)至300微米〔μ m)可
为片状结构，也可以是连续进行涂布及印刷工序的大面积卷装结构。离型层32用来辅助基底薄膜层31离型，由涂布设备将原料溶液涂布于基底薄膜 层31表面上方，经过加热干燥或紫外线照射固化而形成，可选用聚硅氧烷系树脂、三聚氰 胺树脂、聚丙烯酸系树脂、聚酯系树脂、聚氯乙烯系树脂、纤维素系树脂、橡胶系树脂、聚胺 基甲酸酯系树脂、聚乙酸乙烯酯系树脂、氯乙烯一乙酸乙烯酯共聚物、乙烯一乙酸乙烯酯共 聚物系树脂等材料，并根据材料种类，采取适当的固化方式。离型层32的厚度约为0. 5微 米(μ m)至40微米(μ m)。第一硬化膜层33是具有高硬度的保护层，由涂布设备将原料溶液涂布于离型层 32表面上方，经过固化形成，可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树 脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚 胺系树脂、聚二醚酮系树脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯 氰酯系树脂、异氰酸酯等材料。第一硬化膜层33的厚度约为3微米(μ m)至60微米(|1 m)。饰纹层34包括一油墨层340，采用网版印刷、凹版印刷、凸版印刷或平板印刷方式 制作形成，提供油墨装饰图纹，印刷原料一般可选用聚乙烯系树脂、聚丙烯系树脂、聚丙烯 酸系树脂、聚胺基甲酸酯系树脂、聚乙烯缩醛系树脂、聚酯胺基甲酸酯系树脂、纤维素酯系 树脂、醇酸树脂等树脂为结合剂加上颜料混合制得。第二硬化膜层35是另一个具有高硬度的保护层，由涂布设备将原料溶液涂布于 油墨层340表面上方，经过固化形成。第二硬化膜层35的材料选用与厚度范围与第一硬化 膜层33相同，在此不再多作赘述。黏着膜层36可选用聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚乙烯系树脂、聚 酰胺系树脂等材料，由涂布设备将原料溶液涂布于第二硬化膜层35表面上方，经过干燥形 成。黏着膜层36的厚度约为3微米(μ m)至50微米(μ m)本发明的主要特点在于在饰纹层34与黏着膜层36之间增设第二硬化膜层35，用 来阻挡黏着膜层36的胶水向下渗漏，以防止饰纹层34的油墨图纹遭受破坏，同时可强化膜 层结构强度。图4是本发明的转印膜结构的第二具体实施例的剖面示意图。在本实施例中，转 印膜结构40包括一基底薄膜层41，以及上方次序叠置的一离型层42、一第一硬化膜层43、 一饰纹层44、一第二硬化膜层45与一黏着膜层46，其中饰纹层44包括一油墨层440以及 一金属薄膜层441。油墨层440设置于第一硬化膜层43的上表面，金属薄膜层441则设置 于油墨层440的上表面。第二硬化膜层45设置于金属薄膜层441与黏着膜层46之间，以 阻挡黏着膜层46的胶水向下’渗漏，且加强膜层结构强度。综上所述，本发明的转印膜结构在饰纹层与黏着膜层之间设置一第二硬化膜层， 可以有效阻挡黏着膜层的胶水渗入饰纹层，防止油墨图纹遭受破坏，保持装饰图案的完整 性，同时可疑加强膜层结构强度，从而达到提升转印膜制程合格率的功效。上述实施例不以任何形式限制本发明，凡采用等同替换或等效变换的方式所获得 的技术方案，均落在本发明的保护范围内。
权利要求
1.转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层；一离型层，设置于该基底薄膜层的上 表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰绞层，设置于该第一硬化膜层的上 表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜 层的上表面。
2.根据权利要求1所述的转印膜结构，其特征在于该饰纹层包括一油墨层，该油墨层 设置于该第一硬化膜层的上表面。
3.根据权利要求1所述的转印膜结构，其特征在于该饰纹层包括一油墨层以及一金属 薄膜层，该油墨层设置于该第一硬化膜层的上表面，该金属薄膜层设置于该油墨层的上表
4.根据权利要求1所述的转印膜结构，其特征在于该第一硬化膜层以及该第二硬化膜 层的厚度为3微米至60微米。
5.根据权利要求1所述的转印膜结构，其特征在于该第一硬化膜层以及该第二硬化膜 层的材料为聚胺酯系树脂、环氧系树脂、压克力系树脂、聚醚系树脂、聚酰胺系树脂、聚醋酸 纤维素系树脂、聚苯乙烯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯系树脂、聚亚胺系树脂、聚二醚酮系树 脂、聚醚砜系树脂、聚砜系树脂、胺基甲酸酯丙烯酸酯系树脂、丙烯氰酯系树脂以及异氰酸 酯中的一种。
6.根据权利要求1所述的转印膜结构，其特征在于该基底薄膜层为高分子聚合物基 材、金属薄膜基材以及纤维系薄膜中的一种。
7.根据权利要求6所述的转印膜结构，其特征在于该高分子聚合物的材料为聚乙烯系 树脂、聚丙烯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酯系树脂、聚丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂中的一 种。
8.根据权利要求6所述的转印膜结构，其特征在于该纤维素系薄膜为一玻璃纸或一涂 布纸或一赛珞凡或为玻璃纸、涂布纸及赛珞凡组成的一种薄膜。
全文摘要
本发明涉及一种转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰绞层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。本发明在饰纹层和黏着膜层之间增设第二硬化膜层，第二硬化膜层将可阻挡黏着膜层的胶水渗入饰纹层，以防止油墨图纹遭受破坏，并可同时强化膜层结构强度，从而达到提升转印膜制程合格率的功效。
文档编号B41M5/00GK102059871SQ2010105531
公开日2011年5月18日 申请日期2010年11月22日 优先权日2010年11月22日
发明者曾水泉 申请人:琨诘电子(昆山)有限公司