成像元件的制作方法

专利名称：成像元件的制作方法
技术领域：
本公开内容在各种示例性实施方案中一般性涉及电子照相
成像元件，并且更具体地涉及具有包括取代的三联苯二胺的电荷输送层 的感光体转鼓。
隱21 感光体通常包括载体基材、电荷产生层和电荷输送层 ("CTL")。例如，在带负电体系中，光电导成像元件可以包括载体基 材、导电层、任选的电荷阻挡层、任选的粘合剂层、电荷产生层、电荷 输送层和任选的保护或外涂层。特别地，载体基材为转鼓的形式。
隱31电荷输送层通常至少包括溶于聚合物基料树脂的电荷输送 分子("CTMs")，该层在预定用途的光谱区，例如可见光中基本无吸收，
外，电^输^层允许电荷有效输送到一输送层的自l表面。 、'
隱41当电荷在电荷产生层中产生时，其应被有效地注入到电荷 输送层中的电荷输送分子中。电荷也应在短时间内，更具体地在比在成 像设备中曝光和显影之间的持续时间更短的时间段内输送通过电荷输 送层。通过电荷输送层的输送时间由电荷输送层中的载荷子迁移率确 定。载荷子迁移率为每单位电场的速率并且具有cmVV'sec的量纲。载 荷子迁移率通常是电荷输送分子的结构、电荷输送层中电荷输送分子的 浓度和电荷输送分子分散于其中的电学"不活泼"基料聚合物的函数。 隱51 载荷子迁移率必须足够高以在曝光步骤和显影步骤之间的 时间间隔期间使注入电荷输送层的电荷在曝光步骤期间移动穿过电荷 输送层。为获得最大的定影曝光的放电或感光性，光注入电荷必须在感 光体的成像曝光区域到达显影区之前经过输送层。对于当感光体的曝光 区段到达显影区时载体仍然处于经过的范围，放电减少并且因此可用于 显影的对比电位也降低。电荷穿过电荷输送层的移动时间和载荷子迁移 率由公式移动时间=(输送层厚度)2/(迁移率x外加电压)彼此联系起来。
隱61本领域中已知的是提高溶于或以分子形式分散在基料中的 电荷输送分子的浓度来减少移动时间。但是，相分离或结晶化对可以分 散在基料中的输送分子的浓度设置了上限。电荷输送分子升高的浓度还 降低该层的机械强度，增加磨损和减少感光体转鼓的寿命。
rooo7i 一种本领域已知的电荷输送分子为1^^-二苯基->^:^'-二(3-
甲基苯基HU'-联苯]-4,4'-二胺(TPD)。 TPD在聚碳酸酯中40wt。/o的浓度 下具有约1.38 x 10-6cm2/V . sec的零电场迁移率。零电场迁移率^为外 推直到电场趋于零的迁移率，即p = ^i。 . exp(卩* E^)中的电场E设置为 零。通常，由卩表示的电场依赖性弱。
隱81持续需要 一 种具有耐磨性提高的电荷输送层的改善的感光 体转鼓，以延长感光体器件的固有寿命。这种移动迁移率升高的成像元 件将能够提高例如打印机和复印机的成像设备的速度。
隱91 参考Belknap等人20(T7年6月21日提交的名称为"Imaging Member Having High Charge Mobility"的共同未决普通转让的美国专利 申请(代理人文件编号20070062-360609)。

发明内容
rooioi 在此公开如下实施方案。
roo川方案i. 一种感光体转鼓，包括电荷输送层，其中该电荷 输送层包括聚合物基料树脂和式(i)的取代的三联苯二胺电荷输送分
子<formula>formula see original document page 5</formula>
式(I)
其中R!和R2独立地选自氢、具有1到10个碳原子的烷基、卣素和
苯基；并且其中R1和R2的至少一个不为氢。
m0121方案2.方案1的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺具 有式(n)的结构
<formula>formula see original document page 6</formula>式(II)
其中R]为邻位、间位或对位上的曱基，并且R2为丁基。 圆31方案3.方案1的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺为 N,N'-二(4-曱基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基H对三联苯]-4,4"-二胺。
■ 41方案4.方案1的感光体转鼓，其中至少一个电荷输送层 进一步包括第二种电荷输送分子。
隨51方案5.方案4的感光体转鼓，其中第二种电荷输送分子 为选自N,N'-二苯基-N,N'-二(3-曱基苯基)-[U'-联苯]-4,4'-二胺；三-对曱 苯胺；和1,1-二(4-二-对甲苯基氨基苯基)环己烷的三芳基胺。
■ 61 方案6.方案1的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺构 成电荷输送层的约20 wt。/。到约40 wt%,基于电荷输送层的总重量。
圆71 方案7.方案6的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺构 成电荷输送层的约25 wt。/。到约35 wt%。
■ 81方案8.方案1的感光体转鼓，其中电荷产生层包括金属 酞菁、无金属酞菁、硒、硒合金、羟基镓酞菁、卣代镓酞菁、钛氧基酞 菁或其混合物。
■ 91方案9.方案8的感光体转鼓，其中电荷产生层包括选自 羟基镓酞菁和氧钛酞菁的电荷产生材料。
隨01方案10.方案1的感光体转鼓，其中基料选自聚酯、聚乙 烯醇缩丁醛、聚碳酸酯、聚苯乙烯和聚乙烯基结构。
隨ll方案ll.方案10的感光体转鼓，其中基料为选自聚(4,4'-
异亚丙基二苯基碳酸酯)、聚(4,4'-二苯基-i,r-环己烷碳酸酯)的聚碳酸酯 或其聚合物共混物。
陽221方案12.方案1的感光体转鼓，其中电荷输送层的总厚度 为约IO微米到约100微米。
隨31方案13.方案12的感光体转鼓，其中电荷输送层的总厚 度为约20微米到约60微米。
隨41方案14.方案1的感光体转鼓，进一步包括选自铝、铜、 黄铜、镍、锌、铬、不锈钢、铝、半透明铝、钢、镉、银、金、锆、铌、 钽、钒、铪、钛、镍、铬、鴒、钼、铟、锡和金属氧化物的硬质转鼓载 体基材。
,51方案15.方案1的感光体，进一步包括与电荷输送层接触 的外涂层。
,61 方案16. —种感光体转鼓，包括基材、任选的空穴阻挡 层、任选的粘合剂层、电荷产生层和电荷输送层；其中所述电荷输送层 包括聚合物基料树脂和具有式(I)结构的取代的三联苯二胺
式(I)
其中R!和R2独立地选自氢、具有1到IO个碳原子的烷基、卣素和
苯基；并且其中R1和R2的至少一个不为氢；和
其中电荷输送层包括约20 wt。/。到约40 wt。/。的取代的三联苯二胺。<formula>formula see original document page 7</formula>
方案17.方案16的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺 构成电荷输送层的约25 wt。/。到约35 wt%。
隨81 方案18.方案16的成像元件，其中取代的三联苯二胺为 N,N'-二(4-甲基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三联苯]-4,4"-二胺。
「00291 方案19.方案16的成像元件，进一步包括与电荷输送层 接触的外涂层。
,01 方案20. —种成像方法，包括
在感光体转鼓上产生静电潜像；
显影该潜像；和
将显影的静电图像转印到合适的基材上；
其中感光体转鼓具有包括具有式(I)结构的取代的三联苯二胺的电 荷输送层
式(I)
其中R!和R2独立地选自氬、具有1到IO个碳原子的烷基、卣素和 苯基；并且其中Ri和R2的至少一个不为氢。
图"方案21. —种感光体转鼓，包括电荷输送层，其中该电荷输 送层包括聚合物基料树脂和式(IV)的取代的三联苯二胺电荷输送分子
式(iv)
其中R2和R3独立地选自氢、具有1到IO个碳原子的烷基、卣 素和苯基；并且其中R!、 R2和R3的至少一个不为氩。
『00321方案22.方案21的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺 具有式(V)的结构<formula>formula see original document page 9</formula>式(V)
其中R!和R3为曱基；并且R2为具有1到IO个碳原子的烷基。 ,31方案23.方案21的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺 具有式(VI)的结构<formula>formula see original document page 9</formula>式(vi)
其中Ri和R3为甲基。
图41方案24.方案21的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺 为N,N'-二(3,4-二甲基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三联苯]-4,4"-二胺。
,51 方案25.方案21的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺 构成电荷输送层的约20 wt。/。到约40 wt%,基于电荷输送层的总重量。
「00361 方案26.方案21的感光体转鼓，其中电荷产生层包括金 属酞菁、无金属酞菁、硒、硒合金、羟基镓酞菁、卣代镓酞菁、钛氧基
酞菁或其混合物。
,71方案27.方案26的感光体转鼓，其中电荷产生层包括选 自羟基镓酞菁和氧钛酞菁的电荷产生材料。
图81方案28.方案21的感光体转鼓，其中基料为选自聚(4,4'-异亚丙基二苯基碳酸酯)、 聚(4,4'-二苯基-i,r-环己烷碳酸酯)的聚碳酸酯
或其聚合物共混物。
,91方案29.方案21的感光体转鼓，其中电荷输送层的总厚 度为约IO微米到约100微米。
隨01 方案30.方案21的感光体转鼓，进一步包括选自铝、铜、 黄铜、镍、锌、铬、不锈钢、铝、半透明铝、钢、镉、银、金、锆、铌、 钽、钒、铪、钛、镍、铬、鹤、钼、铟、锡和金属氧化物的硬质转鼓载 体基材。
隨"方案31.方案21的感光体，进一步包括与电荷输送层接 触的外涂层。


陽421图1为具有单一电荷输送层的感光体转鼓的示例性实施方
案的剖视图。
隨31图2为具有单一电荷输送层的感光体转鼓的另一个示例性 实施方案的剖视图。
具体实施例方式
隨41图1中说明本公开内容的感光体转鼓的示例性实施方案。 基材32支撑其它层。也可以施加任选的空穴阻挡层34和任选的粘合剂 层36。电荷产生层38位于任选的粘合剂层36和电荷输送层40之间。 任选的外涂层42可以设置在电荷输送层40上。
隨51图2中说明本公开内容的感光体转鼓的另一个示例性实施 方案。该实施方案与图1的实施方案相似，除了颠倒电荷产生层38和 电荷输送层40的位置。通常，电荷产生层、电荷输送层和其它层可以 以任何合适的顺序施加，以产生带正电或带负电的感光体转鼓。
m0461图1的电荷输送层40包括某些具体的电荷输送材料，该电 荷输送材料能够支持来自电荷产生层38的光生空穴或电子的注入并允 许它们经由电荷输送层移动，以有选择地在成像元件表面上释放表面电 荷。电荷输送层和电荷产生层一起还应为绝缘体，从而在没有光照的情 况下不传导电荷输送层上设置的静电荷。如果有的话，当暴露于静电印刷术中使用的光的波长，例如约4000埃到约9000埃时，也应显示可忽 略的放电。这一点保证当成像元件曝光时，大部分入射辐射用于电荷产 生层，在其下方有效地产生光生电荷。
「00471 本公开内容的电荷输送层包括取代的三联苯二胺。与常规 的电荷输送分子如TPD相比，这些电荷输送分子具有高迁移率。因为其 高迁移率，它们可以以低得多的浓度加入，且仍保持相同的性能。因为 其浓度更低，电荷输送层的聚合物稀释减少并且其机械强度提高。这一 点使得磨损减少和使用寿命更长。
0048
本公开内容的取代的三联苯二胺具有式(I)的结构<formula>formula see original document page 11</formula> 式(I)
其中！^和R2独立地选自氢、具有1到IO个碳原子的烷基、卣素和 苯基；并且其中R1和R2的至少一个不为氢。在其它实施方案中，Ri和
R2均不为氢。
在一个具体实施方案中，式(I)的取代的三联苯二胺具有式
(II)的结构:
<formula>formula see original document page 11</formula>式(II)
其中R1为邻位、间位或对位上的甲基，并且R2为丁基。
隨01 在另一个具体实施方案中，式(I)的取代的三联苯二胺为 N,N'-二(4-甲基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三联苯]-4,4"-二胺，其 具有式(III)的结构
式(IV)
其中R!、 R2和R3独立地选自氢、具有1到IO个碳原子的烷基、卣 素和苯基；并且其中R" R2和R3的至少一个不为氢。在其它实施方案
中，R!、 R2和R3均不为氬。在另一个具体实施方案中，R2为具有l到
IO个碳原子的烷基。
隨21 在一个具体实施方案中，式(IV)的取代的三联苯二胺具有 式(V)的结构<formula>formula see original document page 13</formula> 式(v)
其中R!和R3为甲基；并且R2为具有1到IO个碳原子的烷基。 隨31 在另一个具体实施方案中，式(IV)的取代的三联苯二胺具有式(VI)的结构:
<formula>formula see original document page 13</formula> 式(VI)
其中R!和R3为甲基。 在另一个具体实施方案中，式(IV)的取代的三联苯二胺为 N,N'-二(3,4-二曱基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三联苯]-4，4"-二胺，其具有式(VII)的结构<formula>formula see original document page 14</formula>式(VII)
隨51 如果需要，电荷输送层还可以包括其它电荷输送分子。例 如，电荷输送层可以包含其它三芳基胺，例如TPD、三-对曱苯胺、1,1-二(4-二-[对曱苯基]氨基苯基)环己烷和其它类似三芳基胺。其它合适的 电荷输送分子包括N,N,N',N'-四[4-曱基苯基]-[l,r-联苯]-4，4'-二胺；和购 自Takasago的N,N-二[4-(4,4-二苯基-l,3-丁间二烯基)苯基]-苯胺。另外 的电荷输送分子可以例如帮助使背景电压减到最小。
隨61电荷输送层还包括一种或多种电荷输送分子或组分分散于 其中的聚合物基料树脂。树脂应基本可溶于许多溶剂，例如二氯曱烷或 其它溶剂，以便电荷输送层可以涂布到成像元件上。典型的可溶于二氯 曱烷的基料树脂包括聚碳酸酯树脂、聚乙烯^t唑、聚酯、聚芳基化合物、 聚丙烯酸酯、聚醚、聚砜、聚苯乙烯、聚酰胺等。基料树脂的分子量可 以例如为约20,000到约300,000，包括约150，000。
隨71 重均分子量Mw为约20,000到约250,000的聚碳酸酯树脂 是适用的，并且在实施方案中可以使用重均分子量Mw为约50,000到约 120，000的聚碳酸酯树脂。电学不活泼的树脂材料可包括可以LEXAN 145购自General Electric Company的重均分子量(Mw)为约35,000到约 40,000的聚(4,4'-二亚丙基-二亚苯基碳酸酯)；可以LEXAN 141购自 General Electric Company的分子量为约40,000到约45,000的聚(4,4'-异 亚丙基-二亚苯基石友酸酯)；和可以MERLON购自Mobay Chemical Company的分子量为约20,000到约50,000的聚碳酸酯树脂。也可以使 用购自Mitsubishi Gas Chemical Corporation的被称为PC-Z⑧的树月旨。在 具体实施方案中，使用购自Bayer Chemical Company的分子量为约
70,000到约200,000的MAKROLON。在其它具体实施方案中，使用分 子量为约40,000的PC-Z。
「00581 本公开内容的电荷输送层在实施方案中包括约20 wt。/o到 约40 wt。/。的取代的三联苯二胺和约60 wt。/。到约80 wt。/。的聚合物基料树 脂，两者均按电荷输送层的总重量计。在具体实施方案中，电荷输送层 包括约25 wt。/o到约35 wt。/。的取代的三联苯二胺和约65 wt。/o到约75 wt%
的聚合物基料树脂。
隨91 通常，感光体转鼓的电荷输送层可以仅为单层。双电荷输 送层目前几乎没有或没有应用，因为即使有用，它们也将在浸涂期间发 生再溶解和混合，浸涂是涂布转鼓的主要方法。但是，可能的是电荷输 送层包括双层或多层，并且那些实施方案仍在考虑之列。通常，紧挨着 电荷产生层的最下层电荷输送层将比施加到其上的后续层包含更多的 取代的三联苯二胺。
隨01 在具有单一电荷输送层的实施方案中，取代的三联苯二胺 基本均质地分散在整个聚合物基料中。 一个或多个电荷输送层也可以掺 杂聚四氟乙烯(PTFE)颗粒以提高耐磨性。
隨11 通常，电荷输送层的厚度为约IO到约100微米，包括约20 微米到约60微米，但是也可以使用这些范围之外的厚度。通常，电荷 输送层与电荷产生层的厚度比在实施方案中为约2:1到200:1,并且在一 些情况下为约2:1到约400:1。在具体实施方案中，电荷输送层为约10 微米到约40微米厚。
『00621 任何合适的技术可以用来混合并将电荷输送层施加到电荷
产生层上。通常，将电荷输送层的组分混合入有机溶剂形成涂料溶液。 可以使用的有机溶剂的实例包括芳烃、脂族烃、卣代烃、醚、酰胺等或 其混合物。在实施方案中，可以以各种量使用溶剂，例如环己酮、环己 烷、氯苯、四氯曱烷、氯仿、二氯曱烷、三氯乙烯、曱苯、四氢呋喃、 二口恶烷、二甲基甲酰胺、二曱基乙酰胺等。在具体实施方案中，使用重
量比为75:25的THF和曱苯的混合物。典型的施涂技术包括浸涂、环涂、 挤塑模涂、喷涂、辊涂、绕线棒涂等。干燥涂料溶液可以由任何合适的 常规方法，例如烘千、红外线辐射干燥、空气干燥等完成。当电荷输送 层包括双层或多层时，各层进行溶液涂布，然后在施涂下一层之前在高 温下完全干燥。
隨31 如果需要，可以向电荷输送层中添加其它已知组分。这种 组分可以包括诸如受阻酚的抗氧剂、流平剂、表面活性剂和耐光冲击剂 或还原剂。可以添加颗粒分散体来提高电荷输送层的机械强度或在电荷 输送层中另外提供光散射性能。
「00641 本公开内容的成像元件可以包括基材32、任选的空穴阻挡 层34、任选的粘合剂层36、电荷产生层38、电荷输送层40和任选的外 涂层42。现在参考图1和2描述其余各层。
隱51 基材载体32为成像元件的所有层提供支撑。其具有硬质转 鼓的形状并且可以具有将应用的成像应用所需的直径。其通常由导电材 料，例如铝、铜、黄铜、镍、锌、铬、不锈钢、铝、半透明铝、钢、镉、 银、金、锆、铌、钽、钒、铪、钛、镍、铬、鵠、钼、铟、锡和金属氧 化物制成。
「00661 任选的空穴阻挡层34对来自相邻导电层的空穴注入电荷 产生层形成有效屏障。空穴阻挡层材料的实例包括Y氨基丙基三乙氧基 硅烷、氧化锌、二氧化钛、二氧化硅、聚乙烯醇缩丁醛、酚醛树脂等。 例如US 4,291,110、 US 4,338,387和US 4,286,033中公开了含氮硅氧烷 或含氮钛化合物的空穴阻挡层，在此将这些专利的公开内容全部引入。 类似地，US 6,255,027、 6,177,219和6,156,468中说明了包含分散在树脂 中的多个光散射颗粒的空穴阻挡层的感光体，在此将其全部公开内容引 入作为参考。例如，US 6,156,468的实施例1公开分散在线性酚醛树脂
中的二氧化钛的空穴阻挡层。阻挡层可以由任何合适的常规方法施加， 该常规方法例如喷涂、浸涂、拉伸棒涂、凹槽辊涂布、丝网、气刀涂布、 逆辊涂布、真空沉积、化学处理等。阻挡层应是连续的并且更具体地具 有约0.2到约25微米的厚度。
陽671 任选的粘合剂层36可以施加到空穴阻挡层上。可以使用任
约200微米到约900微米，、和更具体地约MO微米到约700微米的;燥 厚度。可以使用任何合适的溶剂或溶剂混合物形成粘合剂层的涂料溶 液。典型的溶剂包括四氢呋喃、曱苯、二氯曱烷、环己酮等及其混合物。 任何其它合适的和常规的技术可以用来混合并且然后将粘合剂层涂料 混合物施涂于空穴阻挡层。典型的施涂技术包括喷涂、浸涂、辊涂、绕线棒涂等。干燥沉积的涂层可以由任何合适的常规技术，例如烘干、红 外线辐射干燥、空气干燥等完成。
隨81 可以施加任何合适的电荷产生层38,其可以随后在其上涂 布有相邻的电荷输送层。电荷产生层通常包括电荷产生材料和成膜聚合 物基料树脂。因为其对白光的敏感性，例如氧钒基酞菁、无金属酞菁、 苯并咪唑芘、无定形竭、三角硒、硒合金，例如硒-碲、硒-碲-砷、砷化 硒等及其混合物的电荷产生材料可能是合适的。氧钒基酞菁、无金属酞 菁和碲合金也是有用的，因为这些材料提供对红外光敏感的额外好处。 其它电荷产生材料包括喹吖啶酮、二淡蒽締蒽酮(anthanthrone)颜料、苯 并咪唑茈、取代的2,4-二氨基-三嗪、多核芳族醌等。苯并咪唑芘组合物 是公知的，并且记载在例如US 4,587,189中，在此将其全部公开内容引 入作为参考。如果需要，也可以使用本领域中已知的其它合适的电荷产 生材料。选择的电荷产生材料应对电子照相成像方法中成像辐照步骤期 间的波长为约600到约800 nm的活化辐射敏感，以形成静电潜像。在 具体实施方案中，电荷产生材料为羟基镓酞菁(OHGaPC)、氯镓酞菁 (ClGaPc)或氧钛酞菁(TiOPC)。
「00691 任何合适的非活性成膜聚合物材料可以用作电荷产生层38 中的基料，包括例如US3，121，006中描述的那些，在此将其全部公开内 容引入作为参考。典型的有机聚合物基料包括热塑性和热固性树脂，例 如聚碳酸酯、聚酯、聚酰胺、聚氨酯、聚苯乙烯、聚芳醚、聚芳砜、聚 丁二烯、聚砜、聚醚砜、聚乙烯、聚丙烯、聚酰亚胺、聚甲基戊烯、聚 苯硫醚、聚乙烯醇缩丁醛、聚乙酸乙烯酯、聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚 乙烯醇缩乙醛、聚酰胺、聚酰亚胺、氨基树脂、聚苯醚树脂、对苯二曱 酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚苯乙烯和丙烯腈共聚物、聚氯乙烯、 氯乙烯和乙酸乙烯酯共聚物、丙烯酸酯共聚物、醇酸树脂、纤维素成膜 剂、聚(酰胺酰亚胺)、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-氯乙烯共聚物、 乙酸乙烯酯-偏二氯乙烯共聚物、苯乙烯-醇酸树脂等。
「00701电荷产生材料可以以各种量存在于聚合物基料组合物中。 通常，约5到约90 wt。/。的电荷产生材料分散在约10到约95 wtM的聚合物 基料中，并且更具体地约20到约70wt。/。的电荷产生材料分散在约30到约 80 wt。/。的聚合物基料中。
隨"电荷产生层通常厚度为约0.1微米到约5微米，并且更具 体地具有约0.3微米到约3微米的厚度。电荷产生层厚度与基料含量有 关。较高聚合物基料含量的组合物通常要求电荷产生层的厚度较厚。可 以选择这些范围之外的厚度，以便提供足够的电荷产生。
隨21 如果需要，外涂层42可以用来提供成像元件表面保护和改 善耐磨性。外涂层是本领域中已知的。通常，它们起保护电荷输送层免 受机械磨损和暴露于化学污染物的作用。
隨31 制备的感光体转鼓可以用于任何合适的和常规的电子照相 成像方法，其在图像暴露于活化电磁辐射之前使用均匀的电荷。当电子 照相元件的成像表面均匀带有静电荷并且成像暴露于活化电磁辐射 时，可以使用常规的正像或反转显影技术，以在本公开内容电子照相成 像元件的成像表面上形成标记材料图像。因此，通过施加合适的电偏压 和选择具有合适电荷极性的调色剂，可以在本公开内容电子照相元件的
成像表面上的带电区域或放电区域中形成调色剂图像。
隨41 本公开内容的成像元件可以用于成像。这种方法包括在成 像元件上产生静电潜像。然后显影潜像并转印到合适的基材，例如纸 上。成像的方法，特别是静电复印成像和打印，包括数字静电复印成像 和打印同样由本公开内容涵盖。更具体地，本发明的多层光电导成像元 件可以选择许多不同的已知成像和打印方法，包括例如电子照相成像 法，特别是静电复印成像和打印方法，其中带电潜像由于有合适的电荷 极性的调色剂组合物而变为可见。另外，本公开内容的成像元件可用于
彩色静电复印应用，特别是高速彩色复印和打印方法，并且该元件在实 施方案中在例如约500到约900纳米，和具体地约650到约850纳米的
波长范围内敏感，由此可以选择二极管激光器作为光源。
实施例 制备感光体转鼓
「00751 在实施例中，通过在直径为30 mm和长度为40.4 cm的铝 转鼓的粗糙表面上施加电荷阻挡层制备感光体转鼓。通过浸涂施加锆硅 烷阻挡层，并且干燥的层涂层具有1.15微米的厚度。转鼓随后浸涂电荷 产生层。电荷产生层为l)分散在重量比为34:66的乙酸正丁酯和二曱苯 溶剂混合物中的45 wt% VMCH (购自Dow Chemical Co.)基料树脂基质中的55 wt。/。氯镓酞菁；或2)分散在乙酸正丁酯溶剂中的40 wt% VMCH 基料树脂基质中的60 wt。/。羟基镓酞菁V型。
实施例1
「00761 在实施例1中，电荷输送层溶液包括N,N'-二(4-曱基苯 基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三联苯]-4,4"-二胺(p-MeTer)(3.85克)、购 自Mitsubishi Gas Chemical Company, Ltd.的聚碳酸酯PCZ-400 (聚(4,4'國 二羟基-二苯基-l-l-环己烷)，Mw = 40,000)(7.15克)、29.25克四氢呋喃 和9.75克曱苯。混合溶液，然后直接施涂到感光体转鼓的电荷产生层之 上。由环涂法施涂电荷输送层，并且在135。C强制空气烘箱中干燥40分 钟，得到的千燥层具有约30微米的厚度。得到的电荷输送层包括35% 的空穴输送分子p-MeTer。
实施例2
「00771 在实施例2中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括N,N'-二(4-曱基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三联 苯]-4,4"-二胺(p-MeTer)(2.46克)、PCZ-400 (7.36克)、30.14克四氬呋喃 和10.05克曱苯。得到的电荷输送层包括25%的空穴输送分子p-MeTer。
实施例3
隨81 在实施例3中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括N,N'-二(3-曱基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三联 苯]-4,4"-二胺(m-MeTer)(3.85克)、PCZ-400 (7.15克)、29.25克四氬呔喃 和9.75克曱苯。得到的电荷输送层包括35%的空穴输送分子m-MeTer。
实施例4
『00791 在实施例4中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括N,N'-二(3-曱基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三联 苯]-4,4"-二胺(m-MeTer)(2.46克)、PCZ-400 (7.36克)、30.14克四氬吹喃 和10.05克曱苯。得到的电荷输送层包括25%的空穴输送分子m-MeTer。实施例5
隱01 在实施例5中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括N,N'-二(4-叔丁基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三 联苯]-4,4"-二胺(4-tBuTer)(3.85克)、PCZ-400 (7.15克)、29.25克四氢呋 喃和9.75克曱苯。得到的电荷输送层包括35%的空穴输送分子4-tBuTer。
实施例6
「00811 在实施例6中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括N,N'-二(4-叔丁基苯基)-N,N'-二[4-(正丁基)苯基]-[对三 联苯]-4,4"-二胺(4-tBuTer)(2.46克)、PCZ-400 (7.36克)、30.14克四氢^^ 喃和10.05克曱苯。得到的电荷输送层包括25%的空穴输送分子4-tBuTer。
实施例7
隱21 在实施例7中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括N,N,N',N'-四[4-曱基苯基]-[1,l'-联苯]-4,4"- 二胺 (TMTPD)(3.85克)、PCZ-400 (7.15克)、29.25克四氬吹喃和9.75克甲苯。 得到的电荷输送层包括35%的空穴输送分子TMTPD。
实施例8
隱31 在实施例8中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括N,N,N',N'-四[4-曱基苯基]-[l，l'-联苯]-4,4"- 二胺 (TMTPD)(2.46克)、PCZ-400 (7.36克)、30.14克四氬呋喃和10.05克曱 苯。得到的电荷输送层包括25%的空穴输送分子TMTPD。
只十比例1
隱41 在对比例1中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括TPD(3.85克)、PCZ-400 (7.15克)、29.25克四氢呋喃和 9.75克曱苯。得到的电荷输送层包括35。/。的空穴输送分子TPD。
对比例2
「00851 在对比例2中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括TPD(2.46克)、PCZ-400(7.36克)、30.14克四氢呋喃和 10.05克甲苯。得到的电荷输送层包括25%的空穴输送分子TPD。
对比例3
隱61在对比例3中，根据实施例1制备感光体转鼓，除了电荷 输送层溶液包括TPD (3.93克)、PCZ-400 (5.89克)、23.3克四氢呋喃和 7.8克曱苯。得到的电荷输送层包括40%的空穴输送分子TPD。
测试
隨71 将试样放置在设计用来模拟感光体转鼓与成像设备各部件 的相互作用的磨损测试夹具中。试样循环运动，并且在围绕转鼓的各个 横向和轴向位置测量试样的厚度。计算材料损耗的速率并用纳米/千周表
示。实施例2、 3、 4、 5和6具有优越的磨损性能同时保持优异的电响应。
权利要求
1.一种感光体转鼓，包括电荷输送层，其中该电荷输送层包括聚合物基料树脂和式(I)的取代的三联苯二胺电荷输送分子 式(I)其中R1和R2独立地选自氢、具有1到10个碳原子的烷基、卤素和苯基；并且其中R1和R2的至少一个不为氢。
2. 权利要求1的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺构成电荷输 送层的约20 wt。/。到约40 wt% ，基于电荷输送层的总重量。
3. —种感光体转鼓，包括基材、任选的空穴阻挡层、任选的粘合 剂层、电荷产生层和电荷输送层；其中所述电荷输送层包括聚合物基料树脂和具有式(I)结构的取代 的三联苯二胺<formula>see original document page 2</formula>式(I)其中R1和R2独立地选自氢、具有1到10个碳原子的烷基、卣素和苯基；并且其中R1和R2的至少一个不为氢；和其中电荷输送层包括约20 wt%到约40 wt%的取代的三联苯二胺。
4. 一种成像方法，包括 在感光体转鼓上产生静电潜像；显影该潜像；和将显影的静电图像转印到合适的基材上；其中感光体转鼓具有包括具有式(I)结构的取代的三联苯二胺的电 荷输送层式(I)其中Ri和R2独立地选自氬、具有1到IO个碳原子的烷基、卣素和 苯基；并且其中Ri和R2的至少一个不为氢。
5. —种感光体转鼓，包括电荷输送层，其中该电荷输送层包括聚 合物基料树脂和式(IV)的取代的三联苯二胺电荷输送分子式(iv)<formula>see original document page 3</formula>其中Rb R2和Rg独立地选自氩、具有1到IO个碳原子的烷基、卤 素和苯基；并且其中Ri、 R2和R3的至少一个不为氢。
6.权利要求5的感光体转鼓，其中取代的三联苯二胺构成电荷输 送层的约20 wt。/。到约40 wt%,基于电荷输送层的总重量。
全文摘要
本发明公开一种成像元件，即感光体转鼓，其具有包括具有式(I)结构的取代的三联苯二胺的电荷输送层，其中R₁和R₂独立地选自氢、具有1到10个碳原子的烷基、卤素和苯基；并且其中R₁和R₂的至少一个不为氢。
文档编号G03G5/06GK101201561SQ20071019951
公开日2008年6月18日 申请日期2007年12月10日 优先权日2006年12月11日
发明者A·M·霍尔甘, D·S·伦菲尔, J·F·亚努斯, K·M·吉扎, N·L·贝尔克纳普 申请人:施乐公司