专利名称：一种堆叠式光刻对准标记的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种光刻对准标记，尤其涉及一种堆叠式光刻对准标记。
背景技术：
现有的光刻对准标记的堆叠如图1所示，有多个金属层(101、 103、 105……) 和多个过孔层(102、 104……)交叉堆叠而成，现有的金属层中，每一层的对 准单元都完全一样，即在同样的位置，要么都是l金属，要么都是2氧化物。 并且在现有的光刻对准标记的层叠过程中，同 一位置的不同层面不能都放置对 准(alignment mark )单元，每一层对准单元的位置都必须相互错开。例如在本 发明实例中所举例的现有的SPM(scribe-lane primary mark)光刻对准标记设计规 则下，每一个金属层中对准单元其水平方向上占用的空间是800umx 80um,竖 直方向上占用的空间为80um x 800um,而在切割道(scribe-lane)上总共有10 到12组光刻对准标记叠加在一起，这样不管在水平或者竖直方向上都要占用 8mm-9mm的宽度，这样就占用了太多的切割道上的空间，就导致了没有足够的 空间来放置WAT ( wafer acceptance test,晶圆的电性参数测试)测试电路、RE (Reliability test,可靠性测试)测试电路等电性测试电路等。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供了 一种堆叠式光刻对准标记，能大大节 省切割道上的空间。
一种堆叠式光刻对准标记，多个金属层与过孔层交叉排列，；相邻两个金属 层中，第一金属层的对准单元中是金属的地方，在第二金属层中变为氧化物， 在第一金属层中是氧化物的地方，在第二层中是金属；每一个金属层中的对准 单元的中间部分都为氧亿物。
其中上述的一种堆叠式光刻对准标记，包括第一金属层，第二金属层，第三金属层，其中第一金属层和第二金属层之间、第二金属层和第三金属层之间 都为过孔层。
本发明由于在光刻对准标记中采用堆叠式对准单元，使之不用错位就能堆 叠在一起，这样就能大大节省切割道上的空间。
图1为现有的SPM(scribe-lane primary mark)光刻对准标记的示意图2为本发明堆叠式光刻对准标记的示意图3为本发明堆叠式光刻对准标记中对准单元示意图4为本发明堆叠式光刻对准标记叠加示意图。
具体实施例方式
本发明如图2所示，光刻对准标记第一金属层201、第三金属层205和原有 的金属层一样，不做任何改动，即l仍然是金属，2仍然是氧化物，而第二金属 层203则做出了重大的改动，即在第一金属层的对准单元中是金属的地方，在 第二金属层203的对准单元中是氧化物，在第一金属层的对准单元中是氧化物 的地方，在第二金属层203的对准单元中是金属，并保证第二金属层203中对 准单元的中间部分仍然是氧化物，如图3所示。并且202、 204仍然是过孔层， 即过孔层仍然和金属层交叉排列。堆叠式光刻对准标记一般由3个到12个金属 层和过孔层交叉堆叠在一起，如图2所示。
并且该堆叠式光刻对准标记由于相邻的金属层中的金属和氧化物的位置互 换，所以不用相互错开，就能够直接堆叠在一起，这样不但能够实现对准的功 能而且还可以节省切割道上的空间。
下面结合一个具体实施例对本发明的堆叠式光刻对准标记做一个详细的说 明，如图2所示第一金属层201和第三金属层205的对准单元是完全相同的， 和原有的金属层的对准单元是一样的，而第二金属层203的对准单元中，金属 和氧化物的位置刚好与第一金属层201、第三金属层205的对准单元中的金属和 氧化物的位置相反，并且保证第二金属层203的对准单元的中间位置仍然是氧 化物，其中三个金属层堆叠起来如图4所示，301中间位置仍然保证为氧化物。并且第一金属层201和第二金属层203之间为过孔，第二金属层203和第三金 属层205之间也为过孔。
这样的三个金属层能够不用错开，就能直接堆叠在一起，并且能够起到很 好的对准效果。
通过大量的实验分析我们可以得出，当三个金属层堆叠在一起时，其对准 效果会最好。
本实施例只是本发明的 一个具体实施例，为铜互连制程中的堆叠式光刻对 准标记应用。本发明中金属层和过孔层，可以是3到12层，并且过孔层和金属 层交叉排列。在铝互连制程中，光刻对准标记也可以是摆放在过孔层上的，其 堆叠原理和本实施例完全相同。
本发明中所举例原始光刻对准标记也是一种具体实施例，本发明可以应用 于各种在切割道上摆放的光刻对准标记。
本发明所采用的堆叠式光刻对准标记能大大节省切割道上的空间，就能够 预留出更多的空间来摆放其他的测试元件。
权利要求
1、一种堆叠式光刻对准标记，由多个金属层和过孔层交叉排列，其特征在于，相邻的金属层中，第一金属层(201)的对准单元中是金属(1)的地方，在第二金属层(203)中变为氧化物(2)，在第一金属层(201)中是氧化物(2)的地方，在第二层(203)中是金属(1)；每一个金属层中的对准单元的中间部分都为氧化物(2)。
2、 如权利要求1所述的一种堆叠式光刻对准标记，其特征在于所述的光刻对准 标记包括第一金属层(201 )，第二金属层(203 ),第三金属层(205 ),其中第 一金属层(201)和第二金属层(203 )之间、第二金属层(203 )和第三金属层(205 )之间都为过孔层。
全文摘要
一种堆叠式光刻对准标记，由多个金属层和过孔层交叉排列而成；相邻两个金属层中，第一金属层(201)的对准单元中是金属(1)的地方，在第二金属层(203)中变为氧化物(2)，在第一金属层(201)中是氧化物(2)的地方，在第二层(203)中是金属(1)；每一个金属层的对准单元的中间部分都为氧化物(2)。本光刻对准标记能大大节省切割道上的空间。
文档编号G03F7/20GK101419407SQ200710047360
公开日2009年4月29日 申请日期2007年10月24日 优先权日2007年10月24日
发明者杨晓松 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司