专利名称：光扫描装置及光扫描装置的盖玻片清洁机构的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于激光打印机等图像形成装置的图像写入曝光的光扫描装置，特别涉及使光束按顺序两次射入到旋转多面镜等的偏转反射面的光扫描装置。
本发明还涉及光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述清洁机构具有能够可靠地除去附着在盖玻片表面上的尘埃等的结构。
背景技术：
以往，在日本专利特开昭51-6563号中提出了如下的光扫描装置，即，所述光扫描装置面向以旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，通过两个固定平面镜依次反射被偏转反射面反射的偏转光束，从而通过使所述光束再次射入所述偏转反射面来进行光偏转，由此，来校正由偏转反射面的旋转轴的偏差(misalignment)或者偏转反射面自身每个面的偏差而导致的偏转光束出射方向的变化。
此外，在日本专利特开昭61-7818号(美国专利第4,796,965号)中提出了如下的光偏转光学系统，即，在所述光偏转光学系统中面向以旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，并使所述两个固定平面镜的棱线位于与偏转反射面的旋转轴正交的平面内，从偏转反射面与两个固定平面镜之间向偏转反射面入射光束，使所反射的偏转光束在所述两个固定平面镜上依次反射从而再次射入所述偏转反射面并被反射，从而使所述被反射的偏转光束通过偏转反射面与两个固定平面镜之间或者两个固定平面镜之间的间隙而射出，由此校正扫描线的歪曲(distortion)。
但是，在日本专利特开昭61-7818号中，由于没有进行分析研究，并且没有提及20°以下的入射角，因而无法适当地校正扫描线的歪曲。
如日本专利特开昭61-7818号中所公开，在利用同一个偏转反射面进行两次偏转的光学系统中，根据光束的入射角度，两次偏转反射后的光束的偏转轨迹会发生弯曲。因此，根据偏转后的扫描光学系统的透镜等光学部件的光轴方向的位置，有时在副扫描方向(与扫描垂直的方向)上需要较宽的有效范围。然而，在制造扫描光学系统的变形透镜时，要制造在主扫描方向和副扫描方向上都具有较宽的有效范围的透镜并不容易。因此，存在多个透镜的配置自由度变小的问题。
此外，若透镜等光学部件所需的有效范围变窄，则高精度地制作光学面就会变得容易。
不管怎样，若能够在光轴方向的任意位置将扫描线轨迹的弯曲抑制得很小，则会很有利。
然而，在如日本专利特开昭51-6563号中所提出的光扫描装置那样，通过利用偶数个固定平面镜依次进行反射，从而向同一偏转反射面入射两次来进行光偏转的光扫描装置中，从由偏转反射面的面偏差导致的扫描线位移的校正方面来看，没必要安装面偏差校正光学系统。
但是，如日本专利特开昭51-6563号那样，当光线与副扫描方向成直角地向偏转反射面入射、出射时，因为光线会在固定平面镜上发生干涉，所以无法将扫描角取得较大，因此必须使光线以非直角的角度向偏转反射面入射、出射。若这样，则会产生作为导致扫描线轨迹弯曲的原因的出射角度差。
此外，会在被扫描面上引起扫描线位移，所述扫描线位移量等于在因面偏差而产生的第二次偏转点的位移上乘以扫描光学系统的副扫描横向放大率β的值。
另外，当偏转反射面有扭曲或者弯曲，从而光束入射位置上的面偏差的值随着偏转反射面的旋转而发生变化时，与偏转反射面由纯平面构成的时候相比，会在出射角上产生差异，进而会产生扫描线轨迹的弯曲。此外，当偏转反射面的扭曲或者弯曲的程度根据每个偏转反射面而不同时，出射角度会在每个偏转反射面上发生变化，从而会在被扫描面上引起扫描线位移。
发明内容
本发明是鉴于现有技术的上述问题而完成的，其第一目的是在使光束向偏转反射面入射两次的光扫描装置中，减小扫描线轨迹的弯曲量，或者，使扫描线轨迹的弯曲量在任意位置上近似为零，从而缓解对扫描光学系统的透镜在光轴方向上的配置的限制。
本发明的第二目的是提供一种光扫描装置，所述光扫描装置以偶数个固定平面镜依次反射光束，使所述光束向同一偏转反射面入射两次，并进行光偏转，其中，没有由出射角度差引起的扫描线轨迹的弯曲而导致的扫描线弯曲，并且校正了由于面偏差或出射角的变化而产生的扫描线位移。
本发明的第三目的是提供一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述盖玻片清洁机构具有能够可靠地除去附着在盖玻片表面上的尘埃等的结构。
实现上述第一目的的本发明第一光扫描装置包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于，当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，通过设定，使得从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的出射光束的中心光线，与所述偏转反射面取最大旋转角时的出射光束的中心光线在所述入射平面上投影所得的直线大致平行。
此时，所述光扫描装置既可以构成为向偏转反射面第一次入射的光束通过两个固定平面镜之间的间隙而入射，并且被偏转反射面第二次反射的偏转光束通过两个固定平面镜之间的间隙而出射的结构，也可以构成为两个固定平面镜中的一个固定平面镜被夹在向偏转反射面第一次入射的光束与被偏转反射面第二次反射的出射光束之间的结构。
并且，所述光扫描装置优选为如下结构即，将向位于偏转反射面相对于所述入射平面垂直的位置上的偏转反射面第一次入射的光束的中心光线的入射角设为θ1，将从偏转反射面被第二次反射的出射光束的中心光线的出射角设为θ2时，满足如下关系0.33·θ1≤θ2≤0.37·θ1 (21)。
本发明的第二光扫描装置包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于，当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，将向位于所述偏转反射面相对于所述入射平面垂直的位置上的所述偏转反射面第一次入射的光束的中心光线的入射角设为θ1，将从所述偏转反射面第二次反射的出射光束的中心光线的出射角设为θ2时，满足如下关系0.33·θ1-1.27≤θ2≤0.35·θ1-1.50(22)。
在这种情况下，所述光扫描装置也是既可以构成为向偏转反射面第一次入射的光束通过两个固定平面镜之间的间隙而入射，并且被偏转反射面第二次反射的偏转光束通过两个固定平面镜之间的间隙而出射的结构，也可以构成为两个固定平面镜中的一个固定平面镜被夹在向偏转反射面第一次入射的光束与从偏转反射面第二次反射的出射光束之间的结构。
本发明的第三光扫描装置包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于，当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，通过设定，使得从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的出射光束的中心光线，与所述偏转反射面取最大旋转角度时的出射光束的中心光线在所述入射平面上投影所得的直线，在配置于从所述偏转反射面到被扫描面之间的扫描光学系统的光轴方向上的光学面中至少一个光学面附近交叉。
在这种情况下，所述光扫描装置也是既可以构成为向偏转反射面第一次入射的光束通过两个固定平面镜之间的间隙而入射，并且被偏转反射面第二次反射的偏转光束通过两个固定平面镜之间的间隙而出射的结构，也可以构成为两个固定平面镜中的一个固定平面镜被夹在向偏转反射面第一次入射的光束与从偏转反射面第二次反射的出射光束之间的结构。
实现上述第二目的的本发明第四光扫描装置包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射；照明光学系统，使光束向所述偏转反射面入射；和扫描光学系统，使被所述光偏转光学系统偏转的光束向被扫描面入射从而形成扫描线，所述光扫描装置的特征在于，当将包含从所述照明光学系统向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的该第二次的反射点与所述被扫描面在所述入射平面内大致共轭。
此时，优选如下结构即，向偏转反射面第一次入射的光束通过两个固定平面镜之间的间隙而入射，被偏转反射面第二次反射的偏转光束通过两个固定平面镜之间的间隙而出射。
此外，优选如下结构即，当从偏转反射面第二次反射的出射光束位于入射平面内时，从照明光学系统入射的光束在入射平面内会聚在第二次反射点附近。
此外，优选如下结构即，当设从偏转反射面第二次反射的出射光束位于入射平面内时的从第一次偏转点到第二次偏转点之间的传输距离为Ld，设偏转反射面的面误差角度为ε，设扫描光学系统在入射平面的方向上的横向放大率为β，设被扫描面上的扫描线间距为LP时，满足如下关系|β·Ld·tan(2ε)/cos(2ε)|≤0.25·LP (30)，或者，满足关系|β·Ld·tan(2ε)/cos(2ε)|≤0.125·LP(31)。
以上本发明的这些光扫描装置，例如可用作成像装置的写入图像的曝光装置。
本发明的第一至第三光扫描装置是一种利用了包括偏转反射面和两个固定平面镜的二次入射光偏转光学系统的光扫描装置，在这些光扫描装置中，通过设定，使得从偏转反射面被第二次反射的出射光束位于入射平面内时出射光束的中心光线，与偏转反射面取最大旋转角度时的出射光束的中心光线在入射平面内投影所得的直线大致平行，或者，满足式(22)，或者，通过设定，使得上述的中心光线和直线在配置于扫描光学系统的光轴方向上的光学面中至少一个光学面附近交叉，从而，扫描光学系统的光学面上的扫描线轨迹的弯曲量变小或者近似为零，由此提高了扫描光学系统的配置位置的自由度，同时还减小了扫描光学系统的副扫描方向上的尺寸，从而能够以低成本来提供小型且高精度的扫描光学装置。
此外，本发明的第四光扫描装置是一种利用了包括偏转反射面和两个固定平面镜的二次入射光偏转光学系统的光扫描装置，在所述光扫描装置中，由于从偏转反射面第二次反射的出射光束位于入射平面内时的该第二反射点与被扫描面在入射平面内大致共轭，因此，向被扫描面会聚的出射光束在副扫描方向上的位置，即使在偏转反射面的旋转角发生变化时也不会发生移动，从而即使存在由出射角度差引起的扫描线轨迹的弯曲，也不会产生扫描线弯曲，从而可使被扫描面上的扫描线为近似直线。
本发明的光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，将所述盖玻片突出设置在安装部件上，并设定清洁杆的行程长度，使得在所述清洁杆的动作方向端部的至少一端上，所述清洁部件移动到盖玻片端部的外侧。
此外，本发明的特征在于，设定所述清洁杆的行程长度，使其大于所述盖玻片长度方向上的长度。
此外，本发明是光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，在所述盖玻片上设置导向部件，使得所述清洁杆沿着所述导向部件，与盖玻片平行地进行往复运动。
此外，本发明的特征在于，所述导向部件被设置在盖玻片的整个长度上。
此外，本发明是光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，在所述清洁杆的长度方向上形成细长孔，使得在压入所述清洁杆的状态下不遮挡扫描光。
此外，本发明是光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，设有停止部件，用于在压入所述清洁杆时阻止清洁杆终端部分的前进。
此外，本发明的特征在于，将所述停止部件设置在所述盖玻片的安装部件上。
此外，本发明的特征在于，将所述停止部件设置在所述导向部件上。
此外，本发明是光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，设有在压入所述清洁杆时限制清洁杆移动的移动限制部件，和与所述移动限制部件相啮合的啮合部件。
此外，本发明的特征在于，将所述移动限制部件设置在所述清洁杆上，将所述啮合部件设置在盖玻片的安装部件上。
此外，本发明的特征在于，将所述移动限制部件设置在所述清洁杆上，将所述啮合部件设置在所述导向部件上。
此外，本发明的特征在于，将所述移动限制部件设置在所述盖玻片的安装部件上，将所述啮合部件设置在所述清洁杆上。
此外，本发明的特征在于，将所述移动限制部件设置在所述导向部件上，将所述啮合部件设置在所述清洁杆上。
此外，本发明是光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，设有止动器，用于在拉出所述清洁杆时防止清洁杆从所述导向部件脱离。
此外，本发明的特征在于，设有所述止动器的解除部件，从而可使清洁杆从所述导向部件脱离并从装置主体上卸下。
此外，本发明是光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，在所述清洁杆的前端部分可装卸地安装了所述清洁部件。
此外，本发明是光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，设有将所述清洁部件压向盖玻片上的弹性件。
本发明的光扫描装置的盖玻片清洁机构，将盖玻片突出设置在安装部件上，同时还具有清洁杆，在该清洁杆前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件，并且设定压入了所述清洁杆时的前端部分的行程长度，使得在所述清洁杆的动作方向端部的至少一端上，所述清洁部件移动到盖玻片端部的外侧。因此，当压入了清洁杆时，清洁部件离开盖玻片落到下部，从而抖落附着在清洁部件上的污垢或尘埃。此外，残留于清洁部件上的污垢或尘埃在盖玻片的端部被刮掉，从而可以防止在使清洁杆回归时，残留于清洁部件上的污垢或尘埃再次附着到盖玻片上，由此，即使在进行了多次清洁后仍能将清洁部件或盖玻片的表面维持在干净的状态。
此外，在盖玻片上设有导向部件，使所述清洁杆沿着所述导向部件与盖玻片平行地进行往复运动。因此，清洁部件通过恒定的压力被压在盖玻片上，从而能够对盖玻片进行恰当的清洁，而不留擦拭斑点。另外，通过所述导向部件，可以防止操作员或者由异物的附着而污染盖玻片。
此外，导向部件被设置在盖玻片的整个长度上。因此，可以防止因清洁部件离开清洁杆而接触盖玻片以外的部分所导致的清洁部件的污染。另外，通过设置这种导向部件，可以提高盖玻片与清洁部件之间的位置精度。
此外，在清洁杆的长度方向上形成细长孔，使得在压入所述清洁杆的状态下不遮挡扫描光。从而，通常可在安装了清洁杆的状态下使用光扫描装置，因此，不必将清洁杆卸下来进行保管，从而可防止清洁杆的丢失。此外，还可以防止将清洁杆保存在其他地方时的污染。
此外，设有停止部件，用于在压入清洁杆时阻止清洁杆的前进。因此，可以防止清洁杆的过度前进，从而可使清洁杆不做多余移动。
此外，设有啮合部件，用于在压入清洁杆时与设置在清洁杆终端部分的移动限制部件相啮合。因此，可以防止发生因清洁杆振动而使得附着在清洁部件上的尘埃等向盖玻片上飞散的情况。此外，由于所述使凹凸部分啮合的啮合部件作为棘爪机构起作用，所以有操作员能够在压入清洁杆时在感觉上确认移动线路终端位置的优点。另外，通过将所述啮合部件与安装部件形成一体，可以减少部件数量。
此外，设有止动器，用于在拉出清洁杆时使其不从导向部件脱离。因此，不必在再次压入清洁杆时进行与导向部件的定位，可提高操作性。此外，还可以防止清洁杆的丢失。
此外，还设有止动器的解除部件，使得能够将止动器从所述导向部件脱离并从装置主体上卸下。因此，可提高例如在进行清洁部件的清洁、或随着老化而进行更换时的维修便利性。
此外，将清洁部件可装卸地安装在清洁杆的前端部分。因此，能够简单地进行清洁部件的检修或者更换。
此外，由于设有将清洁部件压在盖玻片上的弹性件，因此能够有效地除去附着在盖玻片的表面上的尘埃或污垢。
图1是本发明第一实施方式的光扫描装置的整体结构立体图；图2是作为图1中光扫描装置的主要部分的光偏转光学系统的立体图；图3是用于说明在偏转反射面上进行了第一次反射的光束的扫描线轨迹弯曲的图；图4是用于说明入射光束相对于偏转反射面的入射角θ1与出射光束的出射角θ2的定义的图；图5是将光束投影到入射平面上的图；图6是将光束投影到与偏转反射面的旋转轴垂直的平面上的图；图7是偏转反射面朝向正面和旋转了旋转角ω时的光束a0与a1的角度关系示意图；图8是偏转反射面旋转了旋转角ω时的光束a3与a4的角度关系示意图；图9是用于研究在偏转反射面上进行了第一次反射的光束a1的方向向量的分量的图；
图10是用于研究向偏转反射面第二次入射的光束a3的方向向量的分量的图；图11是绘出了使φ2＝0的θ1与θ2关系的图；图12是使φ2≤0.6°的范围的边界示意图；图13是用于说明基于偏转反射面的旋转的第一次偏转反射点的垂量Δ1、以及第二次偏转反射点的垂量Δ2的图；图14是将基于偏转反射面的旋转的第一次偏转反射点的垂量Δ1与第二次偏转反射点的垂量Δ2相加而得的Δ’的说明图，以及第二次偏转反射点附近的放大图；图15是基于第一次偏转反射点的垂量Δ1及第二次偏转反射点的垂量Δ2的反射光束a1、a4的偏移量的示意图；图16是第一实施方式的一个具体例子中使弯曲量δ近似为零的θ1与θ2的关系示意图；图17是作为本发明第一实施方式中的另一方式的光扫描装置的主要部分的光偏转光学系统的偏转反射面朝向正面时光束a1与a4的角度关系示意图；图18是本发明第二实施方式的光扫描装置的整体结构立体图；图19是作为图18的光扫描装置的主要部分的光偏转光学系统的立体图；图20是在绘出了使θ1与θ2之比改变时与偏转反射面的旋转角ω相对的出射角度差φ2的图；图21是为说明本发明第二实施方式的光扫描装置而将出射光束a4投影到入射平面上的图，其中示出了从偏转反射面经过扫描光学系统到被扫描面的部分；图22是偏转反射面存在面误差时的与图5相同的图及辅助图；图23是用于说明在第二次偏转反射点有移动时被扫描面上的扫描线移动的图；图24是在偏转反射面上具有扭曲或弯曲时的出射光束a4的状况示意图；图25是用于说明根据本发明第二方式的光扫描装置可减小光学多面体的厚度的图；
图26是光扫描装置的一个例子的示意说明图；图27是表示基于本发明的光扫描装置的盖玻片清洁机构一个例子的简要立体图；图28是表示图27的清洁杆被拉出的状态的立体图；图29是表示图27的清洁杆被压入的状态的立体图；图30是局部表示盖玻片清洁机构的示意性纵剖主视图；图31是表示本发明实施方式的示意立体图；图32表示导向部件的一个例子的示意性纵剖侧视图；图33是表示导向部件的另一例子的示意性纵剖侧视图；图34是表示本发明实施方式的清洁杆的例子的示意立体图；图35是局部表示导向部件在长度方向的一个端部的示意立体图；图36是局部表示清洁杆在长度方向的一个端部的示意立体图；图37是局部表示本发明实施方式的纵剖主视图；图38是局部表示本发明实施方式的纵剖主视图；图39是表示本发明实施方式的示意立体图；图40是图39的示意性纵剖主视图；图41详细表示止动器的立体图；图42是表示止动器的动作的示意性纵剖主视图；图43是清洁杆的分解立体图；图44表示从下方看到的清洁杆状态的示意立体图；图45是表示以往的盖玻片设置部分的一个例子的示意立体图。
具体实施例方式
下面，基于附图详细说明本发明光扫描装置的原理和实施例。
图1是本发明第一方式的光扫描装置的整体结构立体图，图2是其主要部分的光偏转光学系统的立体图。
在所述结构中，光偏转部分由在多面柱的侧面上具有多个(图中为6个)偏转反射面11的光学多面体10构成，偏转反射面11绕着其旋转轴12旋转。并且，面向参与光偏转的偏转反射面11，配置有两个固定平面镜13、14，所述固定平面镜13、14相互成一定角度，并在它们之间有间隙15。
此外，来自光源21的光通过透镜22变成平行光束a0，该光束a0通过固定平面镜13与14之间的间隙15在沿着旋转轴12所取的图的情况下从斜下方入射到偏转反射面11上。在所述偏转反射面11进行了第一次反射的光束a1向斜上方前进，入射到一侧的固定平面镜13上，在那里反射了的光束a2向下方前进，这次入射到另一侧的固定平面镜14上，在那里反射了的光束a3再次向偏转反射面11入射，在该偏转反射面11上进行了第二次反射的光束a4通过固定平面镜13与14的间隙15向斜上方前进，经由扫描光学系统23而被转换成会聚光束，入射并会聚到被扫描面24上。由于偏转反射面11绕着旋转轴12旋转，所以，该会聚光束以偏转反射面11的旋转速度的约4倍的旋转速度移动，从而在被扫描面24上绘出扫描线b。由于随着光学多面体10的旋转，相邻的偏转反射面11依次进出入射光束a0的入射位置，所以随着光学多面体10的旋转，在被扫描面24上的相同位置上从一端到另一端依次绘出扫描线b。这一方向的扫描为主扫描。通过以恒定速度向正交于扫描线b的方向对被扫描面24上的被扫描体进行副扫描，从而在被扫描体上进行扫描线b以恒定间距并列的光栅扫描。
这里，如果将包含入射光束a0的中心光线的与旋转轴12平行的平面定义为入射平面，则两个固定平面镜13、14相对于入射平面垂直配置。
图3是用于说明在偏转反射面11进行第一次反射后的光束a1的扫描线轨迹b′的弯曲的图。当入射光束a0与偏转反射面11的旋转面(垂直于旋转轴12的面)不平行时，被偏转反射面11反射的光束a1的扫描线轨迹b′如图3所示发生弯曲。在图3中，定义扫描线轨迹b′的弯曲量δ为在与入射平面内的光束a1垂直的平面内从没有弯曲的扫描线轨迹b″偏移的量。另外，扫描线b与扫描线轨迹b′、b″的区别在于，经由扫描光学系统23而被聚光到被扫描面24上的扫描线轨迹为扫描线b，而从偏转反射面11至被扫描面24的任意位置上的出射光束a4的轨迹为扫描线轨迹。
即使在图1、图2所示的两次入射光偏转光学系统中，即使构成了通过入射光束a0及出射光束a4的角度θ1、θ2(图4)来使扫描线b不产生弯曲的扫描光学系统23，也会产生扫描线轨迹的弯曲。角度θ1、θ2的定义将在后面叙述。
此外，从图3可知，在这种二次入射光偏转光学系统中，从第一次偏转反射开始到第二次偏转反射之间也产生扫描线轨迹的弯曲。但事实上，从第一次偏转开始到第二次偏转之间的光路长度，与扫描光学装置整体的光路长度(在偏转反射面11上从第一次反射点开始到被扫描面24为止的光路长度)相比起来很短，因此在这里所产生的弯曲量较小。倒不如说，由于随光偏转光学系统中的偏转所产生的出射光束a4的出射角度差，根据离偏转反射面11的距离产生的扫描线轨迹的弯曲才是支配性的。
这里，研究在图1、图2的结构中由出射光束a4的偏转所产生的出射角度差。
如图4所示，当偏转反射面11垂直于入射平面并朝向正面时，光束a0～a4全都位于纸面的入射平面内，将此时的入射光束a0相对于偏转反射面11的入射角设为θ1，出射光束a4的出射角为θ2。
图5是将光束a0～a4投影到入射平面上的图，其中，实线是偏转反射面11朝着正面且光束a0～a4位于入射平面内时的情况，虚线是将偏转反射面11从朝向正面的状态旋转了旋转角ω时的光束a0～a4投影到入射平面上的图。此外，图6是将偏转反射面11从朝向正面的状态旋转了旋转角ω时的光束a0～a4投影到与偏转反射面11的旋转轴12相垂直的平面(旋转面)上的图。
此外，图7是表示光束a0与a1的角度关系的图，其中图7(a)示出了在偏转反射面11朝着正面时的光束a0与a1的角度关系，图7(b)示出了在偏转反射面11旋转了旋转角ω时的光束a0与a1的角度关系，图8是偏转反射面11旋转了旋转角ω时的光束a3与a4的角度关系的示意图。这里，如图5所示，φ1是将光束a1投影到入射平面上时偏转反射面11朝着正面时与旋转了旋转角ω时的出射角的差，φ2是将光束a4投影到入射平面上时偏转反射面11朝着正面时与旋转了旋转角ω时的出射角的差(出射角度差)。此外，如图6所示，2ω′是偏转反射面11旋转了旋转角ω时，投影到与偏转反射面11的旋转轴12相垂直的平面上的光束a3相对于入射平面的角度。
如上所述，由出射光束a4的偏转所产生的出射角度差是指，在作为向入射平面的投影图的图5中，出射光束a4位于入射平面内时的出射光束a4，与在偏转反射面11取最大旋转角度ω时出射光束a4在入射平面上投影所得的直线所成的角度φ2。
如图1所示，作为光扫描装置的扫描光学系统23，通常在光束a4的扫描方向上使用由塑料等成型而得的细长的光学部件。在塑料成型的光学部件中，由于难以使宽度方向的有效范围大于5mm，所以，扫描线轨迹在扫描光学系统23的位置上的弯曲量δ也被要求抑制在5mm以下。
从而，通过使出射光束a4位于入射平面内时的出射光束a4的中心光线，与在偏转反射面11取最大旋转角度ω时出射光束a4的中心光线在入射平面上投影而得的直线(图5的实线与虚线的出射光束a4)大致平行，可以将扫描线轨迹的弯曲量限制在构成扫描光学系统23的透镜的有效范围内。这里所说的大致平行是指，如上所示，在构成扫描光学系统23的透镜面上，扫描线轨迹的弯曲量为5mm以下的范围，该值是根据上述塑料成型的光学部件在宽度方向上的有效范围的限制而确定的。另外，中心光线是指经由构成照明光学系统的透镜22的光轴的光线，以下的光束a0～a4就表示该光线。
这里，将对上述出射角度差φ2进行研究。
首先，考虑第一次偏转。从图7(b)可知，φ1可如下表示L·tan(θ1+φ1)＝L·tanθ1/cos2ω (1)，∴φ1＝tan-1(tanθ1/cos2ω)-θ1 (2)。
下面，考虑第二次向偏转反射面11入射的光束a3的状态。
如图9所示，若假设一个将入射平面作为S-U面、将与偏转反射面11的旋转轴12垂直的面作为T-U面的座标系，并将在偏转反射面11上进行了第一次反射的光束a1的方向向量(单位向量)在各座标方向上的分量设为(s，t，u)，则_(s2+t2+u2)＝1 (3)。将该光束a1的方向向量向S-U面投影所得的大小d可表示为d＝_(s2+u2) (4)。
此外，由于偏转反射面11的旋转角为ω，因此u·tan 2ω＝t (5)u·tan(θ1+φ1)＝s (6)，从式(3)、式(5)及式(6)可得u2＝1/{tan2(θ1+φ1)+tan22ω+1} (7)，从式(4)、式(6)及式(7)可得d2＝u2·{tan2(θ1+φ1)+1}＝{tan2(θ1+φ1)+1}/{tan2(θ1+φ1)+tan22ω+1} (8)。
若在图10中取与图9相同的座标系，并将向偏转反射面11第二次入射的光束a3的方向向量(单位向量)在各座标方向上的分量设为(s’，t’，u’)，则_(s’2+t’2+u’2)＝1 (9)。
从第一次偏转到第二次偏转之间，由于光束在与S-U面(入射平面)垂直的固定平面镜13与14之间折回，因此将(s’，t’，u’)投影到S-U面上时的大小(将光束a3的方向向量向S-U面投影时的大小)d’，有d’＝d。因此，d’＝d＝_(s’2+u’2)＝_(s2+u2)(10)，此外，可得u’·tan2ω’＝t’ (11)，u’·tan(θ2-φ1)＝s’ (12)。
从式(9)和式(10)可得t’2＝1-d2(13)，从式(9)、式(12)及式(13)可得u’2·{tan2(θ2-φ1)+1}+(1-d2)＝1(14)，∴u’2＝d2/{tan2(θ2-φ1)+1} (15)，从式(11)和式(15)可得
|2ω’|＝|tan-1(t’/u’)|＝tan-1[_〔(1-d2){tan2(θ2-φ1)+1}/d2〕](16)，式(16)中的d2用式(8)表示。
下面，考虑从光束a3向光束a4的第二次偏转。对于图8的A-A截面与B-B截面(与入射平面平行的截面)，tanγ＝tan(θ2-φ1)·cos2ω’(17)，另外，由于C-C截面的γ’有γ’＝γ，故tanγ’＝tanγ＝tan(θ2-φ1)·cos2ω’ (18)，如果将C-C截面投影到入射平面上，则tan(θ2+φ2)＝tanγ’/cos(2ω+2ω’)＝cos2ω’·tan(θ2-φ1)/cos(2ω+2ω’) (19)，将该式(19)对φ2展开，得φ2＝tan-1{cos 2ω’·tan(θ2-φ1)/cos(2ω+2ω’)}-θ2 (20)。
通过以上的式(20)、式(16)、式(8)，出射光束a4位于入射平面内时的出射光束a4，与在偏转反射面11取最大旋转角ω时出射光束a4在入射平面内投影所得的直线所形成的出射角度差φ2，可以通过已知的值来表达。
另外，图11是相对于ω＝7.5°、10°、12.5°、17.5°而绘出的使得φ2＝0的θ1与θ2的关系。这里，ω的上下限为7.5°～17.5°是由于，偏转光束a4的偏转角为大概±4ω，而事实上其最小值与最大值为±30°～±70°的缘故。从图11的结果可知，在以下的式(21)所表示的范围内，扫描线轨迹的弯曲量在光轴方向位置上的变化可以被抑制得很小，0.33·θ1≤θ2≤0.37·θ1(21)。
此外，在近年来的电子照相工艺的扫描光学装置中，为了削减成本，在扫描光学系统23中多利用复曲面等非球面的塑料成型光学部件来削减透镜数目。但是，非球面的光学面与球面相比起来难以高精度地制造，可确保的副扫描方向的有效范围更加狭窄，因而需要将这种光学面上的扫描线轨迹的弯曲量更狭窄地抑制在3mm以下。为了满足该条件，最好出射角度差φ2满足φ2≤0.6°。
即，例如，如果使偏转光束a4的偏转角(全角)为65°，则作为被扫描面24的主扫描方向的长度，当在A3版的短边的长度上加上了用于对扫描的同步信号进行检测的距离而为310mm时，需要大约277mm的焦距。延长从偏转反射面11到具有非球面的光学面的部件(扫描光学系统23)之间的距离达到焦距的277mm左右，如φ2＝0.6°，则277×tan(0.6°)＝2.9mm，从而可以使扫描线轨迹的弯曲为3mm以下。在上述例子中，是将从偏转反射面11到扫描光学系统23的光学面之间的距离作为277mm来进行计算的，但是并不仅限于该数值，通过使φ2≤0.6°，如果将具有不是单纯的球面而是较难加工的面的光学部件作为扫描光学系统23，并将其配置成距偏转反射面11的距离为286mm以下，则该光学面上的扫描线轨迹的弯曲量可以被抑制在3mm左右。
图12示出了对于光束偏转角度(半角)50°以下，φ2≤0.6°的范围的边界。通过图12，有0.33·θ1-1.27≤θ2≤0.35·θ1-1.50 (22)。
为满足该关系，通过设定θ1、θ2，可以在实际的扫描光学系统23的位置上使得扫描线轨迹的弯曲为3mm以下。
另外，当为获得高成像特性而在扫描光学系统23中的光学面上要求高面精度时，如果在图5的交叉点P(偏转反射面11朝着正面且出射光束a4位于入射平面内时的出射光束a4(实线)，和偏转反射面11取最大旋转角度ω时出射光束a4在入射平面上投影所得的出射光束a4(虚线)的交点)附近配置这种光学面，则交叉点P附近的透镜面上的扫描线轨迹的弯曲量近似为零，从而可以构成将所要求的副扫描方向的有效范围抑制得非常小的扫描光学系统23。
例如，假设将旋转多面镜(光学多面体)10作为偏转反射面11，设出射光束a4位于入射平面内时的、从第一次偏转反射点到第二次偏转反射点之间的光路长度为DL，设从第二次偏转反射点到扫描光学系统23的交叉点P附近的透镜面的距离为S，设从偏转反射面11到该旋转轴12的距离为R，则如下所示能够通过计算求出使弯曲量δ为零的入射角度θ1与出射角θ2的关系。
图13(a)是基于偏转反射面11的旋转的第一次偏转反射点的垂量Δ1、以及第二次偏转反射点的垂量Δ2的说明图，图13(b)是第一次偏转反射点附近的放大图。这里，设Δ’＝Δ1+Δ2。另外，在图13(a)、(b)中，实线表示旋转多面镜10的偏转反射面11取最大旋转角度ω时的位置，虚线表示朝着正面时的位置。
根据图13(b)，将旋转多面镜10假定为偏转反射面11，设旋转多面镜10的内接圆半径为R，则Δ1有Δ1＝R(1-cosω)/cosω (23)。
图14(a)是将基于偏转反射面11的旋转的第一次偏转反射点的垂量Δ1与第二次偏转反射点的垂量Δ2相加而得的Δ’的说明图，图14(b)是第二次偏转反射点附近的放大图。如果按图14(a)所示取D0，则根据图14，Δ’有Δ’＝D0·tanω+D0·tanω·tan2ω·tanω+D0·tanω·(tan2ω·tanω)2+....(24)，由于该式是首项为D0·tanω，公比为tan2ω·tanω的无穷等比级数和，所以，Δ’＝D0·tanω/(1-tan2ω·tanω)(25)，由此，Δ2＝Δ’-Δ1＝D0·tanω/(1-tan2ω·tanω)-Δ1_[{DL(cosθ1+cosθ2)/2-2·Δ1}·tan2ω×tanω/(1-tan2ω·tanω)]-Δ1 (26)。
此时所述光学面上的弯曲量δ，参考图15(a)、(b)，可如下表示。其中，图15(a)、(b)分别是基于第一次偏转反射点的垂量Δ1、第二次偏转反射点的垂量Δ2的反射光束a1、a4的偏移量的示意图，φ1、φ2取为零。
δ＝S·tanφ2-DL·tanφ1+Δ1·sin(2·θ1+φ1)/cosθ1+Δ2·sin(2·θ2+φ2-φ1)/cos(θ2-φ1) (27)。
该式的第一项是基于第二次反射前后的出射角的差，第二项是基于第一次反射前后的出射角的差，这些虽然也如前所述，且数值不大，但是其表示了在从第一次偏转反射点到第二次偏转反射点之间所产生的扫描线轨迹的弯曲。第三项是基于第一次偏转反射点的垂量Δ1，第四项是基于第二次偏转反射点的垂量Δ2。此时，φ1是由(2)式、φ2是由(20)式来表示的。
利用(27)式、(23)式和(26)式，如果取从第一次偏转到第二次偏转之间的光路长度DL＝20mm，从第二次偏转反射点到所述光学面的距离S＝100mm，从偏转反射面11到其旋转轴12的距离R＝20mm，偏转反射面11的最大偏转角度ω＝15°，则求出使弯曲量δ近似为零的θ1与θ2的关系，其如图16所示，若满足下式所表达的关系，则可知所述光学面上的扫描线轨迹的弯曲量δ近似为零θ2＝0.39·θ1 (28)。
在以上的实施例中，将参数设定为实际的激光打印机等图像形成装置的数值来进行了说明，但是本发明并不局限于(28)式或在上述各参数中所设定的数值。
另外，以上的研究是这样的情形，即如图4所示，光束a0从两个固定平面镜13、14的间隙15入射到偏转反射面11，而偏转光束a4从该两个固定平面镜13、14的间隙15出射；但是如图17所示也同样适合如下配置或者取相反光路的光偏转光学系统的情形，所述配置是指偏转光束a0从两个固定平面镜13、14的上侧或者下侧入射，而出射光束a4从该两个固定平面镜13、14的间隙15出射，并且两个固定平面镜13、14中的一个固定平面镜14夹在入射光束a0与出射光束a4之间。
另外，在图4的配置中，具有固定平面镜13、14的大小不受限制，可使用廉价的镜子的优点，在图17的配置中，具有能够将第一次与第二次的偏转反射点相互接近，从而可减小偏转反射面11的旋转轴方向的尺寸的优点。
下面，参照图18对本发明的第二方式的光扫描装置进行说明。
图18是表示本发明一个方式的光扫描装置的整体结构的立体图，图19是表示其要部的光偏转光学系统的立体图。
在上面说明的本发明的第一方式的光扫描装置中，图1的标号22为准直仪透镜，通过透镜22所转换的光束为平行光，无论在与旋转轴12正交的方向、平行的方向都是平行光，但是在该第二方式的光扫描装置中，图18的标号22’为变形透镜。这一点是不同的。
在该结构中，光偏转部分由在多面柱的侧面上具有多个(图6为6个)偏转反射面11的光学多面体10构成，形成了偏转反射面11绕着该旋转轴12旋转的结构。另外，面向与光偏转相关的偏转反射面11，两个固定平面镜13、14相互成一定角度，并且，在它们中间空有间隙15。
另外，来自光源21的光通过变形透镜22’，在与旋转轴12垂直的方向上成为平行光，而在与旋转轴12平行的方向上被转换成在第二次反射时的偏转反射面11附近聚光，该光束a0通过固定平面镜13与14的间隙15而沿着旋转轴12，图中的情形是从斜下方向偏转反射面11入射。在该偏转反射面11上进行了第一次反射的光束a1向斜上方前进，向一个固定平面镜13入射，在那里被反射的光束a2向下方前进，这次向另一个固定平面镜14入射，在那里被反射的光束a3再次向偏转反射面11入射，在该偏转反射面11上进行了第二次反射的光束a4，通过固定平面镜13与14的间隙15而向斜上方前进，经由扫描光学系统23而被转换为会聚光束，向被扫描面24入射并会聚。由于偏转反射面11绕着旋转轴12旋转，故该会聚光束以偏转反射面11旋转速度的大约4倍的旋转速度移动，从而在被扫描面24上绘出扫描线b。伴随着光学多面体10的旋转，与入射光束a0的入射位置相邻的偏转反射面11依次进出，故伴随着光学多面体10的旋转，而在被扫描面24上的相同位置上从一端到另一端依次绘出扫描线b。该方向的扫描为主扫描。通过将被扫描面24上的被扫描体以恒定的速度向与扫描线b正交的方向移动来进行副扫描，由此在被扫描体上进行扫描线b以恒定间距排列的光栅扫描。
这里，如果将含有入射光束a0的中心光线且与旋转轴12平行的平面定义为入射平面，则两个固定平面镜13、14相对于入射平面垂直配置。
在该第二方式的光扫描装置中，与第一方式的光扫描装置的情形相同，参照图1～图10进行的说明同样可以适用，此外，式(1)～(20)也同样成立。
图20是根据式(20)使θ1与θ2的比改变时绘出的相对于偏转反射面11的旋转角ω的出射角度差φ2的图的一例，除去θ1与θ2的比是特殊的情况，如果偏转反射面11从正面朝向(ω＝0°)开始旋转，则出射角度差φ2的绝对值增大。即，偏转反射面11上进行了第二次反射的光束a4的扫描线轨迹也产生了与图3同样的弯曲。
另外，对于可以将在偏转反射面11上进行了第二次反射的光束a4的扫描线轨迹的弯曲量抑制得很小的θ1与θ2之比，如上所示，位于由下式(21)所表示的范围内，0.33·θ1≤θ2≤0.37·θ1 (21)。
在图21中，示出了从偏转反射面11经由扫描光学系统23直到被扫描面24为止的部分上的将出射光束a4投影到入射平面上的图。在入射平面中，图21(a)是使偏转反射面11上的第二次偏转点P2与被扫描面24大致共轭地来配置扫描光学系统23的情形，图21(b)是使该第二次偏转点P2与被扫描面24不共轭地、例如配置在扫描光学系统23的前方焦点面上的情形。在图21中，实线的出射光束a4是偏转反射面11朝着正面时的出射光束a4，虚线的出射光束a4是在偏转反射面11从朝着正面时旋转了旋转角ω时投影到入射平面上的出射光束a4。
如上所述，在由两个固定平面镜依次进行反射，并两次向同一偏转反射面入射来进行光偏转的光偏转光学系统中，其特征在于不必配置面误差校正光学系统，但只要向偏转反射面11的第二次偏转点P2入射的光束a3以不与副扫描方向成直角的角度(θ2≠0°)入射，就会产生上述出射角度差φ2，发生扫描线轨迹的弯曲。因此，如图21(b)所示，如果使偏转反射面11上的第二次偏转点P2与被扫描面24不共轭地来配置扫描光学系统23，则向被扫描面24聚光的出射光束a4的副扫描方向的位置随旋转角ω变化，从而产生扫描线弯曲。
因此，在本发明的第二实施方式中，如图21(a)所示，使偏转反射面11上的第二次偏转点P2与被扫描面24大致共轭地来配置扫描光学系统23，并且，在照明光路中配置变形透镜22(图1)，使来自光源21的光在与旋转轴12平行的副扫描方向上向第二次偏转点P2附近聚光。另外，代替变形透镜22，也可以由组合了旋转对称的准直仪透镜和只在副扫描方向上具有聚光性的柱面透镜的光学系统来构成。这样，如果使偏转反射面11上的第二次偏转点P2与被扫描面24大致共轭地来配置扫描光学系统23，则向被扫描面24聚光的出射光束a4的副扫描方向的位置不会随着旋转角ω的变化而移动，从而，即使存在基于出射角度差φ2的扫描线轨迹的弯曲，也不会发生扫描线弯曲，因而可以使被扫描面24上的扫描线b近似为直线。
在图22(a)中，示出了在偏转反射面11上存在角度ε的面误差时的与图5相同的图。实线表示没有面误差时，虚线表示有了面误差之后。即使在偏转反射面11上具有面误差，投影到入射平面上的出射光束a4也只是平行移动，从偏转反射面11上的第二次偏转点P2向P2’移动。如果参照图22(b)的辅助图，设出射光束a4位于入射平面内时的从第一次偏转点到第二次偏转点的传输距离为Ld，则该移动量Y为Y＝Ld·tan(2ε)/cos(2ε) (28)。
如果偏转反射面11上的第二次偏转点移动该距离，则如图23所示，在被扫描面24上，扫描线b相对于扫描光学系统23的副扫描方向的第二次偏转点的成像只移动距离Y’。如果设扫描光学系统23的副扫描方向横向放大率为β，则Y’＝β·Ld·tan(2ε)/cos(2ε) (29)。
该Y’为第二次偏转点基于偏转反射面11的面误差在被扫描面24上的扫描线的位移，其在浓度的中间色调不重要的黑白电子照相装置中，需要为扫描线间距LP的1/4以下，其在浓度的中间色调很重要的彩色电子照相装置中，需要为扫描线间距LP的1/8以下。考虑到这些，则需要进行设定，使得对于黑白电子照相装置，满足|β·Ld·tan(2ε)/cos(2ε)|≤0.25·LP (30)；对于彩色电子照相装置，满足|β·Ld·tan(2ε)/cos(2ε)|≤0.125·LP (31)。
但是，如图24所述，如果偏转反射面11不是实线所示的纯平面而是产生了如虚线所示的扭曲或者弯曲，则投影到入射平面上的出射光束a4，不是如图22(a)所示的平行移动，而是与偏转反射面11为纯平面时的出射光束a4成一定角度。由于该出射角度差的原因，进而引起了扫描线轨迹的弯曲。另外，如果偏转反射面的扭曲或者弯曲的程度随各个面而不同，则与偏转反射面11为纯平面时的出射光束a4所成的角度随各个面而变化。由于该出射角度的变化引起了扫描线轨迹的副扫描方向位置变动。
但是，如本发明第二方式那样，如果使偏转反射面11上的第二次偏转点P2与被扫描面24大致共轭地来配置扫描光学系统23，并且，在照明光路中配置变形透镜22(图1)，使来自光源21的光在与旋转轴12平行的副扫描方向上向第二次偏转点P2附近聚光，则即使在偏转反射面11上具有扭曲或者弯曲，也可以使被扫描面24上的扫描线b近似呈直线，另外，还具有如下效果，即，即使在每个偏转反射面上扭曲或者弯曲的程度不同，也可以对出射光束a4向被扫描面24上聚光而形成的扫描线b的扫描线位移进行校正。
此外，在图25(a)、(b)中，分别示出了与图21(a)、(b)相对应的将入射光束a0与出射光束a4投影到光学多面体10附近的入射平面上的图。如图25(a)所示，如果根据本发明使偏转反射面11上的第二次偏转点P2与被扫描面24大致共轭，则在副扫描方向上，由于通过固定平面镜13与14的间隙15的光束a0与a4在其附近聚光，因而光束直径变小。与此相反，当偏转反射面11上的第二次偏转点P2与被扫描面24不共轭时，如图25(b)所示，通过间隙15的光束a0与a4的光束直径相对变粗。因此，图25(a)的本发明的第二方式，通过光学多面体10使固定平面镜13与14相邻，从而可以使偏转反射面11上的第一次偏转点P1与第二次偏转点P2之间的距离更近。此外，由于在偏转反射面11附近具有副扫描方向的聚光点，所以该方向的光束直径也变得更小。因此，在图25(a)的本发明的第二方式的情形下，能够使得光学多面体10的旋转轴12方向的厚度D变得更薄，从而具有能够更小型地且以更低成本来构成光扫描装置的优点。
此外，光束a0通过两个固定平面镜13与14的间隙15从照明光学系统向偏转反射面11入射，光束a4通过该间隙15而出射，通过如此来构成光偏转光学系统，与固定平面镜13及14的间隙15相反侧的大小没有受到限制，故没有必要使用难以加工且价格昂贵的、高精度的、反射面非常小的镜，并可以缩短从第一次偏转点P1到第二次偏转点P2之间的传输距离。
另外，在以上的说明中，对使用光学多面体(旋转多面镜)作为偏转反射面11的情形进行了说明，但是在使用振动的盖玻片时也可以实现同样的效果。
以上，根据原理与实施例说明了本发明的光扫描装置，但是本发明并不仅限于此，其可以进行各种变形。
但是，图26是表示例如以上的这种光扫描装置50的例子的说明图。在图26中，从图中未示出的光源输出的光束a0，被折叠镜56反射，使其在副扫描截面(包含旋转多面镜10的旋转轴12和入射光束a0的截面)内，不是向相对于旋转多面镜10的旋转轴12的垂直方向，而是向右斜上方入射。
旋转多面镜10的入射光束a0，被偏转反射面11向图的左斜上方作为偏转反射光束a4而偏转反射。该偏转反射光束a4经由扫描光学系统(成像透镜)23而向折叠镜57入射。
折叠镜57的入射光，被向图的右斜下方弯折，并通过偏转反射方的第二个折叠镜58向图的上方弯折。该被向上方弯折的光束，向沿着箭头A方向旋转的感光体鼓那样的被扫描面24入射。入射到被扫描面24上的光束绘出与纸面为垂直方向的扫描线。
51为旋转多面镜10的驱动马达，60为主体框架，用于支撑所述旋转多面镜10、驱动马达51、扫描光学系统(成像透镜)23、折叠镜56～58。此外，71为盖玻片设置部分，其中设有用于使扫描光通过的盖玻片。
图45是表示盖玻片设置部分71的一个例子的示意性的立体图。在图45中，盖玻片72经由框体74而设置在安装部件73上。如此，将盖玻片72相对于安装部件73设置在凹口内，是为了防止由于与其他部件等相互接触而损伤盖玻片72。
此外，也是为了降低操作人员触摸盖玻片的表面从而污染盖玻片的可能性。为不致由于尘埃的附着而妨碍光的通过，使用专用的清洁部件来清洁盖玻片的表面。如此，在具有盖玻片的光扫描装置中设置有盖玻片清洁机构，所述盖玻片位于光扫描光学系统与光的被扫描面之间，用于使来自光学系统的光朝着被扫描面通过。
如上所述，盖玻片72被设置于凹口内，所述凹口是在比安装部件73的表面更靠下部的位置上由框体74所形成。由此，利用清洁部件对附着在盖玻片72表面上的尘埃等进行擦除后，这些尘埃等附着物残留在框体74内，从而存在无法有效地进行盖玻片72的清洁的问题。
因此，参照附图来说明本发明的光扫描装置的盖玻片清洁机构。图27是表示本发明实施方式的盖玻片清洁机构的示意性的立体图。在图27中，盖玻片清洁机构31将盖玻片32突出设置在安装部件33上(参照图30)。
在安装部件33上，设置有导向部件36，形成清洁杆35在导向部件36内往复运动的结构。在清洁杆35的前端部分35a，如图30所示设有清洁部件37、衬垫部件38。35b表示清洁杆35的根端部分。
此外，34部分地表示主体框架的侧壁，清洁杆35通过其开口部分34a移动。41是设置在导向部件36的前端的清洁杆35的支撑用凸出部分，43是清洁杆35的防脱落止动器。后面将对所述支撑用凸出部分41、防脱落止动器43进行详细说明。
图28是表示将清洁杆35的前端35a拉出到主体框架34的位置的状态的示意性的立体图。此外，图29是表示沿着导向部件36压入清洁杆35，使其根端部分35b到达主体框架34的位置的状态的示意性的立体图。
图30是部分地表示盖玻片清洁机构的示意性的纵剖主视图。图30(b)示出了清洁部件37位于盖玻片32上的状态。此外，图30(a)示出了清洁杆35向箭头B方向前进从而清洁部件37从盖玻片32上脱离后的状态。
清洁部件37通过形成在其两端上的凸缘部分37a、37b与安装在清洁杆35的前端35a上的支撑部件39a、39b相啮合而被支撑。在清洁杆35的内侧凹口35c与清洁部件37之间，容纳有衬垫部件38。
如果清洁杆35从图30(b)所示的位置开始沿着省略了图示的导向部件向箭头B方向前进，则其被压向衬垫部件38，从而清洁部件37除去附着在盖玻片32表面上的尘埃或者污垢，并擦去污垢。清洁部件37使用了如鹿皮那样形成有起绒面的人工皮革等。如此，由于利用衬垫部件38那样的弹性部件来将清洁部件37压向盖玻片32的表面，从而可以有效地除去附着在盖玻片32的表面上的尘埃或者污垢。
在清洁杆35到达图30(a)所示的位置，即，到达了从盖玻片脱离的位置的状态下，清洁部件37由于衬垫部件38的弹性而落到从盖玻片32的表面位置的下部。因此，被从盖玻片32擦去而附着在清洁部件37上的污垢或者尘埃落到盖玻片32之外。
如此，在本发明中，清洁杆35的行程长度被设定为直到其前端部分35a的凹口35c内可容纳的清洁部件37脱离了盖玻片32的端部的外侧位置为止的长度，并形成当附着在盖玻片表面上的污垢或者尘埃被清洁部件37擦去时不会滞留在盖玻片上的结构。
当清洁杆35被再次拉回到初始位置时，清洁部件37经由盖玻片32的前端角部分32a而被放置在盖玻片32上。由此，残留在清洁部件37上的附着物也由于盖玻片32的前端角部分32a而被有效地刮落，从而即使在进行了多次清洁动作之后也可以保持清洁部件37的表面干净。即，在本发明中，设定清洁杆35的行程长度，使清洁部件可以在盖玻片一端的外侧进行动作。
图31是表示在安装部件33上设置了清洁杆35的导向部件36的状态的示意性的立体图。该导向部件36具有如下功能，即，使得清洁杆35在盖玻片32上不从标准位置向上下、左右的方向变动，从而高度保持盖玻片32与清洁机构之间的位置精度。此外，由于在盖玻片32的上部设置了导向部件36，所以可以防止操作人员的接触或者异物的附着所导致的盖玻片的污染。
图32是表示导向部件36的一个例子的示意性的纵剖侧视图。如图32所示那样，导向部件36并形成为门形并覆盖着盖玻片32，脚部分36a、36b被固定在安装部件33上。导向部件36被设置为贯穿盖玻片32的全长，清洁杆35沿着导向部件36的大致形成为门形的内部空间与盖玻片32平行地往复运动。因此，清洁部件37通过恒定的按压而被压向盖玻片32，从而能够不留下擦拭斑点地适当清洁盖玻片32。
因此，具有能够使清洁部件37在盖玻片32上不从标准位置向上下、左右方向移动，从而可以高度保持两者的位置精度的优点。此外，由于通过贯穿盖玻片32全长而设置的导向部件36来支撑清洁杆35，所以可以防止清洁部件37从清洁杆35脱离而接触盖玻片32以外的部分所导致的清洁部件37的污染。
图33是表示其他实施方式中的导向部件36的一个例子的示意性的纵剖侧视图。如图33所示那样，导向部件36X在盖玻片32上的两侧上部形成有突出部分36c、36d。在清洁杆35的两侧侧面上形成了沟槽部分35p、35q，且与所述导向部件36X的突出部分36c、36d相啮合，从而限制了清洁杆35的不必要的位置变动。在该例子中，导向部件36也可以高度保持清洁部件37与盖玻片32两者的位置精度。
图34是表示本发明实施方式的清洁杆35的示意性的立体图。在图34中，在清洁杆35的中央部分设置了在长度方向上细长的孔，并构成扫描光通过孔40。通过设置这种扫描光通过孔40，如图29所示，即使在压入了清洁杆35的状态下，向感光体鼓入射的光线也不会被遮挡，所以能够成像。
如此，可以在始终安装了清洁杆35的状态下使用光扫描装置，所以，不必将清洁杆35卸下来进行保管，从而可以防止清洁杆35的丢失。此外，还可以防止将清洁杆35保存在其他场所时的污染。
图35是部分地表示导向部件36的长度方向上的一端的示意性的立体图。在图35中，在导向部件36的长度方向上的一端，平行地设置了切槽36p、36q。此外，在被所述切槽36p、36q切开的前端部分上进行弯折加工而形成了凸出部分41。另外，在导向部件36的前端形成截面大致呈“L”字形的弯折部分42。
图36是部分地表示清洁杆35的长度方向上的一端的示意性的立体图。在图35中，在清洁杆35的长度方向的一端35a形成凹入部分35x。该凹入部分35x在压入了清洁杆35的状态下，形成于与所述导向部件36的前端上所形成的突出部分41相对的位置，并作为移动限制部件起作用。
图37是部分地表示压入了清洁杆35的状态时的导向部件36与清洁杆35之间的关系的纵剖主视图。在该例子中，示出了清洁部件37从盖玻片32的一端脱离的状态。如图37所示，在导向部件36上形成的凸出部分41与在清洁杆35上形成的凹入部分35x相啮合，从而在压入了清洁杆35的状态时，限制清洁杆35使其不进行不必要的移动。
因此，可以防止由于清洁杆35振动而使得附着在清洁部件37上的尘埃等向盖玻片32上飞散的情形发生。此外，由于所述使凹凸部分啮合的啮合部件作为棘爪机构起作用，所以具有操作人员能够在压入清洁杆35时在感觉上确认移动线路终端位置的优点。
形成于导向部件36端部的、截面大致为L字形的弯折部分42作为停止部件起作用，用于阻止压入了清洁杆35时终端部分的前进并进行位置限制，从而防止清洁杆35的过度前进。因此，可以使清洁杆35不做多余移动。
另外，在清洁部件37的端部37b与支撑部件39b中，分别形成锯齿形，并且两者被相啮合地配置，从而可靠地支撑清洁部件37。
图38是其他实施方式的与图37相同的纵剖主视图。只对与图37不相同的部分进行说明。在图38的例子中，在安装部件33上形成有凸出部分46。此外，通过在清洁杆35上，在与所述凸出部分46相对应的位置上形成作为移动限制部件的凹入部分35y，来将二者啮合。
虽然图中未示出，但是在本发明中，可以是在清洁杆上设置所述移动限制部件，在导向部件上设置啮合部件的结构。此外，还可以是在清洁杆上设置移动限制部件，在盖玻片的安装部件上设置啮合部件的结构。
另外，在安装部件33的前端设有作为限制清洁杆35的前端位置的停止部件起作用的弯折部分42a。在图38的例子中，安装部件33例如作为激光扫描单元(LSU)盖而构成。由此，可以减少部件数目。
图39是表示本发明实施方式的示意性的立体图，图40是图39的示意性的纵剖主视图。在图39、图40中，在清洁杆35的表面上设有止动器43。当拉出清洁杆35时，该止动器43与主体框架34的壁面相接触，从而使得清洁杆35不会从导向部件36脱离。
即，如图40所示，如拉出清洁杆35则清洁部件37从盖玻片32的主体框架34侧的端部向脱离位置移动。该位置在导向部件36的终端附近，如进一步拉出清洁杆35，则会从导向部件36脱离。
此时，当再次压入清洁杆35时，需要进行与导向部件36的定位，操作就变得繁琐了。但是，在本发明中在清洁杆35上设置了所述止动器43。因此，该清洁杆35的移动在主体框架34的位置上被止动器43限制，从而不会从导向部件36脱离。因此，当再次压入清洁杆35时不会有障碍，从而提高了操作性。
图41是表示止动器43的细节的立体图。图42是表示止动器43的动作的示意性的纵剖主视图。如图41所示，在清洁杆35的表面上形成切槽43x并设置弹性变形部分43b。此外，在止动器43的前端侧形成钩形部分43a。
在止动器43上设有弹性变形部分43b。因此，如图42所示，通过按压弹性变形部分43b而向箭头C方向旋转，从而钩形部分43a从主体框架34脱离。因此，可以使清洁杆35从导向部件36的端部脱离而将其从光扫描装置主体拔出。
如此，由于采用了可以使清洁杆35从光扫描装置主体拔出的结构，故可以提高进行清洁部件37的清理或者随其劣化而进行的更换等维护时的便利性。
图43是清洁杆35的分解立体图，图44是表示从下方看清洁杆35的状态的示意性的立体图。如图43所示，在支撑板47上安装清洁部件37与衬垫件38。支撑板47的两侧端部弯折并形成了脚部分44a、44b。
在清洁杆35的端部，在与所述脚部44a、44b相对应的位置上形成了插入孔45a、45b。将支撑477的脚部分44a、44b插入到插入孔45a、45b，并如图44所示使清洁部件37在清洁杆35的下侧突出。如此，由于相对于清洁杆35将清洁部件37可装卸地安装，所以可以简单地进行清洁部件37的检查或者更换。
上述的说明是实施方式的一个例子，本发明并不仅限于这些实施方式，可以进行各种变更。
工业实用性从以上说明可知，根据本发明的第一至第三光扫描装置，在利用了包括偏转反射面和两个固定平面镜的二次入射光偏转光学系统的光扫描装置中，设定使得从偏转反射面被第二次反射的出射光束位于入射平面内时出射光束的中心光线，与偏转反射面取最大旋转角度时的出射光束的中心光线在入射平面内投影所得的直线大致平行，或者，满足式(22)，或者，通过设定，使得它们在配置于扫描光学系统的光轴方向上的光学面中至少一个光学面的附近交叉，从而扫描光学系统的光学面上的扫描线轨迹的弯曲量变小或者近似为零，所以提高了扫描光学系统的配置位置的自由度，同时减小了扫描光学系统在副扫描方向上的尺寸，由此可以以低成本来提供小型且高精度的扫描光学装置。
此外，对于本发明的第四光扫描装置，在利用了包括偏转反射面和两个固定平面镜的二次入射光偏转光学系统的光扫描装置中，由于从偏转反射面第二次反射的出射光束位于入射平面内时该第二反射点与被扫描面在入射平面内大致共轭，所以，向被扫描面聚光的出射光束的副扫描方向的位置，即使在偏转反射面的旋转角发生变化时也不会发生移动，从而即使存在由出射角度差引起的扫描线轨迹的弯曲，也不会产生扫描线弯曲，由此可使被扫描面上的扫描线近似为直线，同时，即使存在由偏转反射面的扭曲或者弯曲引起的出射角度差或者出射角度的变化，也可以使被扫描面上的扫描线近似为直线，从而可防止扫描线位移的产生。此外，可将由偏转反射面的面误差导致的扫描线位移抑制为很小的值。另外，可以使用低价格且高精度的固定平面镜，同时可以减小偏转反射面在旋转轴方向上的尺寸，从而可构成更小型且成本更低的光扫描装置。
另外，根据本发明光扫描装置的盖玻片清洁机构，可提供具有能够可靠地除去附着在盖玻片表面的尘埃等的结构的光扫描装置的盖玻片清洁机构。
权利要求
1.一种光扫描装置，包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于，当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，通过设定，使得从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的出射光束的中心光线，与所述偏转反射面取最大旋转角时的出射光束的中心光线在所述入射平面上投影所得的直线大致平行。
2.如权利要求1所述的光扫描装置，其特征在于，向所述偏转反射面第一次入射的光束通过所述两个固定平面镜之间的间隙而入射，被所述偏转反射面第二次反射了的偏转光束通过所述两个固定平面镜之间的间隙而出射。
3.如权利要求1所述的光扫描装置，其特征在于，所述两个固定平面镜中的一个固定平面镜被夹在向所述偏转反射面第一次入射的光束与从所述偏转反射面第二次反射的出射光束之间。
4.如权利要求1至3中任一项所述的光扫描装置，其特征在于，将向位于所述偏转反射面相对于所述入射平面垂直的位置上的所述偏转反射面第一次入射的光束的中心光线的入射角设为θ1，将从所述偏转反射面第二次反射的出射光束的中心光线的出射角设为θ2时，满足如下关系0.33·θ1≤θ2≤0.37·θ1 (21)。
5.一种光扫描装置，包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于，当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，将向位于所述偏转反射面相对于所述入射平面垂直的位置上的所述偏转反射面第一次入射的光束的中心光线的入射角设为θ1，将从所述偏转反射面第二次反射的出射光束的中心光线的出射角设为θ2时，满足如下关系0.33·θ1-1.27≤θ2≤0.35·θ1-1.50(22)。
6.如权利要求5所述的光扫描装置，其特征在于，向所述偏转反射面第一次入射的光束通过所述两个固定平面镜之间的间隙而入射，被所述偏转反射面第二次反射的偏转光束通过所述两个固定平面镜之间的间隙而出射。
7.如权利要求5所述的光扫描装置，其特征在于，所述两个固定平面镜中的一个固定平面镜被夹在向所述偏转反射面第一次入射的光束与从所述偏转反射面第二次反射的出射光束之间。
8.一种光扫描装置，包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射，所述光扫描装置的特征在于，当将包含向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，通过设定，使得从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的出射光束的中心光线，与所述偏转反射面取最大旋转角度时的出射光束的中心光线在所述入射平面上投影所得的直线，在配置于从所述偏转反射面到被扫描面之间的扫描光学系统的光轴方向上的光学面中至少一个光学面附近交叉。
9.如权利要求8所述的光扫描装置，其特征在于，向所述偏转反射面第一次入射的光束通过所述两个固定平面镜之间的间隙而入射，被所述偏转反射面第二次反射的偏转光束通过所述两个固定平面镜之间的间隙而出射。
10.如权利要求8所述的光扫描装置，其特征在于，所述两个固定平面镜中的一个固定平面镜被夹在向所述偏转反射面第一次入射的光束与从所述偏转反射面第二次反射的出射光束之间。
11.一种光扫描装置，包括光偏转光学系统，在所述光偏转光学系统中面向与旋转轴平行且以所述旋转轴为中心而旋转或者振动的偏转反射面配置两个固定平面镜，向所述偏转反射面入射并被反射的光束被所述两个固定平面镜依次反射，所述被反射的光束再次向所述偏转反射面入射并被反射；照明光学系统，使光束向所述偏转反射面入射；和扫描光学系统，使被所述光偏转光学系统偏转的光束向被扫描面入射从而形成扫描线，所述光扫描装置的特征在于，当将包含从所述照明光学系统向所述偏转反射面第一次入射的光束并与所述旋转轴平行的面设为入射平面时，所述两个固定平面镜相对于所述入射平面垂直配置，从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的该第二次的反射点与所述被扫描面在所述入射平面内大致共轭。
12.如权利要求11所述的光扫描装置，其特征在于，向所述偏转反射面第一次入射的光束通过所述两个固定平面镜之间的间隙而入射，被所述偏转反射面第二次反射的偏转光束通过所述两个固定平面镜之间的间隙而出射。
13.如权利要求11或12所述的光扫描装置，其特征在于，当从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时，从所述照明光学系统入射的光束在所述入射平面内会聚在所述第二次的反射点附近。
14.如权利要求11至13中任一项所述的光扫描装置，其特征在于，当设从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的从第一次偏转点到第二次偏转点之间的传输距离为Ld，设所述偏转反射面的面误差角度为ε，设所述扫描光学系统在所述入射平面的方向上的横向放大率为β，设所述被扫描面上的扫描线间距为LP时，满足如下关系|β·Ld·tan(2ε)/cos(2ε)|≤0.25·LP (30)。
15.如权利要求11至13中任一项所述的光扫描装置，其特征在于，当设从所述偏转反射面第二次反射的出射光束位于所述入射平面内时的从第一次偏转点到第二次偏转点之间的传输距离为Ld，设所述偏转反射面的面误差角度为ε，设所述扫描光学系统在所述入射平面的方向上的横向放大率为β，设所述被扫描面上的扫描线间距为LP时，满足如下关系|β·Ld·tan(2ε)/cos(2ε)|≤0.125·LP (31)。
16.一种图像形成装置，其特征在于，所述图像形成装置将权利要求1至15中任一项所述的光扫描装置用作写入图像的曝光装置。
17.一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，将所述盖玻片突出设置在安装部件上，并设定清洁杆的行程长度，使得在所述清洁杆的动作方向端部的至少一端上，所述清洁部件移动到盖玻片端部的外侧。
18.如权利要求17所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，设定所述清洁杆的行程长度，使其大于所述盖玻片长度方向上的长度。
19.一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，在所述盖玻片上设置导向部件，使得所述清洁杆沿着所述导向部件，与盖玻片平行地进行往复运动。
20.如权利要求19所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，所述导向部件被设置在盖玻片的整个长度上。
21.一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，在所述清洁杆的长度方向上形成细长孔，使得在压入所述清洁杆的状态下不遮挡扫描光。
22.一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，设有停止部件，用于在压入所述清洁杆时阻止清洁杆终端部分的前进。
23.如权利要求22所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，将所述停止部件设置在所述盖玻片的安装部件上。
24.如权利要求22所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，将所述停止部件设置在所述导向部件上。
25.一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，设有在压入所述清洁杆时限制清洁杆移动的移动限制部件，和与所述移动限制部件相啮合的啮合部件。
26.如权利要求25所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，将所述移动限制部件设置在所述清洁杆上，将所述啮合部件设置在盖玻片的安装部件上。
27.如权利要求25所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，将所述移动限制部件设置在所述清洁杆上，将所述啮合部件设置在所述导向部件上。
28.如权利要求25所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，将所述移动限制部件设置在所述盖玻片的安装部件上，将所述啮合部件设置在所述清洁杆上。
29.如权利要求25所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，将所述移动限制部件设置在所述导向部件上，将所述啮合部件设置在所述清洁杆上。
30.一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，设有止动器，用于在拉出所述清洁杆时防止清洁杆从所述导向部件脱离。
31.如权利要求30所述的光扫描装置的盖玻片清洁机构，其特征在于，设有所述止动器的解除部件，从而可使清洁杆从所述导向部件脱离并从装置主体上卸下。
32.一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，在所述清洁杆的前端部分可装卸地安装了所述清洁部件。
33.一种光扫描装置的盖玻片清洁机构，所述光扫描装置包括光扫描的光学系统；光的被扫描面；盖玻片，用于使来自所述光学系统的扫描光朝着所述被扫描面而通过；所述盖玻片的安装部件；和清洁杆，在其前端部分设有用于擦拭所述盖玻片表面的清洁部件；所述盖玻片清洁机构的特征在于，设有将所述清洁部件压向盖玻片上的弹性件。
全文摘要
本发明提供了一种使光束两次射入偏转反射面的光扫描装置，其目的在于减小扫描线轨迹的弯曲量，或者使之在任意位置上近似为零，或者根据扫描线轨迹的弯曲等来校正扫描线位移，所述扫描装置面向以旋转轴(12)为中心旋转的偏转反射面(11)配置两个固定平面镜(13、14)，使得向偏转反射面(11)入射并反射的光束(a1)在两个固定平面镜(13、14)上依次反射，该被反射的光束(a3)再次向偏转反射面(11)入射并被反射，其中通过设定，使得在将包含向偏转反射面第一次入射的光束(a0)并与旋转轴(12)平行的面设为入射平面时，从所述偏转反射面(11)被第二次反射了的光束(a4)位于入射平面内时的出射光束的中心光线，与偏转反射面(11)取最大旋转角时的光束的中心光线在入射平面上投影所得的直线大致平行。
文档编号G02B27/00GK1636157SQ03804198
公开日2005年7月6日 申请日期2003年5月7日 优先权日2002年5月9日
发明者宗和健, 井上望, 三井洋一 申请人:精工爱普生株式会社