曝光方法及装置的制作方法

专利名称：：曝光方法及装置的制作方法
技术领域：
：本发明是有关于将曝光用屏蔽(mask)(以下称“屏蔽”)的图案曝光于感光材的曝光方法及装置，尤其是有关于在制造半导体集成电路、液晶显示装置、挠性印刷电路基板等的光蚀刻(photolithography)制程所用的曝光技术，以及适用于作为印刷制版用扫描装置、电子复印装置等所用的曝光技术的曝光方法及装置。
背景技术：
：在用于例如半导体集成电路、液晶显示装置等的制造过程之一的光蚀刻制程中的曝光装置上，有一种采用成像光学系统而将屏蔽的图案曝光于感光材的投影曝光装置。举此种投影曝光装置的一例而言，则有一种在用以支持屏蔽的托架(holder)与用以支持感光材的平台(stage)之间配置成像光学系统的曝光装置。在这投影曝光装置中，在用作为成像光学系统的成像装置具有较大的尺寸时，托架(holder)与平台(stage)将被大幅隔开而配置。因此，用以平行保持托架与平台的机构、用以调整平台对于托架位置的机构、用以使托架或平台移动的机构等所需的尺寸、各种的精密度以及制造费用将大为增加。此外，在此投影曝光装置中，是声光学系统的空间内的上方配置托架，又在下方配置平台。因此，会产生必须经常考虑光学系统、托架以及平台相互间配置关系而进行设计装置的麻烦情况。为了解决上述麻烦情况，以往有例如支持于同一平台使屏蔽与感光材的各个被光入射的面能位于同一平面内，并令来自曝光用光源的光入射至屏蔽，使来自屏蔽的透过光凭借成像光学系统成像于感光材的投影曝光装置(例如美国专利第5,652,645号说明书)。在后者的投影曝光装置中，具有例如不再需要在夹置成像光学系统而将屏蔽与感光材配置成垂直方向时所需用以保持平行度、位置调整以及移动的机构，并可予以简化的优点，以及具有可减少曝光装置在垂直方向所需的空间的优点。但是，在后者的投影曝光装置中，在例如为制作较大的液晶面板而于较大的玻璃基板使屏蔽的图案曝光在形成为膜状的感光材时，将会有需要具有与所使用的屏蔽及感光材相符尺寸的平台，而使所需空间增大的问题。此外，如欲使具有较大尺寸的平台高速移动，则会有需要配合平台的重量或惯性等的麻烦情况发生。再者，在欲获得高曝光精密度例如较深的焦点深度而采用具有较大尺寸的成像光学系统时，必须将屏蔽与感光材大幅隔开而配置在平台。为了避免此点，而例如将成像光学系统配置在曝光装置内以使光在该成像光学系统内能以垂直方向行进时，则会产生因垂直方向所需空间增大而造成从屏蔽到感光材的光路长度将增大等问题。本发明的目的，是在于将用以支持屏蔽以及感光材所需的空间更为缩小。
发明内容有关本发明的曝光方法，是一种使曝光用屏蔽的图案曝光于感光材的方法，包括使来自曝光用光源的光的至少一部分，入射至支持于支持装置的前述屏蔽的入射步骤；以及引导来自前述屏蔽的反射光，使其成像在支持于前述支持装置的前述感光材，从与光源的光入射到前述屏蔽的入射方向不同的方向接收该反射光的成像步骤。有关本发明的曝光装置，是一种使曝光用屏蔽的图案曝光于感光材的装置，包括具备支持前述屏蔽使接收来自曝光用光源的光的至少一部分的第1支持部；以及支持前述感光材从与光源的光入射于前述屏蔽的入射方向不同的方向接收来自前述屏蔽的反射光的第2支持部的支持装置；配置在前述光源与前述屏蔽间的光路，使来自前述光源的光的至少一部分通过，并同时改变来自前述屏蔽的反射光的行进方向的半透明镜(halfmirror)；以及引导来自前述半透明镜的反射光成像于前述感光材的成像光学装置。依据本发明，来自屏蔽的反射光，是被引导从与光对于屏蔽的入射方向不同的方向入射而成像于感光材。换言之，光对于屏蔽的入射方向与来自屏蔽的反射光对于感光材的入射方向并不相同。此外，并未如现有技术一般，使屏蔽与感光材支持于同一平台使各个被光入射的面能位于同一平面内。因此，凭借适当地选择来自屏蔽的反射光对于感光材的入射方向，以使其与光对于屏蔽的入射方向不同，并例如置换光对于屏蔽的入射方向与来自屏蔽的反射光对于感光材的入射方向，即可使支持屏蔽以及感光材所需的空间缩小。曝光方法，更可包括使对于前述屏蔽的入射光以及对于前述感光材的入射光，与前述支持装置相对地以2维方向移动的移动步骤。借此，即可使与曝光有关的光与屏蔽以及感光材相对地方以2次元移动而曝光，并可采用小面积的照射领域以作为曝光用的照射领域，故可使光源装置以及成像光学系统更为小型化。前述成像步骤，可包括使来自前述屏蔽的反射光，通过配置在前述光源与前述屏蔽之间的光路的半透明镜(halfmirror)，而改变前述反射光的行进方向的变更方向步骤；以及使在前述变更方向步骤被变更行进方向的变更光通过数个反射镜以及至少1个成像透镜，而变更该变更光的行进方向并同时使前述感光材成像的步骤。借此，可使来自曝光用光源的光的至少一部分入射至屏蔽并同时可改变来自屏蔽的反射光的行进方向。此外，可易于调换光的对于屏蔽的入射方向与来自半透明镜(halfmirror)的反射光对于感光材的入射方向，且可使支持屏蔽以及感光材所需的空间缩小。前述成像步骤，更可包括配置在前述半透明镜(halfmirror)与前述感光材之间的光路的棱镜，该棱镜是具有供光入射的光入射用的面以及使所入射的光逸出的光出射用的面，而改变入射至前述光入射用的面的光的至少一部分的行进方向。借此，可采用具有较小尺寸的成像光学系统，并使整体曝光装置大小的尺寸缩小。前述入射步骤，更可包括使入射光对于前述屏蔽的至少一部分，入射至与相对于前述屏蔽并对该屏蔽的光入射侧的相反侧的位置而支持于前述支持装置的第2感光材。借此，即可在一次的曝光中使2个感光材曝光。前述成像光学装置，是可具备配置在前述半透明镜与前述感光材之间的光路的数个反射镜以及至少1个成像透镜。借此，可易于对调光的对于屏蔽的入射方向与来自半透明镜的反射光对于感光材的入射方向，且可使支持屏蔽以及感光材所需的空间缩小。前述成像光学装置，更可具备配置在前述半透明镜(halfmirror)与前述感光材之间的光路的棱镜，此棱镜是具有供光入射的光入射用的面以及使所入射的光逸出的光出射用的面，而改变入射至前述光入射用的面的光的至少一部分的行进方向。借此，即可形成具有较小尺寸的成像光学系统，并使整体曝光装置大小的尺寸缩小。前述第1支持部也可作成将第2感光材支持于与相对于前述屏蔽并对该屏蔽的光入射侧的相反侧的位置。借此，即可在一次的曝光中使2个感光材曝光。图1是表示本发明的曝光装置的第1实施例的侧面图；图2是表示本发明的曝光装置的第2实施例的侧面图；图3是表示采用图2的曝光装置进行扫描曝光时的支持装置的移动；图4是表示本发明的曝光装置的第3实施例的侧面图；图5是表示本发明的曝光装置的第4实施例的侧面图。具体实施例方式参照图1进行实施例。曝光装置10，是包括用以支持屏蔽12与被曝光物14的支持装置16；配置在光源装置18与屏蔽12之间的光路的半透明镜20；为使与半透明镜20共同形成约略长方形而配置在该长方形的3个内角的部分的3个反射镜22、24、26；以及配置在反射镜22与反射镜24之间的光路的成像系统28。在以下说明的图1中，将上下方向称为“上下方向”，左右方向称为“左右方向”，对纸面垂直的方向称为“前后方向”，由纸面的表面往背面的方向称为前方，由纸片的背面往表面的方向称为“后方”。光源装置18，是具有光源30与凹面镜32，其配置在支持装置16的屏蔽12被支持的位置的大略上方。来自光源30的光的至少一部分是形成为平行的光束A。以光源30而言，是例如可采用超高压水银灯。以屏蔽12而言，是例如可采用具有光透过性的玻璃基材以及在该基材的至少其中一面形成预定图案的光反射性的金属膜的屏蔽。以被曝光物14而言，是例如可采用具有基材以及形成于该基材的感光层的被曝光物。在图1中，被曝光物14是具有与屏蔽12大约相同大小的尺寸。支持装置16是设成将屏蔽12承接于上侧支持部34并使其金属膜朝向上方，并以未图标的上侧安装装置将该屏蔽安装于上侧支持部34成可以卸除。此外，支持装置16是设成将被曝光物14承接于下侧支持部36并使其感光层朝向下方，并以未图标的下侧安装装置将该被曝光物安装于下侧支持部36位于屏蔽12的大约下方并且可以卸除。如上所述，如将被曝光物14位于屏蔽12的大约下方，则与例如将屏蔽12以及被曝光物14均安装于支持装置16的上方侧情况相比较，支持装置的左右方向的尺寸较小。半透明镜(halfmirror)20，最典型的为包含平板状的玻璃基材以及以蒸镀形成在该基材的金属或电介质的薄膜，因应入射光的入射方向及入射角度而使入射光的至少一部分穿透过，并将剩余的至少一部分予以反射。半透明镜20，是配置在光源装置18与屏蔽12之间的光路，使其对于几乎呈直角入射至屏蔽12的光束A成为大约45度。半透明镜20，是使来自光源30的光的至少一部分穿透而导入至屏蔽12，并将来自屏蔽12的反射光予以反射，以使其行进方向由箭头C的方向转变成对箭头D的方向，即对箭头C的方向几乎成为直角。反射镜22、24、26，是对于来自半透明镜20的反射光，依序地将该行进方向变成大约直角，并将其引导成对被曝光物14的光束E。成像透镜28，是使来自反射镜22的反射光，成像于被曝光物14的感光层(将成像光的概念性的光路以虚线F、G、I、J与K表示)，以使屏蔽12的图案能以相同倍率复印至曝光物14的感光层。其次，就凭借曝光装置10而能1次使屏蔽12的整体图案曝光的所谓的一次性曝光的曝光方法进行说明。在曝光之前，先将屏蔽12与被曝光物14安装在支持装置16。凭借操作曝光装置10的未图标的控制面板，将激活信号输出至未图标的控制装置。接收激活信号的控制装置，对光源装置18传送发光开始信号。接收发光开始信号的光源装置18，使光源30发光预定时间，并以凹面镜32将所发光的光予以反射而产生光束A。半透明镜20，是使光束A的至少一部份穿透过。透过光是向箭头B的方向行进并入射至屏蔽12。入射于屏蔽12的入射光的至少一部份，是由屏蔽12的金属膜反射，并大致向箭头C的方向行进。半透明镜20，是使来自屏蔽12的反射光变换为相对于箭头D的方向，即相对于箭头C的方向大致成直角，再引导至反射镜22。反射镜22，是使来自半透明镜20的反射光的行进方向变换成大致直角再引导至成像透镜28。成像透镜28，将来自反射镜22的反射光成像于被曝光物14的感光层再引导至反射镜24。反射镜24将来自成像透镜28的光的行进方向变换成大致直角再引导至反射镜26。反射镜26将来自反射镜24的反射光，引导成对被曝光物14的感光层的光束E。被引导至被曝光物14的感光层的光是成像于该感光层，借此，屏蔽12的图案即复印在被曝光物14的感光层。在曝光结束后，将被曝光物14由支持装置16卸除。之后，进行被曝光物14的感光层的显像处理。入射至屏蔽12的光束A以及入射至被曝光物14的感光层的光束E的光轴是约位于同一线上，光束剖面积大致相等，并由于光入射方向相反，故可将屏蔽12配置成使光束A入射至该屏蔽，并将被曝光物14配置成使光束E入射至该被曝光物。如上所述，如果将屏蔽12以及被曝光物14背靠背地安装在支持装置16，则不会产生如现有的曝光技术般，在例如将屏蔽以及被曝光物均支持于支持装置的上方侧的曝光技术时所发生的屏蔽与被曝光物间的距离需要与成像尺寸大小关连的问题，且可将支持屏蔽以及被曝光物所需的面积予以最小化。在凭借曝光装置10的曝光下，屏蔽12的图像，是被以左右方向倒置的图像复印至被曝光物14的感光层。因此，屏蔽12必须考虑此左右倒置关系进行设计。即屏蔽12对于原先期望的图案，需预先制作成左右倒置的图案。曝光装置10，并不以前述的构成为限，也可以变更如下。在有关于被曝光物14对于下侧支持部36的安装上，亦可例如于下侧支持部36采用具有用以吸引被曝光物14的数个吸着孔或沟的吸着用支持板，以凭借未图标的吸引装置将被曝光物14吸着固定。为使被曝光物14能以高精密度对准屏蔽12，而可使例如XYθ平台(table)之类的位置调整装置安装于下侧支持部36，并使被曝光物14安装于该位置调整位置。上面虽就成像透镜28作为单一的透镜进行了说明，但也可例如因分辨率而采用数个透镜。以数个透镜而言，例如可采用图像扩大倍率为1对1的远心光学系统(telecentricopticalsystem)。成像透镜28，是可配置成使屏蔽12的反射光成像于被曝光物14的感光层。也可适当变更成像透镜28的透镜构成的设计，使成像透镜28配置于半透明镜20与被曝光物14之间的光路的其中之一的位置。在有关成像透镜28方面，也可变成像透镜28的配置及透镜构成，使屏蔽12的图案以扩大倍率或缩小倍率复印在被曝光物14的感光层。光源装置18也可配置成使光束A大约垂直入射至屏蔽12。此外，也可将光源装置18配置在支持装置16的斜上方及侧方，并以反射镜或照明光学系统等的导光系统，将来自光源30的光引导而使其大约垂直入射至屏蔽12。为了防止入射光对于屏蔽12的光透过部分(未形成金属膜的部分)的例如回馈光所导致的曝光不良，可将光吸收构件置于与屏蔽12的光入射侧的相反侧，以及与上侧支持部之间。以屏蔽12而言，为了防止不必要的光所导致的曝光不良，可采用例如形成有光吸收层的屏蔽。以被曝光物14而言，也可采用具有有导电性的可挠性的薄膜基板与形成在该基板的感光层的被曝光物。在当薄膜基板例如为带状薄膜时，可采用使带状薄膜移动的机构，以变更带状薄膜的屏蔽12的图案被曝光的位置。在图2中，对于图1所示曝光装置10与共通的部分是赋予相同符号外，并省略共通部分的一部分。此外，在图2中的上下方向、左右方向、前后方向、前方与后方，也与图1情况相同。参照图2，曝光装置38，是为使光与屏蔽12以及被曝光物14相对地2次元移动而曝光，亦即施以所谓扫描曝光的装置。光源装置40，是为产生形成有光束剖面的光源光，使照射于较小的领域(例如具有约20mm的径尺寸的圆形领域)的装置。可采用具有圆形状或六角形状等照射领域，以作为此种光源光的照射领域。支持装置16，是使屏蔽12以及被曝光物14与图1所示曝光装置10同样地被支持。支持装置16，是安装于未图标的XY驱动装置，与该XY驱动装置一体移动。支持装置16，是以XY驱动装置向前后方向以及左右方向移动。在曝光装置38上，是使成像透镜42配置于半透明镜20与反射镜22之间的光路，并使成像透镜44配置在反射镜24与反射镜26之间的光路。成像透镜42，是使来自于半透明镜20的反射光成像于反射镜22与反射镜24之间的光路中的位置P，而成像透镜44，则是使来自反射镜24的反射光成像于被曝光物14的感光层(以虚线显示成像光的概念性的光路)，使屏蔽12的图案以等倍率复印至被曝光物14的感光层。来自屏蔽12的反射光，在成像于位置P的后，更成像于被曝光物14的感光层。成像于位置P的光所产生的影像，在位置P放置例如网版(screen)材，则在该网板材将映照出实象。在曝光装置38上，对于屏蔽12的入射光与对于被曝光物的入射光，其光轴也大致位于同一线上，光入射方向呈相反。此外，在采用曝光装置38的曝光上，屏蔽12的图像，是被以左右方向倒置的图像复印至被曝光物14的感光层。因此，屏蔽12必须考虑此左右倒置关是进行设计。即屏蔽12对于原先期望的图案，需预先制作成左右倒置的图案。其次，参照图2以及图3，以说明凭借曝光装置38，以使光与屏蔽12以及被曝光物14相对地2次元移动而曝光即施以所谓扫描曝光的曝光方法。在曝光之前，先使屏蔽12与被曝光物14安装在支持装置16。此外，如图3所示，预先使支持装置16凭借XY驱动装置移动，使光源光的照射领域Q位于接收屏蔽12的支持装置16的上侧支持部34的开始位置S。在曝光时，凭借同时施以将光源光照射至屏蔽12并以光学系统而将来自屏蔽12的反射光引导至被曝光物而曝光的制程；以及以XY驱动装置使支持装置16大约平行移动于XY平面的制程以进行扫描曝光。其详细内容说明如下。光源装置40是凭借曝光开始信号而产生光源光。与图1所示曝光装置10的曝光相同，光源光是透过半透明镜20照射至屏蔽12，而来自屏蔽12的反射光，则是凭借半透明镜20以及反射镜22、24、26而引导至被曝光物14的感光层。在采用曝光装置38的曝光时，来自屏蔽12的反射光，是采用成像透镜42、44而成像于被曝光物14的感光层。另一方面，XY驱动装置是以预定的速度使支持装置16仅移动距离M1，使位于开始位置S的光源光的照射领域Q相对于屏蔽12朝图3箭头L1的方向仅相对地移动距离M1。此距离M1，是设定成较屏蔽12的前后方向的长度，例如圆形的照射领域Q的直径尺寸的至少2倍长。凭借此支持装置16向后方的移动而使屏蔽12被扫描同时并达到照射领域。当照射领域Q超过屏蔽12而到达形成为上侧支持部34上的位置S1时，XY驱动装置是以预定的速度使支持装置16仅移动距离M2，使照射领域Q相对于屏蔽12朝图3箭头L2的方向仅相对地移动距离M2。此距离M2，是依照射领域Q的大小的尺寸而预先设定。再者，XY驱动装置是使支持装置16仅向前方移动距离M1，并使支持装置16仅向左方移动距离M2。此时，照射领域Q是位于位置S2。XY驱动装置在照射领域Q到达终了位置T的前，即在光源光对于整面屏蔽12的照射结束之前，是反复前述的驱动而使支持装置16移动。借此，以使屏蔽12的整面图案被曝光于被曝光物14的感光层。在凭借曝光装置38的扫描曝光时，虽是以移动支持装置16进行扫描曝光，但也可以使光学系统侧以及光源装置40、半透明镜20、反射镜22、24、26以及成像透镜42、44，对于支持装置16以2次元相对地移动以进行扫描曝光而形成一体成形者，而毋须移动支持装置16。在图4中，对于图1及图2所示曝光装置10及38与共通的部分是赋予相同符号外，并省略共通部分的一部分。此外，在图4中的上下方向、左右方向、前后方向、前方与后方，也与图1及图2情况相同。参照图4，在曝光装置46上，支持装置16也使屏蔽12及被曝光物14与图1所示曝光装置10同样地被支持。支持装置16，是以未图标的XY驱动装置向前后方向及左右方向移动。来自半透明镜20的反射光，可凭借反射镜48、50改变行进方向以引导至成像透镜52。来自半透明镜20的反射光，是可凭借透过反射镜48及50，将其行进方向改变为大约直角而到达成像透镜52。成像透镜52，是使来自反射镜50的反射光成像于被曝光物14的感光层，使屏蔽12的图案以等倍率复印至被曝光物14的感光层。在曝光装置46上，是使达哈棱镜54配置在成像透镜52与反射镜26之间的光路，使接收来自成像透镜52的光并引导该光至反射镜26。达哈棱镜54也被称为屋脊形棱镜或直视棱镜的棱镜。有关于达哈棱镜的原理及构造等，是载于例如鹤田匡夫所著《第5·光的铅笔》(2000年3月9日发行)、新技术Communications股份有限公司发行、第474页至第476页；小柳修尔所著《Optronics光技术用语辞典》(1994年1月18日第1版第1刷)、Optronics社股份有限公司发行、第5页左栏；辻内顺平所著理工学基础讲座11《光学概论I-基础与几何光学》(1989年7月10日初版第7刷)、朝仓书店股份有限公司发行、第60页至第62页等。一般而言，达哈棱镜是在望远镜变换光行进方向使倒立像变换成正立像以作为正立系统，并改变对于达哈棱镜的入射光的至少一部分行进方向以导入其入射光使未经直筒式棱镜时所形成的像的上下(或天地)以及左右倒置的棱镜。也可采用例如由数个直角棱镜所构成的1个波罗式棱镜(Porroprism)，具有与达哈棱镜54同样的光行进方向作用以取代达哈棱镜54。来自达哈棱镜54的光，是凭借反射镜26引导至被曝光物14的感光层。其次，参照图4，以说明凭借曝光装置46所进行扫描曝光的曝光方法。在凭借曝光装置46的曝光方法中，也与凭借如图2所示的曝光装置38的曝光方法相同，是同时施以将来自屏蔽12的反射光引导至被曝光物14而曝光的制程；以及以XY驱动装置移动支持装置16的制程，以使屏蔽12的整面图案曝光于被曝光物14的感光层。在曝光装置46上因可使成像透镜形成为1个，故曝光装置46，与图2所示曝光装置38相比较之下较为小型。此外，曝光装置46，由于用于此的成像系统更简单，故用以获得与成像有关的分辨率及尺寸精度等的光学性能的光学设计更容易。在图5中，对于图1所示曝光装置10与共通的部分赋予相同符号外，并省略共通部分的一部分，并以光线来表示光束。此外，在图5中的上下方向、左右方向、前后方向、前方以及后方也与图1的情况相同。参照图5，曝光装置56，是具有用以支持被曝光物58的支持装置60，使在1次曝光下即得以同时将被曝光物14以及第2被曝光物58予以曝光，而取代图1所示曝光装置10的支持装置16。屏蔽12，是具有玻璃基材与形成预定图案在该基材的光反射性的金属膜的如屏蔽之类的透过型的屏蔽。屏蔽12，是包含形成有金属膜的光反射部分(光遮蔽部分)与未形成金属膜的光透过部分。以被曝光物58而言，是例如可采用具有基材与形成在该基材的感光层的被曝光物。在图5中，被曝光物14是具有与屏蔽12大约相同大小的尺寸。支持装置60，是将被曝光物58承接在上侧支持部62使感光层朝向上方，更将屏蔽12承接在其上方使金属膜朝向上方或下方，并使被曝光物58以及屏蔽12凭借未图标的上侧安装装置以可装卸方式安装在上侧支持部62。上侧安装装置，当对于被曝光物58的曝光为密着曝光即接触曝光时，可使屏蔽12安装成放置在被曝光物58的构造，或当对于被曝光物58的曝光为靠近(proximity)曝光即近接曝光时，则可使屏蔽12与被曝光物58安装成相互在图5的上下方向具有距离的构造。为使被曝光物58能以高精密度对准屏蔽12，而可使仅有屏蔽12安装在上侧安装装置，例如使XYθ平台(table)之类的位置调整装置安装于上侧支持部62，也可使被曝光物58安装于该位置调整位置。支持装置60，是使将曝光物14与图1所示曝光装置10的支持装置16同样地支持。其次，参照图5以说明凭借曝光装置56而进行一次性曝光的曝光方法。被曝光物58的感光层，是凭借使透过半透明镜20的光源光经过屏蔽12的光透过部分而入射至被曝光物58的感光层而曝光。被曝光物14的感光层，则是凭借使来自屏蔽12的光反射部分的反射光被引导至被曝光物14的感光层而曝光。就有关于用作被曝光物14及58的各感光层的例如光阻(resist)进行说明。为使被曝光物14的感光层曝光而采用来自屏蔽12的反射光，而为使被曝光物58的感光层曝光则采用来自屏蔽12的透过光。凭借曝光被复印至被曝光物14的感光层的图像以及与被复印至被曝光物58的感光层的图像，是成为左右方向倒置的图像。但是，有关于凭借曝光后的光阻显像并以光阻的去除部分与非去除部分所形成的凹凸图案的倒置，若将被曝光物14的感光层形成正光阻，或将被曝光物58的感光层形成负光阻，则不会产生。曝光装置56，与图1所示曝光装置10相比较下，具有以1次曝光即可使2个被曝光物的感光层曝光的优点。图5所示支持装置60，可用以取代图2、图4所示支持装置16。本发明并不以上述实施例为限，只要不脱离发明主旨，也可作种种的修饰及变更。组件代表符号说明10、38、46、56曝光装置12屏蔽14、58被曝光物16、60支持装置18、40光源装置20半透明镜22、24、26、48、50反射镜28、42、44、52成像透镜30光源32凹面镜34、62上侧支持部36、64下侧支持部54直筒式棱镜权利要求1.一种曝光方法，是使曝光用屏蔽的图案曝光于感光材的方法，其特征在于，包括使来自曝光用光源的光的至少一部分，入射至支持于支持装置的前述屏蔽的入射步骤；以及引导来自前述屏蔽的反射光从与光源的光入射于前述屏蔽的入射方向不同的方向接收该反射光，而在支持于前述支持装置的前述感光材成像的成像步骤。2.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，更包括使对于前述屏蔽的入射光以及对于前述感光材的入射光，与前述支持装置相对地以2维方向移动的移动步骤。3.如权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于，前述成像步骤包括使来自前述屏蔽的反射光，通过配置在前述光源与前述屏蔽之间的光路的半透明镜，而改变前述反射光的行进方向的变更方向步骤；以及使在前述变更方向步骤被变更行进方向的变更光通过数个反射镜以及至少1个成像透镜，而变更该变更光的行进方向并同时在前述感光材成像的步骤。4.如权利要求3所述的曝光方法，其特征在于，前述成像步骤更包括配置在前述半透明镜与前述感光材之间的光路的棱镜，是具有供光的入射的光入射用的面以及使所入射的光射出的光出射用的面的棱镜，而改变入射至前述光入射用的面的光的至少一部分的行进方向。5.如权利要求1至4中任一项的曝光方法，其特征在于，前述入射步骤更包括使入射于前述屏蔽的入射光的至少一部分，入射至位于与相对于前述屏蔽并对该屏蔽的光入射侧的相反侧而支持于前述支持装置的第2感光材。6.一种曝光装置，是一种使曝光用屏蔽的图案曝光于感光材的装置，其特征在于，包括具备支持前述屏蔽使接收来自曝光用光源的光的至少一部分的第1支持部；以及支持前述感光材使从与入射光源的光于前述屏蔽的入射方向不同的方向接收来自前述屏蔽的反射光的第2支持部的支持装置；配置在前述光源与前述屏蔽间的光路，使来自前述光源的光的至少一部分通过，并同时改变来自前述屏蔽的反射光的行进方向的半透明镜；以及引导来自前述半透明镜的反射光成像于前述感光材的成像光学装置。7.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，其中，前述成像光学装置是具备配置在前述半透明镜与前述感光材之间的光路的数个反射镜以及至少1个成像透镜。8.如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，其中，前述成像光学装置更具备配置在前述半透明镜与前述感光材之间的光路的棱镜，该棱镜具有供光入射的光入射用的面以及使所入射的光射出的光出射用的面，而改变入射至前述光入射用的面的光的至少一部分的行进方向。9.如权利要求6至8中任一项的曝光装置，其特征在于，其中，前述第1支持部是支持第2感光材于与相对于前述屏蔽并对该屏蔽的光入射侧的相反侧的位置。全文摘要本发明的目的，是在于将用以支持屏蔽以及感光材所需的空间更为缩小。本发明的曝光方法包括使来自曝光用光源的光的至少一部分，入射到支持于支持装置的前述屏蔽的入射步骤；以及引导来自前述屏蔽的反射光，使其成像在支持于前述支持装置的前述感光材，从与光源的光入射到前述屏蔽的入射方向不同的方向接收该反射光的成像步骤。文档编号G03F7/20GK1445611SQ03120289公开日2003年10月1日申请日期2003年3月5日优先权日2002年3月14日发明者辻川晋,谷口幸夫,山口弘高,松村正清申请人:株式会社液晶先端技术开发中心