一种阵列基板及显示面板的制作方法

文档序号:11262516阅读:210来源:国知局
一种阵列基板及显示面板的制造方法与工艺

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种阵列基板及显示面板。



背景技术:

随着显示技术的发展,触控面板已广泛用于个人计算机、智能电话、公共信息、智能家电、工业控制等众多领域,为了实现触控面板的触控性能,位于触控面板的平坦层上的公共电极层一般包括多个间隔设置的公共电极块以感应触控信号,在该公共电极层的制备过程中,先在平坦层上沉积ito薄膜层,然后通过光刻工艺形成间隔设置的多个公共电极块,但是在成膜过程中,ito会附着在平坦层的过孔中且难以清除,使得位于过孔两侧且相邻的公共电极块会被过孔中附着的ito连接在一起,进而使得触控面板在使用时,该相邻的公共电极块出现短路现象,从而导致显示异常。



技术实现要素:

本发明主要是提供一种阵列基板及显示面板,旨在解决公共电极块因为过孔而导致短路的问题。

为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种阵列基板,所述阵列基板包括依次层叠的平坦层及公共电极层,所述公共电极层包括多个间隔设置的公共电极块,所述平坦层设有贯穿所述平坦层的过孔;其中,所述公共电极块在所述平坦层上的投影与所述过孔间隔设置。

为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种显示面板,所述显示面板包括间隔设置的第一基板及第二基板,所述第二基板包括依次层叠的平坦层及公共电极层,所述公共电极层包括多个间隔设置的公共电极块,所述平坦层设有贯穿所述平坦层的过孔;其中,所述公共电极块在所述平坦层上的投影与所述过孔间隔设置。

本发明的有益效果是:区别于现有技术的情况,本发明通过公共电极层的公共电极块在平坦层上的投影与平坦层的过孔间隔设置,使得在制备多个间隔设置的公共电极块的公共电极层时,位于过孔两侧且相邻的公共电极块不会因为制备过程中附着在过孔内的电极材料而导致电连接,避免了相邻的公共电极块发生短路现象而造成的显示异常。

附图说明

图1是本发明提供的阵列基板第一实施例的截面示意图;

图2是图1中公共电极层与平坦层的俯视示意图;

图3是本发明提供的阵列基板第二实施例的俯视示意图;

图4是本发明提供的显示面板第一实施例的结构示意图;

图5是本发明提供的显示面板第二实施例的结构示意图。

具体实施方式

为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明所提供的一种阵列基板及显示面板做进一步详细描述。

参阅图1,本发明提供的阵列基板第一实施例包括依次层叠设置的平坦层11及公共电极层12。

其中,平坦层11设有贯穿平坦层11的过孔111。

公共电极层12包括多个间隔设置的公共电极块121,可选的,在本实施例中,公共电极块121的数量为18×30。

其中,公共电极块121在平坦层11上的投影与过孔111间隔设置。

如图1所示,相邻的两个公共电极块121分别位于过孔111的左右两侧,左右两侧的公共电极块121靠近过孔111的一侧分别与过孔111相应的边缘间隔设置,可选的,在其他实施例中,相邻的两个公共电极块121也可以是其中一个靠近过孔111的一侧与过孔111的边缘间隔设置,另一个靠近过孔111的一侧与过孔111的边缘相重合。

在实际制备的过程中,可在平坦层11上沉积一层电极材料层,此时,平坦层11的过孔111中会在沉积过程中附着有电极材料,然后通过光刻工艺将该电极材料层分割成多个电极材料块,且在该光刻工艺的蚀刻过程中,使得形成的电极材料块在平坦层11上的投影与过孔111间隔设置,进而使得即使过孔111中附着有电极材料,本实施例中的阵列基板在实际使用的过程中,与过孔111相邻的两个电极材料块也不会因为过孔111中附着的电极材料而导致电连接,避免了与过孔111相邻的两个电极材料块出现短路的现象,也即保证了上述的与过孔111相邻的两个公共电极块121不会出现短路的现象。

可选的,该电极材料为ito。

参阅图2,本实施例中的阵列基板包括显示区101及非显示区102,过孔111包括第一过孔1111,第一过孔1111设置于位于显示区101的平坦层11。

可以理解的,本实施例中的过孔111仅设置于位于显示区101的平坦层11,而位于非显示区102的平坦层11没有过孔111。

进一步参阅图1,本实施例的阵列基板还包括分别位于平坦层11上下两侧的像素电极层13及半导体层14。

进一步地,像素电极层13与公共电极层12层叠设置,且像素电极层13与公共电极层之间还设置有绝缘层15。

其中,像素电极层13通过过孔111延伸至半导体层14以与半导体层14电连接。

在实际制备的过程中,可在绝缘层15上以及过孔111中沉积电极材料,以在绝缘层15上形成电极材料层作为像素电极层15,该像素电极层15通过过孔111中的电极材料与半导体层14电连接。

可选的,该电极材料为ito。

参阅图3,本发明提供的阵列基板第二实施例中的过孔211还包括第二过孔2112。

其中,第二过孔2112设置于阵列基板的非显示区202的平坦层21。

可以理解的,本实施例中的过孔211包括第一过孔2111与第二过孔2112,第一过孔2111与上述第一实施例相同,设置于阵列基板的显示区201的平坦层21,第二过孔2112设置于阵列基板的非显示区202的平坦层21。

本实施例中的其他结构及原理与上述第一实施例相同,在此不再赘述。

共同参阅图1、图2及图4,本发明提供的显示面板第一实施例包括间隔设置的第一基板30及第二基板31,其中,本实施例中的第二基板与上述阵列基板第一实施例中的阵列基板相同。

具体地,第二基板31包括依次层叠设置的平坦层11及公共电极层12。

其中,平坦层11设有贯穿平坦层11的过孔111。

公共电极层12包括多个间隔设置的公共电极块121,可选的,在本实施例中,公共电极块121的数量为18×30。

其中,公共电极块121在平坦层11上的投影与过孔111间隔设置。

如图1所示,相邻的两个公共电极块121分别位于过孔111的左右两侧,左右两侧的公共电极块121靠近过孔111的一侧分别与过孔111相应的边缘间隔设置,可选的,在其他实施例中,相邻的两个公共电极块121也可以是其中一个靠近过孔111的一侧与过孔111的边缘间隔设置,另一个靠近过孔111的一侧与过孔111的边缘相重合。

在实际制备的过程中,可在平坦层11上沉积一层电极材料层,此时,平坦层11的过孔111中会在沉积过程中附着有电极材料,然后通过光刻工艺将该电极材料层分割成多个电极材料块,且在该光刻工艺的蚀刻过程中,使得形成的电极材料块在平坦层11上的投影与过孔111间隔设置,进而使得即使过孔111中附着有电极材料,本实施例中的阵列基板在实际使用的过程中,与过孔111相邻的两个电极材料块也不会因为过孔111中附着的电极材料而导致电连接,避免了与过孔111相邻的两个电极材料块出现短路的现象,也即保证了上述的与过孔111相邻的两个公共电极块121不会出现短路的现象。

可选的,该电极材料为ito。

进一步参阅图2,本实施例中的阵列基板包括显示区101及非显示区102,过孔111包括第一过孔1111,第一过孔1111设置于显示区101的平坦层11。

可以理解的,本实施例中的过孔111仅设置于位于显示区101的平坦层11,而位于非显示区102的平坦层11没有过孔111。

进一步参阅图1,本实施例的阵列基板还包括分别位于平坦层11上下两侧的像素电极层13及半导体层14。

进一步地,像素电极层13与公共电极层12层叠设置,且像素电极层13与公共电极层之间还设置有绝缘层15。

其中,像素电极层13通过过孔111延伸至半导体层14以与半导体层14电连接。

在实际制备的过程中,可在绝缘层15上以及过孔111中沉积电极材料,以在绝缘层15上形成电极材料层作为像素电极层15,该像素电极层15通过过孔111中的电极材料与半导体层14电连接。

可选的,该电极材料为ito。

共同参与图3及图5,本发明提供的显示面板第二实施例包括第一基板40及第二基板41,其中,第二基板41与上述阵列基板第二实施例中的阵列基板相同。

具体地,平坦层21中的过孔211还包括第二过孔2112。

其中,第二过孔2112设置于阵列基板的非显示区202的平坦层21。

可以理解的,本实施例中的过孔211包括第一过孔2111与第二过孔2112,第一过孔2111与上述第一实施例相同,设置于阵列基板的显示区201的平坦层21,第二过孔2112设置于阵列基板的非显示区202的平坦层21。

本实施例中的其他结构及原理与上述显示面板第一实施例相同,在此不再赘述。

区别于现有技术,本发明通过公共电极层的公共电极块在平坦层上的投影与平坦层的过孔间隔设置,使得在制备多个间隔设置的公共电极块的公共电极层时,相邻的公共电极块不会因为制备过程中附着在过孔内的电极材料而导致电连接,避免了相邻的公共电极块发生短路的现象而造成的显示异常。

以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

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