一种转印方法以及转印设备与流程

本发明涉及uv转印的技术领域，特别是涉及一种转印方法以及转印设备。

背景技术：

目前的电子产品后盖的纹理膜一般是通过uv转印的方式制作，但由于转印模具在转印过程中容易产生碎屑以及吸附空气中的颗粒物，容易导致转印模具遭受损伤，现有的转印方式制作过程中，转印模具的表面容易产生损伤，造成后续膜片的生产质量下降。

技术实现要素：

基于此，有必要针对转印模具的表面容易产生损伤的问题，提供一种转印方法以及转印设备。

一种转印方法，包括以下步骤：

提供转印平台和光学检查系统，所述转印平台包括支撑件和转印模具，所述支撑件设有多个工位，每一工位设置有所述转印模具；

启动所述转印平台，所述支撑件带动所述转印模具运动；

启动所述光学检查系统，检查所述转印模具的表面质量；以及

当所述光学检查系统检查到所述转印模具的表面存在缺陷时，停止设备运转；当所述转印模具的表面质量符合要求时，所述支撑件带动被检测过的所述转印模具运动至下一工位并进行转印加工。

上述转印方法，加强对转印模具表面质量的检测，及时对有缺陷的转印模具进行更替，防止后续膜片的生产质量下降。

在其中一个实施例中，包括以下任一种方案：

所述转印模具和所述支撑件分别呈透明状，所述光学检查系统包括光学探头，所述光学探头设置于所述转印模具的背离所述支撑件的一侧；

所述转印模具和所述支撑件分别呈透明状，所述光学检查系统包括光学探头，所述光学探头设置于所述支撑件的背离所述转印模具的一侧。

在其中一个实施例中，在检查所述转印模具的表面质量的步骤中，包括：

所述支撑件能够旋转以带动所述转印模具运动，并使所述光学检查系统检查不同工位的所述转印模具；

当所述光学检查系统检查到所述转印模具的表面存在缺陷时，所述光学检查系统发出警报，所述转印平台停止运转。

在其中一个实施例中，在被检测过的所述转印模具运动至下一工位并进行转印加工之前，包括：

采用清洁件对所述转印模具进行清洁。

在其中一个实施例中，所述清洁件包括清洁胶辊和除静电风刀，所述清洁胶辊和所述除静电风刀相对设置，且在清洁所述转印模具的过程中，所述清洁胶辊、所述除静电风刀分别垂直于所述支撑件的转轴延伸方向。

一种转印设备，其特征在于，包括：

转印平台，所述转印平台为透明状，所述转印平台包括支撑件和转印模具，所述转印模具连接于所述支撑件，所述支撑件能够带动所述转印模具运动；及

光学检查系统，用于检测所述转印模具的表面质量。

在其中一个实施例中，所述转印设备还包括清洁胶辊，所述清洁胶辊能够与所述转印模具接触以清洁所述转印模具的表面。

在其中一个实施例中，所述清洁胶辊为回转体，所述清洁胶辊具有第一端和第二端，所述第一端的直径小于所述第二端的直径，且所述第一端到所述第二端的直径逐渐增大，所述清洁胶辊的母线长度为l，所述转印平台的中心到所述转印模具的最大距离为s1，所述转印平台的中心到所述转印模具的最小距离为s2，l大于等于d，其中，d＝(s1-s2)。

在其中一个实施例中，所述转印设备还包括除静电风刀，所述除静电风刀用于去除所述转印模具表面的静电，所述除静电风刀的长度为h,所述转印平台的中心到所述转印模具的最大距离为s1，所述转印平台的中心到所述转印模具的最小距离为s2，h等于或大于d，其中，d＝(s1-s2)。

在其中一个实施例中，所述支撑件设有多个工位，每一所述工位设有所述转印模具。

附图说明

图1为一实施例中转印设备的立体图；

图2为图1所示的转印设备中光学检查系统的安装示意图；

图3为图1所示的转印设备的光学检查系统的另一安装示意图；

图4为图1所示的转印设备的清洁件的一种结构图；

图5为图1所示的转印设备的清洁件的另一结构图；

图6为一实施例中转印方法的流程图；

图7为图6中步骤s300的流程图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

参考图1、图2和图3，在一实施例中，提供一种转印设备10，该转印设备10可以为uv转印机，用于将模具上的纹理转印复制以形成纹理膜，其中，该纹理膜上的纹理可以为：拉丝纹、cd纹、自然纹理、直线纹理等纹理效果。在一实施例中，转印设备10包括转印平台100和光学检查系统200，转印平台100包括转印模具120和支撑件110，转印模具120为pc透明模具，支撑件110为钢化玻璃透明平台，并可以带动转印模具120移动，其中，支撑件110可以设置为直线传送，或者设置为环形传送，当设置为环形传送时，支撑件110可以为一个圆形的平台，且围绕圆心做圆周运动，转印模具120放置于支撑件110上且随着转印平台100转动。该光学检查系统200包括光学探头，光学探头可以安装于支撑件110的上方或者下方，支撑件110上带动转印模具120运动以使转印模具120经过光学探头的上方或者下方时，由于转印模具120和支撑件110均为透明状，光学探头可以较为方便的检查到转印模具120的表面是否有缺陷，检测出有缺陷时，光学检查系统200发出警报信号，以使支撑件110停止转动或者用户手动将其停止。

可以理解的是，光学检查系统200还包括分析软件，光学探头对模具的检测数据实时传输给分析软件，该分析软件可以对其检测数据进行分析，当判断出有缺陷时，光学检查系统200发出警报信号，并可以报告出转印模具120缺陷的详细信息，进而使得用户及时更换转印模具120。

参考图1、图2和图,4，在一实施例中，支撑件110包括四个工位，每两个工位之间距离相等，每个工位上都可以放置转印模具120，在支撑件110工作时，每当有转印模具120经过光学探头的上方或者下方时，都可以检测到转印模具120的表面是否存在缺陷。在一实施例中，转印设备10还包括清洁件300，清洁件300可以对转印模具120进行清洁，清洁件300包括清洁胶辊310和除静电风刀320，清洁胶辊310和除静电风刀320可以分别垂直于支撑件110的转轴延伸方向，两者可以分开设置，也可以一体成型。在转印过程中，清洁胶辊310用于对转印模具120上的异物及时清理，除静电风刀320用于去除转印模具120上的静电。在转印设备10开启的过程中，清洁胶辊310和除静电风刀320可以一直处于工作状态，即进行持续清洁和除静电。清洁胶辊310和除静电风刀320还可以设置为周期性工作状态，即一段时间持续工作，一段时间停止工作，循环往复。

参考图1、图2和图5，在一实施例中，清洁胶辊310包括第一端311、第二端312和连接部313，连接部313位于第一端311和第二端312之间，且连接部313的两端分别连接第一端311和第二端312，在转印过程中，清洁胶辊310的连接部313可以接触转印模具120，以吸附转印模具120表面上的异物。具体地，清洁胶辊310可以为回转体，其中第一端311和第二端312可以为圆形，且第一端311的直径小于第二端312的直径，第一端311到第二端312的直径呈逐渐增大的状态，即清洁胶辊310可以为类似圆台的形状，且清洁胶辊310可以绕旋转轴自转。清洁胶辊310与支撑件110的表面相接触，当支撑件110运动时，支撑件110带动转印模具120运动以使转印模具120可以经过清洁胶辊310的下方，进而清洁胶辊310便可以清理转印模具120表面的异物。

在一实施例中，若转印平台100旋转体，即支撑件110呈圆盘状，圆盘上设置多个工位，以四个工位为例，每个工位上放置一个转印模具120，每个转印模具120的尺寸几乎相同且大致呈矩形状，支撑件110绕圆盘中心转动以带动转印模具120转动。在一实施例中，支撑件110的中心距离转印模具120的最大距离为s1，支撑件110的中心距离转印模具120的最小距离为s2，d＝(s1-s2)，清洁胶辊310的母线长度为l，l大于等于d，即清洁胶辊310的长度可以完全覆盖转印模具120的长度，以便清洁胶辊310可以对转印模具120进行较为彻底的清洁。可以理解的是，除静电风刀320大致呈长条状，且该除静电风刀320的长度规定为h，h等于或大于d，即除静电风刀320的长度可以完全覆盖转印模具120的长度，进而使得除静电风刀320在工作时，可以对转印模具120进行较为彻底的除静电操作。

具体的，支撑件110绕圆盘中心转动以带动转印模具120转动，转印模具120在转动工程中，当经过光学探头时，光学探头可以检测转印模具120表面是否存在缺陷，若存在缺陷，光学检查系统200发出警报信号，转印平台100停止运作。若没有缺陷时，支撑件110继续带动转印模具120转动，此时清洁胶辊310可以对转印模具120表面的异物进行清洁，进而除静电风刀320对转印模具120进行除静电处理，用户在清洁后的转印模具120上粘贴膜片，在对其膜片进行转印加工以形成纹理膜。

参考图6，本发明还提供了一种转印方法，该方法包括以下步骤：

步骤s100，提供转印平台100和光学检查系统200，转印平台100包括支撑件110和转印模具120，支撑件110设有多个工位，每一工位设置有转印模具120。

具体地，转印模具120为pc透明模具，支撑件110为钢化玻璃透明平台，支撑件110可以设置为直线传送，或者环形传送，当设置为环形传送时，支撑件110可以为一个圆形的平台，且围绕圆心做圆周运动，转印模具120放置于支撑件110上且随着转印平台100转动。该光学检查系统200包括光学探头，光学探头可以安装于转印平台100的上方或者下方，即光学探头可以设置于转印模具120的背离支撑件110的一侧，或者设置于支撑件110的背离转印模具120的一侧，以使转印模具120在支撑件110上运动时可以经过光学探头。

步骤s200，启动转印平台100，支撑件110带动转印模具120运动。

具体地，启动转印平台100运动，以支撑件110呈圆形平台且围绕圆心做圆周运动为例，转印模具120可以放置于支撑件110靠近边缘的位置，并且可以多个转印模具120同时放置，当支撑件110上设置四个工位时，四个工位可以为等间距设置，每个工位上都可以放置转印模具120，在支撑件110工作时，支撑件110可以带动转印模具120运动。

步骤s300，启动光学检查系统200，检查转印模具120的表面质量。参考图7，具体可以通过以下步骤实现：

步骤s310，支撑件110能够旋转以带动转印模具120运动，并使光学检查系统200检查不同工位的转印模具120。

具体地，光学检查系统200还包括分析软件，当支撑件110带动转印模具120转动时，光学探头可以对经过的每一转印模具120进行检测，并且检测数据可以实时传输给分析软件，该分析软件可以对其检测数据进行分析。

步骤s320，当光学检查系统200检查到转印模具120的表面存在缺陷时，光学检查系统200发出警报，转印平台100停止运转。

具体地，当分析软件进行分析之后判断出有缺陷时，光学检查系统200发出警报信号，并可以报告出转印模具120缺陷的详细信息，用户收取到该信息便可以及时让转印平台100停止工作，进而使得用户可以及时更换转印模具120。可以理解的是，光学检查系统200与转印平台100电性连接，并且都通过智能控制，当检测到转印模具120有缺陷时，转印平台100可以自动停止，以等待用户对有缺陷的转印模具120进行更换或者维修。

步骤s330，当转印模具120的表面质量符合要求时，采用清洁件300对转印模具120进行清洁。

具体地，当分析软件进行分析之后判断该转印模具120的表面没有缺陷时，转印平台100继续工作，清洁件300对转印模具120进行清洁。该清洁件300包括清洁胶辊310和除静电风刀320，清洁胶辊310和除静电风刀320可以分别垂直于支撑件110的转轴延伸方向，两者可以分开设置，也可以相对设置，在转印过程中，清洁胶辊310用于对转印模具120上的异物及时清理，除静电风刀320用于去除转印模具120上的静电。在转印设备10开启的过程中，清洁胶辊310和除静电风刀320可以一直处于工作状态，即进行持续清洁，或者设置为周期性清洁状态。

该清洁胶辊310包括第一端311、第二端312和连接部313，连接部313位于第一端311和第二端312之间，且连接部313的两端分别连接第一端311和第二端312，在转印过程中，清洁胶辊310的连接部313可以接触转印模具120，以吸附转印模具120表面上的异物。进一步地，清洁胶辊310可以为回转体，其中第一端311和第二端312可以为圆形，且第一端311的直径小于第二端312的直径，第一端311到第二端312的直径呈逐渐增大的状态，即清洁胶辊310可以为类似圆台的形状，且清洁胶辊310可以绕旋转轴自转。清洁胶辊310与支撑件110的表面相接触，当支撑件110运动时，支撑件110带动转印模具120运动以使转印模具120可以经过清洁胶辊310的下方，进而清洁胶辊310便可以清理转印模具120表面的异物。

可以理解的是，当支撑件110呈圆盘状时，支撑件110的中心距离转印模具120的最大宽度为s1，支撑件110的中心距离转印模具120的最小宽度为s2，d＝(s1-s2)，清洁胶辊310的母线长度为l，l大于等于d，即清洁胶辊310的长度可以完全覆盖转印模具120的长度，以便清洁胶辊310可以对转印模具120进行较为彻底的清洁。除静电风刀320大致呈长条状，且该除静电风刀320的长度规定为h，h等于或大于d，即除静电风刀320的长度可以完全覆盖转印模具120的长度，进而使得除静电风刀320在工作时，可以对转印模具120进行较为彻底的除静电操作。

步骤s400,清洁后，支撑件110带动被检测过的转印模具120运动至下一工位并进行转印加工。

具体地，在对转印模具120进行清洁后，支撑件110可以带动转印模具120进行运动至下一工位，以将需要转印的膜片胶粘与转印模具120上，在对其压合、光固，最后再机构性脱模，此时该膜片便可以形成纹理膜。由于转印平台100为旋转的的平台，在脱模之后，可以继续对转印模具120进行光学检查、清洁和贴膜，该过程为持续循环的过程，在保证制膜效率的同时确保转印模具120的表面质量，进而使得纹理膜的质量较高。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。