专利名称：：透明导电性叠层体及触摸面板的制作方法
技术领域：
：本发明涉及一种在可见光线区域透明而且在薄膜基材上具备导电性薄膜的透明导电性叠层体。本发明的透明导电性叠层体除了可以用于液晶显示器、电致发光显示器等新的显示器方式或触摸面板等中的透明电极以外，还可以用于防止透明物品受到静电干扰或隔绝电磁波等。
背景技术：
：以往，作为透明导电性薄膜，已知有在玻璃上形成了氧化铟薄膜的所谓导电性玻璃，然而由于导电性薄膜的基材为玻璃，因此在挠曲性、加工性方面差，从而有在用途上不够理想的情况。由此，近年来，由于除了在挠曲性、加工性方面以外，在耐冲击性方面也很出色、轻量等优点，因而将以聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜为首的各种塑料薄膜作为基材的透明导电性薄膜为人们所喜用。但是，使用了薄膜基材的透明导电性薄膜由于薄膜表面的光线反射率大，因此有透明性差的问题，除此以外，透明导电性薄膜在耐擦伤性方面差，从而有在使用中受到损伤而增大电阻、产生断线的问题。特别是，触摸面板用的透明导电性薄膜中，由于经由隔块相面对的一对薄膜之间在从其一方的触摸板侧的按压触碰处被强力地接触，因此希望具有能够与之抗衡的良好的耐久特性，也就是具有触碰特性，然而由于在使用了上述薄膜基材的透明导电性薄膜中，触碰特性差，因此有作为触摸面板的寿命变短的问题。针对上述问题，提出过如下制成的透明导电性叠层体(专利文献l)，即，作为薄膜基材使用特定膜厚的材料，在其一方的面上依次形成光的折射率小于薄膜基材的光的折射率的透明电介质薄膜、处于其上的透明导电性薄膜，并且在薄膜基材的另一方的面上夹隔透明的粘接剂层贴合其他的透明基体而成。根据该透明导电性叠层体，可以改善透明性及导电性薄膜的耐擦伤性，并且可以实现作为触摸面板用途的触碰特性的改善。另外，还提出过如下的方案(专利文献2)，是在透明的薄膜基材的一方的面上，从上述薄膜基材一侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜的透明导电性叠层体，上述薄膜基材、两层透明电介质薄膜、透明导电性薄膜的各自的光的折射率具有第二透明电介质薄膜<薄膜基材^第一透明电介质薄膜<透明导电性薄膜的关系。根据该透明导电性叠层体，可以实现在以弯曲状态使用触摸面板时的触碰特性的改善。但是，专利文献2中，在形成于透明的薄膜基材上的第一透明电介质薄膜中，使用了有机物与无机物的混合体，因而不容易进行透明性等光学的调整。另外，还提出过如下的方案(专利文献3)，是在透明的薄膜基材的一方的面上，从上述薄膜基材的一侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜的透明导电性叠层体，具有第二透明电介质薄膜<透明导电性薄膜^第一透明电介质薄膜的关系。据记载，根据该透明导电性叠层体，可以抑制透过光的着色。但是，专利文献3中，在形成于透明的薄膜基材上的第一透明电介质薄膜的形成中，虽然记载有各种方法，但是无论利用哪种方法，形成速度都不够快。另一方面，在触摸面板中，根据位置检测的方法不同，有光学方式、超声波方式、静电电容方式、电阻膜方式等。其中，电阻膜方式由于其构造简单，因此在性价比(costperformance)方面出色，近年来正快速普及。电阻膜方式触摸面板被用于例如银行的现金自动存款、提款机(ATM)或交通机构的售票机等的显示板中。该电阻膜方式的触摸面板经由隔块地将透明导电性叠层体和带有透明导电性薄膜的玻璃对置，形成在透明导电性叠层体中流过电流而计测带有透明导电性薄膜的玻璃中的电压的这样的构造。如果通过利用手指或笔等的按压操作使透明导电性叠层体与带有透明导电性薄膜的玻璃接触，则可以通过该接触部分通电，来探知该接触部分的位置。近年来，搭载于智能手机(smartphone)或PDA(PersonalDigitalAssistance)、游戏机等中触摸面板的市场正在增长，触摸面板的窄边框化不断推进。这样，用手指按压触摸面板的机会变多，除了笔输入耐久性以外，对于表面压力耐久性方面也需要满足。但是，上述专利文献中，即使可以满足笔输入耐久性，但是终究无法满足表面压力耐久性。专利文献1特开平6—222352号公报专利文献2特开2002—326301号公报专利文献3特开2000—301648号公报
发明内容本发明的目的在于，提供一种透明导电性叠层体，是在透明的薄膜基材的一方的面上，从上述薄膜基材的一侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜的透明导电性叠层体，其透过率高，并且生产性良好，而且除了笔输入耐久性以外，还具有表面压力耐久性。另外，本发明的目的还在于，提供使用了该透明导电性叠层体的触摸面板。本发明人等为了解决上述问题进行了深入研究，结果发现，利用以下所示的透明导电性叠层体，可以实现上述目的，从而完成了本发明。艮P，本发明涉及一种透明导电性叠层体，是在厚2200um的透明的薄膜基材的一方的面上，从上述薄膜基材侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜，在透明的薄膜基材的另一方的面上，经由透明的粘接剂层贴合有透明基体的透明导电性叠层体，其特征是，第一透明电介质薄膜被利用真空蒸镀法、溅射法或离子镀法形成，并且第一透明电介质薄膜由在氧化铟100重量份中含有氧化锡020重量份、氧化铈1040重量份的复合氧化物构成，在将第一透明电介质薄膜的折射率设为nl，将第二透明电介质薄膜的折射率设为n2，将透明导电性薄膜的折射率设为n3时，满足n2〈n3芸nl的关系，透明基体是至少将2张透明的基体薄膜经由透明的粘接剂层叠层的叠层透明基体。在上述透明导电性叠层体中，最好第一透明电介质薄膜的厚度为10200nm，并且表面电阻值在1X106(Q/口)以上。在上述透明导电性叠层体中，最好在上述透明基体的外表面设有树脂层。另外，本发明涉及一种触摸面板，是将具有透明导电性薄膜的一对面板以使透明导电性薄膜之间相面对的方式经由隔块相对配置而成的触摸面板，其特征是，至少一方的面板含有上述透明导电性叠层体。本发明中，利用在氧化铟中含有特定量的氧化锡、氧化铈的复合氧化物来制成第一透明电介质薄膜。该复合氧化物是在作为透明导电性材料的氧化铟与氧化锡的复合体中又添加了氧化铈的材料，这样就可以实现透明导电性薄膜的折射率以上的高折射率。其结果是，第一透明电介质薄膜与第二透明电介质薄膜的折射率的差变大，可以容易地进行光学的调整，可以获得透过率高、透明性等光学特性良好的透明导电性叠层体。另外，利用上述本发明的复合氧化物形成的第一透明电介质薄膜的表面电阻值高，可以控制为不会对透明导电性薄膜的导电性造成影响的程度的高电阻值。为了使第一透明电介质薄膜的表面电阻值对透明导电性薄膜的导电性不造成影响，最好是绝缘性(高电阻值)，优选在1X106(Q/口)以上，更优选在1X108(Q/口)以上。另外，上述本发明的复合氧化物具有高折射率，而且在制成薄膜之时，利用通常所采用的溅射法的生产性(制膜的溅射速率)良好。以往，作为高折射率的材料，使用1102(2.35)、Nd203(2.15)、Zr02(2.05)、Ta205(2.2)、ZnO(2.1)、ln203(2.0)、Sn02(2.0)等[上述各材料的()内的数值为光的折射率]。但是，上述材料当中，Ti02、Nd203、Zr02、Ta205、ZnO等在制成薄膜之时，通常所采用的溅射法的生产性(制膜溅射速率)差。另一方面，ln203、Sn02等虽然薄膜的生产性良好，但是它们由于表面电阻值低，对透明导电性薄膜的导电性造成影响，因此不适用于第一透明电介质薄膜。本发明的透明导电性叠层体由于在透明导电薄膜与薄膜基材之间，具有第一透明电介质薄膜及第二透明电介质薄膜两层透明电介质薄膜，另外由于耐擦伤性、弯曲性良好，而且如上所述，在第一透明电介质薄膜中，使用以特定比例含有特定成分的高折射率且具有高电阻值的复合氧化物，并且利用干式程序形成第一透明电介质薄膜，因此可以抑制透过光的着色，另外生产性良好，可以容易地进行光学调整。另外，本发明中，采用在透明的薄膜基材的未设置透明导电性薄膜的一侧的面上设置了将至少2张透明的基体薄膜经由透明的粘接剂层叠层的透明基体的透明导电性叠层体的构造。利用该构造，可以提高例如将透明导电性叠层体应用于触摸面板时的笔输入耐久性，除此以外，还可以提高表面压力耐久性。在上述透明导电性叠层体中，笔输入耐久性以及表面压力耐久性可以通过从薄膜基材一侧夹隔透明的电介质薄膜设置透明导电性薄膜而进一步提高。即，上述电介质薄膜尤其发挥出作为透明导电性薄膜的底涂层(undercoat)的效果，提高面内耐久性。图1是表示本发明的透明导电性叠层体的一个例子的剖面图。图2是表示本发明的触摸面板的一个例子的剖面图。图3是用于说明本发明的实施例的触摸面板的表面压力耐久性试验的剖面示意图。图4是表示实施例1中得到的触摸面板的电压值与测定位置的关系的图表。其中，F薄膜基材，1第一透明电介质薄膜，2第二透明电介质薄膜具体实施例方式下面将在参照附图的同时对本发明的透明导电性叠层体进行说明。图1是表示本发明的透明导电性叠层体的一个例子的图，在透明的薄膜基材F的一方的面上，形成有第一透明电介质薄膜1及第二透明电介质薄膜2，另外在第二透明电介质薄膜2上形成有透明导电性薄膜3。另外，在透明导电性叠层体的薄膜基材F的另一方的面上，夹隔透明的粘接剂层A贴合有叠层透明基体T。叠层透明基体T是将透明的基体薄膜tl和透明的基体薄膜t2夹隔透明的粘接剂层a叠层的叠层体。图1中，例示了叠层2层透明的基体薄膜的情况，但透明的基体薄膜的叠层只要是2层以上即可，可以为3层、4层，进而设为5层以上。通过设成这样的构造，可以进一步提高面内耐久性。另外，虽然未图示，但是在图1的叠层透明基体T的外表面，可以设置硬质涂覆处理层(树脂层)等。作为本发明中所使用的薄膜基材F，没有特别限制，可以使用具有透明性的各种塑料薄膜。例如，作为其材料，可以举出聚酯系树脂、醋酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。它们当中，从成本的方面考虑，特别优选聚酯系树脂。薄膜基材F的光的折射率优选使用通常达到1.41.7左右的材料。这些薄膜基材F的厚度处于2200um的范围。特别优选厚度为20150um的范围。如果厚度小于2um，则作为基材的机械强度不足，将该基材制成巻筒状，连续地形成第一、第二透明电介质薄膜或透明导电性薄膜以及粘接剂层的操作将会变得困难。另一方面，当超过200um时，则在轻量、薄型化等市场的要求的方面不够理想。上述薄膜基材F可以对表面预先实施溅射、电晕放电、火焰、紫外线照射、电子线照射、化成、氧化等蚀刻处理、硬质涂覆层或底涂处理，从而提高设置于其上的第一透明电介质薄膜1与上述透明基体T的密接性。另外，在设置第一透明电介质薄膜l之前，也可以根据需要通过溶剂清洗及超声波清洗等施行除尘、清洁化。在上述薄膜基材F上，依次设有第一透明电介质薄膜l、第二透明电介质薄膜2、透明导电性薄膜3。第一透明电介质薄膜1的光的折射率nl、第二透明电介质薄膜2的光的折射率n2、透明导电性薄膜3的光的折射率n3满足n2<n3Snl的关系，通常，由于透明导电性薄膜3的光的折射率n3约为2左右(通常为1.92.1)，因此该情况下，第一透明电介质薄膜l的光的折射率nl通常为1.92.3左右，更优选为2.02.2，第二透明电介质薄膜2的光的折射率n2通常为1.31.7左右，更优选为1.41.6。上述第一透明电介质薄膜1由在氧化铟IOO重量份中含有特定量的氧化锡及氧化铈的复合氧化物形成。作为形成材料，优选使用各氧化物成分的混合物的烧结体。在上述复合氧化物中，从光学特性的方面考虑，氧化锡的比例相对于氧化铟100重量份为020重量份。更优选315重量份。在氧化锡的比例超过20重量份的情况下，当作为形成材料使用烧结体时，由于其烧结密度降低，因此难以稳定地保持膜形成时的放电(放电稳定性差)。另外，从高电阻值(绝缘性)及光学特性的方面考虑，氧化铈的比例相对于氧化铟100重量份为1040重量份。更优选为1530重量份。如果氧化铈的比例小于IO重量份，则第一透明电介质薄膜1的表面电阻值降低，从而具有导电性，因此不够理想。另一方面，在氧化铈的比例超过40重量份的情况下，则生产性(制膜溅射速率)降低，因而不够理想。上述第一透明电介质薄膜1的厚度虽然没有特别限制，但是优选为10200nm。更优选为1560nm。如果小于10nm，则难以形成连续覆盖膜。另一方面，设为200nm以下的做法从光学的调整的方面考虑是理想的。作为第二透明电介质薄膜2的材料，例如可以举出NaF(1.3)、Na3AlF6(1.35)、LiF(1.36)、MgF2(1.38)、CaF2(1.4)、BaF2。.3)、Si02(1.46)、LaF3(1.55)、CeF3(1.63)、A1203(1.63)等无机物[上述各材料的()内的数值为光的折射率]或光的折射率为1.41.6左右的丙烯酸系树脂、氨基甲酸酯系树脂、硅氧烷系聚合物、醇酸树脂、蜜胺树脂等有机物。从它们当中适当地选择材料，或者将其组合，形成上述满足折射率n2的第二透明电介质薄膜2。第二透明电介质薄膜2的厚度虽然没有特别限制，但是为了形成连续覆盖膜，提高透明性或耐擦伤性，优选设为10nm以上，更优选设为10300nm，特别优选设为20120nm。而且，将第一透明电介质薄膜1的厚度与第二透明电介质薄膜2的厚度相加的总厚度如果过大，则无法期待透明性的提高，另外有可能产生裂纹，因此上述总厚度优选设为150nm以下，更优选设为100nm以下。作为透明导电性薄膜3的材料没有特别限制，例如优选使用含有氧化锡的氧化铟、含有锑的氧化锡等。透明导电性薄膜3的厚度虽然没有特别限制，然而为了制成使其表面电阻在lX10"Q/口)以下的具有良好的导电性的连续覆盖膜，优选设为10nm以上的厚度。由于当膜厚过大时，则会造成透明性的降低，因此厚度最好设为10300nm左右。通常在薄膜基材F上，依次形成第一透明电介质薄膜l、第二透明电介质薄膜2及透明导电性薄膜3。作为第一透明电介质薄膜1及透明导电性薄膜3的形成方法，例如可以举出真空蒸镀气相蒸镀法、溅射法、离子镀法等，可以根据材料的种类及所必需的膜厚釆用适当的方法，然而它们当中溅射法是一般所用的方法。另外，作为第二透明电介质薄膜2的形成方法，除了上述方法以外，还可以采用涂刷法等。在如上所述依次形成第一透明电介质薄膜1、第二透明电介质薄膜2及透明导电性薄膜3的薄膜基材F的另一方的面上，夹隔透明的粘接剂层A贴合叠层透明基体T。叠层透明基体T是将至少2张透明的基体薄膜利用透明的粘接剂层贴合的复合构造，由此就可以提高笔输入耐久性，以及提高表面压力耐久性。叠层透明基体T的厚度通常优选控制为卯300um，更优选控制为100250um。另外，形成叠层透明基体T的各基体薄膜的厚度为10200um，更优选20150um，将在这些基体薄膜中包含透明的粘接剂层的作为叠层透明基体T的总厚度控制为处于上述范围。作为基体薄膜，可以举出与上述的薄膜基材F相同的材料。薄膜基材F与叠层透明基体T的贴合既可以在叠层透明基体T侧预先设置上述的粘接剂层A，在其上贴合上述薄膜基材F，也可以反过来，在薄膜基材F侧预先设置上述的粘接剂层A，在其上贴合叠层透明基体T。后者的方法中，由于可以将薄膜基材F制成巻筒状而连续地进行粘接剂层A的形成，因此在生产性方面更为有利。另外，也可以在薄膜基材F上，依次利用粘接剂层A、a贴合基体薄膜tl、t2，从而将叠层透明基体T叠层。而且，基体薄膜的叠层中所用的透明的粘接剂层(图1的粘接剂层a)可以使用与下述的透明的粘接剂层A相同的材料。作为粘接剂层A，只要是具有透明性的材料，就可以没有特别限制地使用。具体来说，可以适当地选择使用丙烯酸系聚合物、硅系聚合物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯基醚、醋酸乙烯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烃、环氧系、氟系、将天然橡胶、合成橡胶等橡胶系等聚合物作为基础聚合物的材料。特别是，从光学透明性出色、显示适当的润湿性、凝聚性和粘接性等的粘合特性、在耐气候性或耐热性等方面出色的方面考虑，可以优选使用丙烯酸系粘合剂。根据作为粘接剂层A的构成材料的粘合剂的种类不同，有时可以通过使用适当的粘合用底涂剂来提高抛锚固定力。因而，使用此种粘合剂时，优选使用粘合用底涂剂。作为上述粘合用底涂剂，只要是可以提高粘合剂的抛锚固定力的层即可，没有特别限制。具体而言，可以使用例如在同一分子内具有氨基、乙烯基、环氧基、巯基、氯基等反应性官能团和水解性的垸氧基甲硅烷基的硅垸系偶合剂；在同一个分子内具有含有钛的水解性亲水性基团和有机官能性基团的钛酸酯系偶合剂；和在同一个分子内具有含铝的水解性亲水性基团和有机官能性基团的铝酸酯系偶合剂等所谓偶合剂；环氧系树脂、异氰酸酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂等具有有机反应性基团的树脂。其中，从工业上容易处理的观点来看，优选含有硅垸系偶合剂的层。另外，可以在上述粘接剂层A中含有对应基础聚合物的交联剂。另外，也可以根据需要在粘接剂层A中配合例如天然物或合成物的树脂类、玻璃纤维或玻璃珠、金属粉或其它无机粉末等组成的填充剂或颜料、着色剂或防氧化剂等适当的添加剂。另外，也可以形成含有透明微粒而显示光漫射性的粘接剂层A。而且，在上述透明微粒中，例如，可以使用平均粒径为0.520nm的化硅、氧化鈣、氧化铝、氧化钛、氧化锆、氧化锡、氧化铟、氧化镉、氧化锑等具有导电性的效/L系微粒；或由类j驟甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯之类的适当的聚合物组成的交^#未交联的有机系微粒等适当的微粒的1种或2种以上。上述粘接剂层A通常被作为将基础聚合物或其组合物溶解或分散到溶剂中的且固体成分浓度为1050重量％左右的粘合剂溶液使用。作为上述溶剂，可以适当选择使用甲苯或醋酸乙酯等有机溶剂或水等与粘合剂的种类相对应的溶剂。该粘接剂层A在粘接叠层透明基体T之后，利用其缓冲效果，具有提高设置在薄膜基材F的一方的面的导电性薄膜的耐擦伤性或作为触摸面板用的触碰特性、即笔输入耐久性及表面压力耐久性的作用。从更好地发挥该作用的观点考虑，优选将粘接剂层A的弹性系数设定为1100N/cn^的范围，将厚度设定为liim以上，通常设定为5100ixm的范围。在上述的弹性系数不足lN/cn^的情况下，粘接剂层A变为非弹性，因此，容易因加压变形而在薄膜基材F上、甚至在导电性薄膜3上产生凹凸。另外，容易产生自加工切断面的粘合剂的挤出等，并且降低导电性薄膜3的耐擦伤性或作为触摸面板用的触碰特性的提高效果。另一方面，弹性系数超过100N/cn^时，粘接剂层A变硬，不能期望其缓冲效果，因此，存在难以提高导电性薄膜3的耐擦伤性或作为触摸面板用的笔输入耐久性及表面压力耐久性的倾向。另外，粘接剂层A的厚度不足lpm时，仍不能期望其缓冲效果，因此，不能期望导电性薄膜3的耐擦伤性或作为触摸面板用的笔输入耐久性及表面压力耐久性的提高。相反地，使厚度过大时，则会损害透明性，或在粘接剂层A的形成或叠层透明基体T的贴合作业性甚至成本方面难以得到好的结果。借助此种粘接剂层A贴合的叠层透明基体T对薄膜基材F赋予良好的机械强度，除了笔输入耐久性及表面压力耐久性以外，尤其有助于防止巻曲等的发生。使用上述隔离件转印粘接剂层A时，作为此种隔离件，例如优选使用在聚酯薄膜的至少与粘接剂层A粘接的面叠层移动防止层及/或脱模层而成的聚酯薄膜等。另外，根据需要，也可以在上述叠层透明基体T的外表面(与粘接剂层相反一侧的面)，设置以提高识认性为目的的防眩光处理层或防反射层，或者设置以保护外表面为目的的硬质涂覆处理层。作为硬质涂覆处理层，例如可以优选使用蜜胺系树脂、氨基甲酸酯系树脂、醇酸系树脂、丙烯酸系树脂、硅系树脂、环氧树脂等硬化型树脂构成的硬化覆盖膜。图2是给出使用了上述本发明的透明导电性叠层体(图1)的触摸面板的例子的图。即，在将具有透明导电性薄膜Pld、P2d的一对面板Pl、P2，以使以相互正交的条纹状形成的透明导电性薄膜Pld、P2d之间相面对的方式，经由隔块S对置配置而成的触摸面板中，作为一方的面板P1，使用了上述图1中所示的透明导电性叠层体。该触摸面板作为如下的透明开关骨架体发挥作用，即，在从面板Pl侧使用输入笔等反抗隔块S的弹力进行按压触碰后，导电性薄膜Pld、P2d之间接触，成为电路的ON状态，当解除上述按压时，则回到原来的OFF状态。此时，由于面板P1由上述的透明导电性叠层体制成，因此在透明导电性薄膜的耐擦伤性、触碰特性或笔输入耐久性、表面压力耐久性等方面出色，可以长时间稳定地维持上述作用。而且，图2中，面板P1也可以是图1所示的透明导电性叠层体。另外，面板P2虽然是在由塑料薄膜或玻璃板等制成的透明基体F上设置了透明导电性薄膜P2d的板，然而也可以使用与上述的面板Pl相同的图1所示的透明导电性叠层体。下面，通过记述本发明的实施例而进行具体说明。而且，以下说明中，所谓份的说法是指重量份。各层的折射率与膜厚在与透明电介质薄膜及透明导电性薄膜折射率不同的适当的热塑性薄膜基板上，在相同的涂覆条件下单层地叠层，使用在该叠层面的光反射光谱上基于光干涉效果而体现出的反射率的极大峰或极小峰的波长和该峰反射率的值，利用光学拟合算出。另外，使用阿贝折射率仪(测定波长590nm)测定硬质涂覆层的折射率，利用使用了与上述透明电介质薄膜相同的光干涉法的计算求得厚度。第一透明电介质薄膜的表面电阻值(Q/口)是利用三菱化学公司制的Hiresta电阻测定仪测定的。膜厚是利用日立制作所制的透过型电子显微镜H-7650测定的。实施例1(第一透明电介质薄膜的形成)在由厚125wm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(以下称作PET薄膜)制成的薄膜基材(光的折射率nf1.66)的一方的面上，在氩气95%和氧气5%的混合气体的气氛下，由氧化铟100份、氧化锡10份及氧化铈25份的混合物的烧结体，利用下述条件的反应溅射法，形成在氧化铟100份中具有氧化锡10份及氧化铈25份的复合氧化物(光的折射率nh2.1)的第一透明电介质薄膜。第一透明电介质薄膜的厚度为32nm，表面电阻值(。/□)为8.5X109。<溅射条件>耙尺寸200mmX500mm输出3.0kw电压值450V放电时间lmin真空度0.5Pa(第二透明电介质薄膜的形成)然后，在第一透明电介质薄膜上，利用电子束加热法，以1X1(T23X10—卞a的真空度真空蒸镀Si02(光的折射率n2-1.46)，形成了厚50nm的第二透明电介质薄膜。(透明导电性薄膜的形成)然后，在上述的Si02薄膜上，使用氩气95%与氧气5%的混合气体，在0.5Pa的气氛中，由氧化铟100份及氧化锡10份的混合物的烧结体，利用反应溅射法，形成在氧化铟100份中具有氧化锡10份的复合氧化物(光的折射率113=2.0)的透明导电性薄膜。(硬质涂覆层的形成)作为硬质涂覆层的形成材料，在丙烯酸，氨基甲酸酯系树脂(大日本油墨化学(株)制的UNIDIC17—806)100份中，添加作为光聚合引发剂的羟基环己基苯基酮(千叶特殊化学药品(CibaSpecialtyChemicals)公司制的Irgacnre184)5份，配制成稀释至30%浓度的甲苯溶液。在厚125pm的PET薄膜构成的基体薄膜的一方的面上，涂布该硬质涂覆层的形成材料，在100'C下干燥3分钟。然后立即用2个臭氧型高压汞灯(能量密度80W/cm2，15cm聚光型)进行紫外线照射，形成厚度为5pm的硬质涂覆层。(叠层透明基体的制作)接着，在上述基体薄膜的与硬质涂覆层形成面相反一侧的面上，形成厚约20pm的弹性系数为10N/cr^的透明的丙烯酸系的粘接剂层。作为粘接剂层组合物，使用在由丙烯酸丁酯、丙烯酸和醋酸乙烯酯的重量比为100:2:5的丙烯酸系共聚物100份中配合1份异氰酸酯系交联剂而成的粘接剂层组合物。在上述粘接剂层侧贴合由厚25iim的PET薄膜构成的基体薄膜，制作具有两张PET薄膜的叠层透明基体。(透明导电性叠层体的制作)在上述叠层透明基体的与硬质涂覆层形成面相反一侧的面上，用与上述相同的条件形成粘接剂层，将该粘接剂层面和薄膜基材(没有形成导电性薄膜的一侧的面)贴合，这样就制成本实施例中的透明导电性叠层体。实施例2(第二透明电介质薄膜的形成)在实施例1的(第一透明电介质薄膜的形成)中得到的第一透明电介质薄膜上，利用氧化硅涂覆法形成了湿Si02膜。g卩，涂布以使固体成分浓度达到2%的方式将硅胶(Colcoat公司制的「ColcoatP」)用乙醇稀释了的材料，在15(TC干燥2分钟后，将其硬化，形成了厚30nm的湿SiO2膜(相对折射率为1.46)。(透明导电性叠层体的制作)在实施例l中，除了利用上述的方法形成了第二透明电介质薄膜以外，与实施例1相同地形成透明导电性薄膜，制作了透明导电性叠层体。实施例3(第一透明电介质薄膜的形成)在厚25um的PET薄膜上，利用#16号的绕线棒涂布在紫外线硬化型树脂(旭电化公司制，KRX571—76NL)100份中混合了硅系调平剂0.5份，并以使固体成分达到20%的方式用溶剂稀释了的溶液，使得干燥后的膜厚达到3ixm，在将溶剂利用干燥烤炉气化后，利用高压汞灯照射紫外线，进行硬化，形成了透明硬质涂覆层(光的折射率为1.54)。实施例1中，除了作为薄膜基材，使用形成了上述硬质涂覆层的PET薄膜，在该硬质涂覆层上，由氧化铟100份、氧化锡5份及氧化铈10份的混合物的烧结体，利用与实施例l相同的反应溅射法，形成了在氧化铟100份中具有氧化锡5份及氧化铈10份的复合氧化物(光的折射率nl=2.05)的第一透明电介质薄膜以外，与实施例1相同地形成了第一透明电介质薄膜。第一透明电介质薄膜的厚度为35nm，表面电阻值(Q/口)为5.7X107。然后，在第一透明电介质薄膜上，与实施例l相同地形成了第二透明电介质薄膜，继而与实施例l相同地形成了透明导电性薄膜。此后，将上述薄膜基材(未形成透明导电性薄膜的一侧的面)与实施例1相同地与叠层透明基体贴合，得到了透明导电性叠层体。比较例1在实施例1中，除了未使用叠层透明基体，而是作为透明基体，使用了在由厚125ym的PET薄膜构成的基体薄膜上形成了硬质涂覆层的材料(在实施例1的叠层透明基体中，未贴合由厚25um的PET薄膜构成的基体薄膜的材料)以外，与实施例l相同地制作了透明导电性叠层体。比较例2在实施例2中，除了未使用叠层透明基体，而是作为透明基体，使用了在由厚125ym的PET薄膜构成的基体薄膜上形成了硬质涂覆层的材料(在实施例1的叠层透明基体中，未贴合由厚25lim的PET薄膜构成的基体薄膜的材料)以外，与实施例2相同地制作了透明导电性叠层体。对实施例及比较例中得到的透明导电性叠层体，进行了下述评价。将结果表示于表l中。<溅射速率>记载了实施例1中记载的溅射条件下的第一透明电介质薄膜的溅射速率。在实施例1中记载的溅射条件下，优选为均一的溅射速率。<透明导电性薄膜的表面电阻值〉使用三菱化学公司制的罗乐斯塔(a一^^夕一)电阻测定仪，测定了表面电阻值(Q/口)。透明导电性薄膜是被设定为450(Q/口)的薄膜，优选不会变动而偏离450(Q/口)的薄膜。<光的透过率>使用岛津制作所制的分光分析装置UV—240，测定了光波长550nm下的可见光线透过率。<光学特性>使用岛津制作所制的分光光度计UV3150，测定了色相b*。色相b*表示透过光的着色，当色相W的值向负侧变大时，则透过光的蓝色感增加，当向正侧变大时，则黄色感增加。色相W的值处于一22的范围中可以抑制着色，因此优选。<表面压力耐久性>如图3所示，在用负荷2kg挤压表面压力耐久性试验用夹具(接地直径(D20mm)的状态下(夹具在与触摸面板接地时的摩擦系数为0.71.3)，使夹具相对于各触摸面板滑动，在规定条件下测定滑动之后的直线性(lineality),评价表面压力耐久性。滑动动作在透明导电性叠层体侧，是在与触摸面板的周边部相距5mm以上的范围内的区域进行的。另外，滑动条件为，将滑动次数设为100次，将触摸面板的间距设为100|im。直线性的测定如下所述。即，在透明导电性叠层体中，施加5V的电压，将测定开始位置A的输出电压设为EA、测定结束位置B的输出电压设为EB、测定点的输出电压设为Ex、理论值设为Exx时，则直线性可由下面的方法得到。艮P，在各触摸面板的滑动之后，在透明导电性叠层体中，施加5V的电压，将测定开始位置A的输出电压设为EA、测定结束位置B的输出电压设为Ee、测定点的输出电压设为Ex、理论值设为Exx时，可用下述公式计算得到直线性。图4中给出表示在实施例1中得到的触摸面板中的电压值与测定位置之间的关系的图表。同图所示的实线表示实测值，虚线表示理论值。由得到的直线性的值来评价表面压力耐久性。结果见下述表l。徵1]Exx(理论值)=X'(EB—EA)/(B—A)+EA直线性(%)={(Exx—Ex)/(EB—EA)}X100<table>complextableseeoriginaldocumentpage17</column></row><table>如表1所示，实施例的透明导电性叠层体的第一透明电介质薄膜为高折射率、高透过率，容易进行光学的调整。另外，第一透明电介质薄膜具有高电阻值，从而不会有损害透明导电性叠层体的导电性的情况。另外，溅射速率好，生产性也良好。另外，如果是实施例的触摸面板，则可知在表面压力耐久性方面也很出色。特别是，可以通过像实施例那样作为第一透明电介质薄膜使用特定的薄膜来提高表面压力耐久性。权利要求1.一种透明导电性叠层体，在厚度2～200μm的透明的薄膜基材的一面上，从上述薄膜基材侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜，在透明的薄膜基材的另一面上，经由透明的粘合剂层贴合有透明基体，其特征是，第一透明电介质薄膜是利用真空蒸镀法、溅射法或离子镀法形成，并且第一透明电介质薄膜由相对氧化铟100重量份含有氧化锡0～20重量份、氧化铈10～40重量份的复合氧化物构成，在将第一透明电介质薄膜的折射率设为n1，将第二透明电介质薄膜的折射率设为n2，将透明导电性薄膜的折射率设为n3时，满足n2＜n3≤n1的关系，透明基体是至少将2张透明的基体薄膜经由透明的粘合剂层叠层的叠层透明基体。2.根据权利要求1所述的透明导电性叠层体，其特征是，第一透明电介质薄膜的厚度为10200nm，并且表面电阻值在1X106(Q/口)以上。3.根据权利要求1所述的透明导电性叠层体，其特征是，在上述透明基体的外表面设有树脂层。4.一种触摸面板，将具有透明导电性薄膜的一对面板以透明导电性薄膜彼此面对的方式经由间隔物相对配置而成，其特征是，至少一个面板含有权利要求13中任意一项所述的透明导电性叠层体。全文摘要本发明提供一种透明导电性叠层体，是在透明的薄膜基材的一方的面上，从上述薄膜基材侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜的透明导电性叠层体，其透过率高，并且生产性良好，而且除了具有笔输入耐久性以外，还具有表面压力耐久性。本发明是在厚2～200μm的透明的薄膜基材的一方的面上，从上述薄膜基材侧开始依次形成第一透明电介质薄膜、第二透明电介质薄膜及透明导电性薄膜，在透明的薄膜基材的另一方的面上，经由透明的粘接剂层贴合有透明基体的透明导电性叠层体，第一透明电介质薄膜被利用真空蒸镀法、溅射法或离子镀法形成，并且第一透明电介质薄膜由在氧化铟100重量份中含有氧化锡0～20重量份、氧化铈10～40重量份的复合氧化物构成，在将第一透明电介质薄膜的折射率设为n1，将第二透明电介质薄膜的折射率设为n2，将透明导电性薄膜的折射率设为n3时，满足n2＜n3≤n1的关系，透明基体是至少将2张透明的基体薄膜经由透明的粘接剂层叠层的叠层透明基体。文档编号G02F1/1343GK101196654SQ20071019699公开日2008年6月11日申请日期2007年12月7日优先权日2006年12月7日发明者梨木智刚,菅原英男申请人:日东电工株式会社