专利名称：图案产生方法
技术领域：
本发明涉及一种用于基板曝光，特别是通过激光光刻法在大的基板(substrate)上形成图案的方法和装置，所述大的基板为例如用于LCD(液晶显示器)、PDP(等离子显示板)或TFT(薄膜晶体管)显示器等的印刷电路板、布线图、掩膜。
背景技术：
当制作掩膜时，在例如为石英的透明基板上的例如为铬的不透光膜上的光敏抗蚀剂中曝光一图案。在显影和蚀刻工艺中，该曝光区中的抗蚀剂被去除，未受保护的铬被一铬蚀刻剂溶解。其结果为形成一具有不透光铬图案的玻璃板，该玻璃板被用作光学接触(optical contact)或投影掩膜，用于生产例如LCD、PDP或TFT显示器的玻璃板上的导线分布图。该玻璃板被涂上光敏抗蚀剂或感光乳剂(emulsion)，并通过光学铬掩膜曝光。以此方式，可以可接受的生产成本、高产量地在掩膜上写入高度复杂的图案以及再现该玻璃板。
大面积，或“平板”LCD、PDP或TFT显示器具有两个不寻常的特点对大尺寸的需求日益增长，目前为1900×1200mm，将来会比它更大，并且需要更高的尺寸精度。对于在每个图像元素(element)中具有有源晶体管的所谓的有源矩阵显示器，复杂性和所需精度非常高。必需写入小至600nm尺寸的元素，且最大允许几何误差为在1900×1200mm的板的较短的方向上的0.03ppm的量级，即约为40nm。
本发明的另一应用为直接曝光，即，直接在显示器中的玻璃板上曝光，而无制作掩膜的中间步骤。
用于制作大显示器的一典型曝光机具有在一固定或移动的写入头下在x和/或y方向上移动的一台架(US 4445485和US 5495279)。然而，该机器的尺寸不仅在生产和运输中，特别在运行中，都是一重要经济参数，这是由于其必须在一无尘环境中操作，而无尘环境的占地面积很昂贵。具有大体积的图案产生装置的另一问题是控制和稳定写入腔的温度。写入腔中的温度梯度将影响印制的图案的质量和关键尺寸的控制。
因而，该技术所需要的是改进的用于印制大面积基板的方法和装置，其需要比现有技术的机器更小的占地面积。
发明内容
相应地，本发明的一个目的是提供一种消除或至少减少上述问题的方法。
根据本发明的第一方面，本目的是通过分别如权利要求1、2、5和13、14、17所述的曝光所述高精度图案的方法和装置来达到的。
本发明还旨在分别如权利要求3、4、6和15、16、18所述的将一大面积工件构图的方法和装置。
本发明更多特点及其优势，将从下文给出的本发明的优选实施例的详细描述和附图1-4中变得显而易见，它们仅以示例性方式给出，因而不是本发明的限制。
图1描述了根据本发明的装置的一实施例。
图2描述了一光学系统的第一实施例。
图3描述了一光学系统的第二实施例。
图4描述了一高斯激光束的腰和波阵面。
具体实施例方式
以下详述是参照附图进行的。描述优选实施例是为了阐释本发明，而非限制由权利要求所限定的范围。本领域技术人员将认识到对以下描述的多种等价变型。
某些实施例是参考模拟SLM进行描述的。显然，对于本领域技术人员来说，可有除模拟SLM以外的其它SLM也同样适用的情况；例如数字SLM，诸如由德州仪器生产的数字微镜机构(DMD)。另外，SLM可由反射性或透射性像素组成。另外，这些实施例是参考受激准分子激光源进行描述的。显然，对于本领域技术人员来说，可使用除受激准分子激光器之外的脉冲电磁辐射源，例如Nd-YAG激光器、离子激光器、掺钛蓝宝石激光器(Ti sapphirelaser)、自由电子激光器或其它脉冲基频激光器、闪光灯、激光等离子体源、同步加速器光源等。
图1表示了本发明的一实施例。在该实施例中，支撑构件13载有工件10。包括光学系统2和末级透镜(final lens)3的写入头被放置在滑架14上，该光学系统2用于在工件10上生成目标像素，该滑架14沿大致沿方向x15的导轨16滑动。随着滑架14移动的零件在图1中隐藏显示。导轨16大致沿方向y9移动。在一实施例中，所述导轨以步进方式移动，而所述滑架14以连续方式移动，其中步进移动对应于一较慢方向，而连续移动对应于一较快移动。在另一实施例中，所述导轨16以连续方式移动，而所述滑架14以步进方式移动。在另外一实施例中，所述导轨16以连续方式移动，而所述滑架14也以连续方式移动。在所述实施例中，当对工件构图时，工件10被保持在一固定位置。支撑构件13可设置在一减振构件18上。所述减振结构优选地由高密度材料制成，并可再由一气垫来支撑，以进一步衰减振动。
在图1中，为清晰起见，省略了该导轨的一远端支柱。该光学系统2产生一扫描线，即，通常对于沿着导轨的每个x位置，在y方向上写入几百个像素。多个扫描线将形成一个带(strip)。依据所选择的写入策略，一个完整的图案包括多个部分地互相重叠或互相不重叠的带。如图2中所示，在一个实施例中，所述光学系统包括一调制器90和一偏转器95。该调制器90用于或改变来自源17的电磁辐射的照射时间周期和/或强度。所述调制器可例如为一常规声光调制器或任何其它具有大致相同功能的调制器。该偏转器用于偏转辐射的光束，以产生所述带。该偏转器可为一声光偏转器。可连接到该调制器的像素时钟(clock)可使用50MHz的频率。该扫描线的长度，即带的宽度可为200μm。所述扫描线可包括约800个像素。
在另一实施例中，所述光学头(optical head)仅包括所述偏转器95。在所述实施例中，该调制器90设置在距该激光源17的一固定位置处。
在另外一实施例中，如图3中所示，所述光学系统2包括一空间光调制器80、一光束分离器81、一复合镜筒透镜(compounded tube lens)82、以及一空间滤光器85。由于具有如图3中所示的光学机构，所述空间光调制器可工作在一模拟模式下。该复合镜筒透镜82与该空间滤光器85形成一体，通常被称为一傅立叶滤光器(Fourier filter)。该复合镜筒透镜82将衍射图案投影到该空间滤光器85上。末级透镜3在工件10上形成一虚象(aerialimage)，该末级透镜3可为一复合末级透镜。
在一实施例中，所述空间滤光器85为板上的一开孔(aperture)。确定所述光圈的尺寸和位置，以致大致阻挡衍射为第一和更高衍射级的每个衍射级，所述光圈可被定位于距该复合镜筒透镜82一焦距处。在焦平面中反射辐射被所述镜筒透镜82收集，该焦平面同时充当末级透镜设置的光瞳面。该开孔阻断来自被寻址像素，例如SLM 80中的微镜的第一和更高衍射级的辐射，而来自未寻址镜表面的辐射可通过该开孔。其结果为得到形成在该工件10上的、如在常规光刻中一样的、强度受到调制的虚象。为得到一最佳暗图像区，该衍射图案应仅包括第一和更高衍射级的辐射，而无任何零级辐射。
利用所述SLM，由彼此重叠或不重叠地缀合在一起的印记(stamps)构成图案。一印记定义为所述SLM在布置有所述工件的图像平面处形成的一图像。该图案可通过利用一次或多次曝光来形成。通过利用多次曝光，第一次曝光形成的印记可相对于第二次曝光中的印记在至少一个方向上被平移。
在一个实施例中，所述光学系统2可包括多个SLM芯片。所述SLM可设置成彼此相邻。一个SLM中像素的数量可不同于另一SLM中的数量，也可使用彼此相邻地布置的、具有不同像素几何形状的SLM。
该辐射可由固定地安装在该导轨上或与所述导轨相分离的激光源17产生。该辐射被扩展(expand)、校准、均质化(homogenized)，并被光学系统19在平行于导轨16的方向发射，以使其到达位于滑架14上的拾取光学元件21，而在沿导轨移动的过程中横向位置、角度和横截面不变。
当所述光学系统2包括如图2中所示的调制器和偏转器时，该激光源可为连续激光源，而当所述光学系统2包括如图3中所示的空间光调制器时，该激光源可为一脉冲受激准分子激光器。当使用该SLM时，该激光的波长可例如在UV、DUV或甚至EUV的范围内。在EUV的情况下，所有光学元件必须是反射性的，而非折射性的，因为没有一种已知材料可以折射EUV辐射。
可利用干涉仪以一种本领域技术人员所已知的常规方式来进行将导轨16与工件对齐，因而不需进一步解释。优选地，该工件10以一种适当的方式被平移，例如利用在所述支撑构件13的至少一端上设置的压电致动器。
图4解释了在将光束射向移动的导轨16和移动的滑架14前，光束的扩展。高质量的激光束20具有一高斯型腰，在该处光束的直径最小。在腰68处，光束的波阵面67为平的，但离开腰68时，波阵面60弯曲。这相当于在腰处和离开腰有限距离处的无限的视在源距离(apparent source distance)。该视在源距离影响聚焦透镜3后的焦点的真实位置。当具有光学系统2和末级透镜3安装于其上的滑架14沿着导轨16滑动时，该波阵面的曲率有变化，因而真实焦点在远离激光源17处在该工件10下，而在接近激光源17处在工件10上。当激光器未被固定到该导轨上时，如上例中所假设的那样，必须考虑从该激光源到该导轨和该滑架的距离。曲率的变化是由波长和腰68处的直径决定的，若激光束未扩展，则可用范围69将极有可能小于该滑架和/或导轨的机构行程。若在光束扩展器19后产生更宽的腰68，则波阵面各处都更平，焦点移位少，并且可用范围将大于该滑架和导轨一起的机械行程。
在图1所示的实施例中，所述工件10大致平行于一x-y平面布置。该x-y平面可为水平面或垂直平面。若所述x-y平面平行于一垂直平面，所述工件被称为一直立基板。具有直立基板的装置比具有水平基板的机器需要更小的洁净空间、台面面积(footprint)，然而，两个实施例均比常规使用的机器需要更小的洁净空间。有了直立基板10，所述基板对于污染更不敏感，这是因为与平行于水平面的基板相比，可供微粒下落的暴露的面积大幅度地减小。在另一实施例中，所述基板以与水平面成介于0-90°之间的任意角度倾斜。
直立基板的另一特征是所谓的下垂(sag)，使用大致平行于垂直平面的基板，可消除下垂，而当基板平行于水平面时，下垂是不可避免的。下垂被定义为工件由于其重量而造成的变形。下垂的样式取决于该基板支撑结构的类型、支撑结构的数量以及所述基板本身的尺寸和几何形状。
步进电动机或线性电动机可移动该导轨。该导轨可在气浮轴承(airbearings)上滑动。在导轨16的每个支柱之下可设置有一个气浮轴承。在另一实施例中，所述导轨的所述支柱互相连接在一起，从而形成包括一上部和一下部的一框架结构，在该上部上所述滑架在x方向上移动，所述下部包括沿着y方向的气浮轴承。所述下部在所述振动衰减构件18之下，即，所述框架结构的中空部分将跨越该工件移动，该上部位于所述工件之上，该下部位于所述工件之下。
精密定位可存在于所述导轨上或所述支撑构件13上。所述精密定位可用机械和电子伺服系统的形式。在一个实施例中，有两个线性电动机工作在所述导轨上，用于在y方向上执行所述移动。所述线性电动机可通过以一种能够转动该导轨的方式来操作它们，从而执行所述精密定位。该转动可受到用于在所述y方向进行所述移动的安装于所述导轨上的气浮轴承的限制。
在支撑构件13的一端支撑处，可安装有在y方向上移动该支撑构件13的压电致动器。所述致动器可由来自控制系统的模拟电压来驱动，该控制系统包括一干涉仪以及通过干涉测量法感测该支撑结构相对于该导轨16的位置的一反馈电路。所述致动器可一起纠正步进电动机的有限的分辨率和该导轨16的非直线位移。每个致动器可有100μm的移动范围。
另外取代由安装到所述支撑构件13上的致动器补偿所述导轨的所述非直线移动，所述导轨本身可被调整，以使所述步进或线性电动机的有限分辨率可被补偿。以类似的方式，致动器可被安装到所述导轨，并通过干涉测量法，可一直监测该支撑结构相对于该导轨的位置。
在图1所示的实施例中，滑架14沿该导轨16在气浮轴承22上滑动。它可被一线性电动机23驱动，并且除了电缆和供气管之外，在该导轨16和该滑架14之间没有物理接触。唯一作用在它上面的力来自无触点电动机23和惯性。
为了补偿与该导轨16的直线性相关的误差，可校准。机器被安装后，必须写检光片(test plate)并测量写入误差。该误差被存储在一校准文件中，并馈送给控制系统，作为在此后的写入过程中的补偿。
紧靠安装于所述末级透镜3之上的所述光学系统2中的所述声光偏转器可形成扫描线。像素可为300×300nm，且每条扫描线可为200μm宽。该透镜可为一具有4mm焦距、NA＝0.14的平面场校正后的透镜。
当该末级透镜3位于其正确位置时，在x方向上的精密定位可基于扫描起始脉冲的定时。在y方向上，上述机械伺服系统可增添一个数据延迟特征，该特征将数据沿着该声光扫描移动，如在DE 40 22 732 A1中所述。这相当于一个将该位置控制的带宽提高到100Hz以上的无惯性前馈控制系统。
所述滑架从行程到行程的容许角度偏差小于10微弧度，并且沿所述行程不能有任何焦点位移。这可以多种方式解决。首先，滑架14在预加载至高刚度的气浮轴承上移动，以使该滑架14相对于该导轨16的位置可被良好地限定，且不依赖于外部空气压力和温度。不完善的导轨可沿扫描线产生写入误差。然而，可在校准过程中测量该误差，并将其存储为一校正曲线，并馈送给用于在写入过程中进行补偿的位置反馈系统。通过校准光束成形光学元件19来操纵激光束，可保持焦点不变。
当使用如图2中所示的光学系统时，通过所述光学系统中的光束分离器(未示出)，所述激光束可被分离成多个光束。
根据本发明的一个优选实施例为一个用于写入高达1900×1200mm的图案的写入装置。在根据本发明的另一实施例中，该写入装置用于写入高达2100×1500mm的图案。该振动衰减装置可由花岗岩块(granite block)形成，且其尺寸稍微大于待写入的图案的尺寸。
虽然本发明是参照上面详述的优选实施例和例子公开的，但应当理解，这些例子旨在说明而非限定性。可以预料，对于本领域技术人员而言，易于进行各种将落入本发明的精神和下述权利要求的范围之内的修改和组合。
权利要求
1.一种通过将至少一个激光束聚焦到一大面积工件上而曝光高精度图案的方法，所述工件在所述激光束的一波长处为感光性的，所述方法包括步骤提供描述图案中的几何元素的至少一个数据库；借助于安装在一可移动滑架上的一光学头，将所述至少一个激光束在一第一方向(y)上偏转并聚焦到所述工件的表面上；根据所述至少一个数据库中的数据调制所述至少一个激光束的光功率；在第一方向(y)上，相对于所述工件，步进地移动包括所述可移动滑架的一导轨；在大致垂直于所述第一方向(y)的一第二方向(x)上，相对于所述工件，连续地移动包括所述光学头的所述滑架；并且，保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
2.一种用于通过将至少一个激光束聚焦到一大面积工件上而曝光高精度图案的方法，所述工件在所述激光束的一波长处为感光性的，所述方法包括步骤提供至少一个描述图案中的几何元素的数据库，借助于安装在一可移动滑架上的一光学头，将所述至少一个激光束在第一方向(y)上偏转并聚焦到所述工件的表面上，根据所述至少一个数据库中的数据调制所述至少一个激光束的光功率，在第一方向(y)上，相对于所述工件，连续地移动包括所述可移动滑架的一导轨，在大致垂直于所述第一方向(y)的第二方向(x)上，相对于所述工件，步进地移动包括所述光学头的所述滑架，并且，保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
3.一种用于对一大面积工件构图的方法，所述工件设置在一图像平面上并且对电磁辐射敏感，所述方法包括步骤提供将电磁辐射发射到一物平面的一源；提供包括多个目标像素的至少一个空间光调制器，所述空间光调制器在所述物平面处接收所述电磁辐射，并向所述工件续传所述电磁辐射；在第一方向(x)上，相对于所述工件，连续地移动包括所述空间光调制器的一可移动滑架；在大致垂直于所述第一方向(x)的第二方向(y)上，相对于所述工件，步进地移动包括所述可移动滑架的一导轨；并且，保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
4.一种用于将一大面积工件构图的方法，所述工件设置在一图像平面上并且对电磁辐射敏感，所述方法包括步骤提供将电磁辐射发射到一物平面的一源，提供包括多个目标像素的至少一个空间光调制器，所述空间光调制器在所述物平面处接收所述电磁辐射，并向所述工件续传所述电磁辐射，在一第一方向(x)上，相对于所述工件，步进地移动包括所述空间光调制器的一可移动滑架，在大致垂直于所述第一方向(x)的第二方向(y)上，相对于所述工件，连续地移动包括所述可移动滑架的一导轨，并且，保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
5.一种用于通过将至少一个激光束聚焦到一大面积工件，曝光高精度图案的方法，所述工件在所述激光束的一波长处为感光性的，所述方法包括步骤提供至少一个描述图案中的几何元素的数据库，借助于安装在一可移动滑架上的一光学头，将所述至少一个激光束在第一方向(y)上偏转并聚焦到所述工件的表面上，根据所述至少一个数据库中的数据调制所述至少一个激光束的光功率，在第一方向(y)上，相对于所述工件，连续地移动包括所述可移动滑架的一导轨，在大致垂直于所述第一方向(y)的第二方向(x)上，相对于所述工件，连续地移动包括所述光学头的所述滑架，并且，保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
6.一种用于将一大面积工件构图的方法，所述工件设置在一图像平面上并且对电磁辐射敏感，所述方法包括步骤提供将电磁辐射发射到一物平面的一源，提供包括多个目标像素的至少一个空间光调制器，所述空间光调制器在所述物平面处接收所述电磁辐射，并向所述工件续传所述电磁辐射，在第一方向(x)上，相对于所述工件，连续地移动包括所述空间光调制器的一可移动滑架，在大致垂直于所述第一方向(x)的第二方向(y)上，相对于所述工件，连续地移动包括所述可移动滑架的一导轨，并且，保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
7.根据权利要求1-6中任意一项所述的方法，其中，在曝光过程中，所述工件在一大致水平的方向上被固定。
8.根据权利要求1-6中任意一项所述的方法，其中，在曝光过程中，所述工件在一大致垂直的方向被固定。
9.根据权利要求1-6中任意一项所述的方法，其中，所述激光器被固定到所述导轨上。
10.根据权利要求1-6中任意一项所述的方法，其中，所述激光器与所述导轨相分离。
11.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，所述滑架包括用于调制所述光功率的一调制器。
12.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法，其中，用于调制所述光功率的一调制器设置距发射所述至少一个激光束的激光源一固定距离。
13.一种装置，用于通过将至少一个激光束聚焦到一大面积工件，从而曝光高精度图案，所述工件在所述激光束的一波长处为感光性的，所述装置包括描述图案中的几何元素的至少一个数据库，一偏转器，所述偏转器借助于安装在一可移动滑架上的一光学头，将所述至少一个激光束在第一方向(y)上偏转并聚焦到所述工件的表面上，一调制器，其根据所述至少一个数据库中的数据调制所述至少一个激光束的光功率，包括所述可移动滑架的一导轨，所述导轨可在第一方向(y)上相对于所述工件步进地移动，其中，包括所述光学头的所述滑架在大致垂直于所述第一方向(y)的第二方向(x)上相对于所述工件连续地移动，并且保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
14.一种装置，用于通过将至少一个激光束聚焦到一大面积工件，从而曝光高精度图案，所述工件在所述激光束的一波长处为感光性的，所述装置包括至少一个描述图案中的几何元素的数据库，一偏转器，所述偏转器借助于安装在一可移动滑架上的一光学头，将所述至少一个激光束在第一方向(y)上偏转并聚焦到所述工件的表面上，一调制器，其根据所述至少一个数据库中的数据调制所述至少一个激光束的光功率，包括所述可移动滑架的一导轨，所述导轨可在第一方向(y)上相对于所述工件连续地移动，其中，包括所述光学头的所述滑架在大致垂直于所述第一方向(y)的第二方向(x)上相对于所述工件步进地移动，并且保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
15.一种装置，用于对一大面积工件构图，所述工件设置在一图像平面上并且对电磁辐射敏感，所述装置包括将电磁辐射发射到一物平面的一源，包括多个目标像素的至少一个空间光调制器，所述空间光调制器在所述物平面处接收所述电磁辐射，并向所述工件续传所述电磁辐射，包括所述空间光调制器的一可移动滑架，所述滑架可在第一方向(x)上相对于所述工件连续地移动，其中，包括所述可移动滑架的一导轨在大致垂直于所述第一方向(x)的第二方向(y)上相对于所述工件步进地移动，并且保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
16.一种装置，用于对一大面积工件构图，所述工件设置在一图像平面上并且对电磁辐射敏感，所述装置包括将电磁辐射发射到一物平面的一源，包括多个目标像素的至少一个空间光调制器，所述空间光调制器在所述物平面处接收所述电磁辐射，并向所述工件续传所述电磁辐射，包括所述空间光调制器的一可移动滑架，所述滑架可在第一方向(x)上相对于所述工件步进地移动，其中，包括所述可移动滑架的一导轨在大致垂直于所述第一方向(x)的第二方向(y)上相对于所述工件连续地移动，并且保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
17.一种装置，用于通过将至少一个激光束聚焦到一大面积工件，从而曝光高精度图案，所述工件在所述激光束的一波长处为感光性的，所述装置包括至少一个描述图案中的几何元素的数据库，一偏转器，所述偏转器借助于安装在一可移动滑架上的一光学头，将所述至少一个激光束在第一方向(y)上偏转并聚焦到所述工件的表面上，一调制器，其根据所述至少一个数据库中的数据调制所述至少一个激光束的光功率，包括所述可移动滑架的一导轨，所述导轨可在第一方向(y)上相对于所述工件连续地移动，其中，包括所述光学头的所述滑架在大致垂直于所述第一方向(y)的第二方向(x)上相对于所述工件连续地移动，并且保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
18.一种装置，用于将一大面积工件构图，所述工件设置在一图像平面上并且对电磁辐射敏感，所述装置包括将电磁辐射发射到一物平面的一源，包括多个目标像素的至少一个空间光调制器，所述空间光调制器在所述物平面处接收所述电磁辐射，并向所述工件续传所述电磁辐射，包括所述空间光调制器的一可移动滑架，所述滑架可在第一方向(x)上相对于所述工件连续地移动，其中，包括所述可移动滑架的一导轨可在大致垂直于所述第一方向(x)的第二方向(y)上相对于所述工件连续地移动，并且保持所述工件处于一固定位置而曝光高精度图案。
19.根据权利要求13-18中任意一项所述的装置，其中，在曝光过程中，所述工件在一大致水平的方向上被固定。
20.根据权利要求13-18中任意一项所述的装置，其中，在曝光过程中，所述工件在一大致垂直的方向上被固定。
21.根据权利要求13-18中任意一项所述的装置，其中，所述激光器被固定到所述导轨上。
22.根据权利要求13-18中任意一项所述的装置，其中，所述激光器与所述导轨分离。
23.根据权利要求13-16中任意一项所述的方法，其中，所述滑架包括用于调制所述光功率的一调制器。
24.根据权利要求13-16中任意一项所述的方法，其中，用于调制所述光功率的一调制器设置距发射所述至少一个激光束的激光源一固定距离。
全文摘要
一种通过将至少一个激光束聚焦到对激光束的波长感光的大面积工件而曝光所述高精度图案的方法，包括步骤提供至少一个描述图案中的几何元素的数据库；利用可移动滑架上的光学头，将至少一个激光束在第一方向(y)偏转并聚焦于工件表面；根据数据库中的数据来调制至少一个激光束的光功率；在第一方向(y)上，相对工件步进移动包括可移动滑架的导轨；在大致垂直第一方向(y)的第二方向(x)，相对工件连续移动包括光学头的滑架；保持工件位置固定而曝光高精度大面积图案。本发明还涉及对大面积工件构图的装置。
文档编号G03F7/20GK1751273SQ200480004777
公开日2006年3月22日 申请日期2004年2月20日 优先权日2003年2月20日
发明者彼得·埃克伯格, 约翰－奥斯卡·拉森 申请人:麦克罗尼克激光系统公司