光学叠层体、偏振板和图像显示装置的制作方法

专利名称：：光学叠层体、偏振板和图像显示装置的制作方法
技术领域：
：本发明涉及光学叠层体、其制造方法、以及具有前述光学叠层体的偏振板(偏光板)、具有光学叠层体和偏振板中的任何一个的图像显^置。
背景技术：
：io在阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)等图像显示装置的最表面设有包含具有各种功能的功能层的光学叠层体。作为这样的光学叠层体，已知具有在基材上依次设置防弦层和低折射率层等功能层的觀结构，在这些功能层中含有作为防炫齐啲微粒子的光学觀体(例如参照专禾忟献1和2)。其具有优异的防弦性能。15在这样的光学叠层体的防弦层中，广泛应用二氧化硅粒子作为防弦剂含有二氧化硅粒子作为防炫剂的防炫层例如通过在基材上涂布含有二氧化硅粒子和固化性树脂的防弦层形成用树脂组合物而形成。但是在用含有二氧化硅粒子作为防弦剂的防弦层形成用树脂组合物形成光学叠层体盼瞎况下，存在防弦层形成用树脂组合物中的二氧化硅粒子的分散稳20定性降低而7験，所形成的防炫层的光学特性低的问题。专利文献1:日本特开20074)90717号公报专利文献2:日本特开2006-267556号公报
发明内容25针对上述现状，本发明的目的是采用在用于形成含有二氧化硅粒子的防弦层的防弦层形成用树脂组合物中二氧化硅粒子适度凝集并且分散稳定性优异的组糊，提供一种光学特性优异的光学觀体。本发明的光学叠层体的特征在于，具有透光性基材、含有二氧化硅粒子的防炫层，，二氧化硅粒子的介电常数(比誘電率)小于4.0。30tm二氧化硅粒子的比表面积为2000m2/g以下。雌二氧化硅粒子是无定形二氧化硅粒子。4腿相对于防弦层的树脂成分画质量份，二氧化硅粒子的含量为1050质量份。此外，本发明提供图像显^置，其特征在于在最表面具有上述光学叠层5体。此外，本发明提供偏振板，其特征在于具有偏光元件(偏光素子)，在偏光元件表面上具有，光学ftjl体。此外，本发明提供图像显示装置，其特征在于在最表面上具有上述光学叠层体或上述偏振板。10此外，本发明提供光学特性得到改善的光学叠层体的制造方法，该光学叠层体包括透光性基材和含有二氧化硅粒子的防弦层，该方法的特征在于包括以下步骤(a)(e):(a)将二氧化硅粒子的介电常数调节至lj小于4.0的步骤；(b)将粘合齐附脂和根据需要的其它成分与前述二氧化硅粒子一起分散到15溶剂中并混合，调制防炫层形成用组合物的步骤，此时，该二氧化硅粒子间的静电弓l力得到抑制，获得二氧化硅粒子的凝集得到控制的组合物；(c)提供透光性基材的步骤；(d)在前^it光性St才上涂布步骤(b)中调制的防弦层形成用组合物，形^^布膜的步骤；20(e)使前述涂布膜千燥、固化，得到光学叠层体的步骤；在此，所获得的光学4M体兼制尤异的黑色再现性(黒色再現性)及防弦性。tt^地，在步骤(a)中，通过使用中空二氧化硅粒子作为二氧化硅粒子，改变其空隙率(空隙率)，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。此外，，在步骤(a)中，iM^参杂二氧化硅粒子，将前述二氧化硅粒子25的介电常数调节到小于4.0。itWhj继在步骤(a)中，aiw二氧化硅粒子的表面进行化学^t布，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。进一步地，im二氧化硅粒子的表面化学修饰是^ffi硅氧烷材料的疏水化表面化学鹏。30下面详细地说明本发明。5本发明中，只要不特别说明，将单体、低聚物、预聚物等固化性树脂前体总称为"树月g"。本发明的光学叠层透光性5#上具有含有二氧化硅粒子的防弦层。，二氧化硅粒子的介电常数为1.5以上，且小于4.0。具有含有这样的二5氧化硅粒子的防弦层的本发明的光学4M体显示出优异的光学特性的理由推测如下艮P，现有的光学叠层体含有二氧化硅粒子从而具有了高防弦性。但是，由于现有的二氧化硅粒子一般使用显示高介电常数的二氧化硅粒子，因此在防弦层形成用树脂组合物中会发生凝集。认为因此得不到二氧化硅粒子均匀分散的10防弦层，所形成的光学fijl体的光学特性低。与此相对，由于本发明的光学叠层tt防炫层中含有的二氧化硅粒子显示出特定范围的介电常数，因此二氧化硅粒子间的静电弓l力被抑制，二氧化硅粒子适度她驗，显示出优良的光学特性。，二氧化硅粒子的介电常数小于4.0。如果为4.0以上，则二氧化硅粒子15变得容易凝集，光学特性低。战介电常数越小越好。现在可得到的介电常数的下限为1.5，更im是2.0。tt^战介电常数的上限为3.3，更雌是3.0。二氧化硅粒子的介电常数可以测定二氧化硅粒子状态、或含有二氧化硅粒子的油墨组合物(一乂年组合物)的状态以及使用该组合物涂布、固化的光学叠层体的膜状态中的任何一个。作为其方法，有探针法、开放型共振器法20(開放型共振器法)、扰动空洞共^法(摂動空洞共振法)、传播迟延法(伝播遅延法)、椭圆偏光法等，根据介电常数的范围适当地选择各测定方法。测定物在凝胶状或液体形态的情况下可以使用专用的测定电Mi2行导通，以确定介电常数。在测定物为固化膜状的情况下可以使含有二氧化硅粒子的层作为最表面的光学叠层体导通，从而确定介电常数。通过切削等仅切出固化膜的含有二氧化硅粒子25的层部分^iS行观啶，育,更好地确定介电常数。二氧化硅的介电常数例如可以ffii改变中空二氧化硅粒子的空隙率、在二氧化硅粒子中掺杂、对二氧化硅粒子表面进行化学修饰等方法来改变。向二氧化硅粒子掺杂的情况可以举出氟、硼、磷等非金属元素掺杂，钛、铋、镍等过渡金属、金属元素掺杂，或多元掺杂、氧化物掺杂等，可通过适当选择掺杂的30元素或调节掺杂浓度来改变介电常数。对于前述化学修饰，将在下面描述，在对二氧化硅粒子表面进行诱导物处理时，通过调节表面处理的程度或者适当选择表面处理剂，可以改变介电常数。作为，二氧化硅粒子，优选t该面积为2000m2/g以下。皿2000m2/g时会变成多L质，存在凝集控制困难的可能性。更上述比表面积的上限为51500m2/g。此外，imJd悉比表面积的下限为100m2/g，更tt^为500m2/g。上述比表面积可以使用BET比表面积测定装置(岛津制作所制卜，^7夕-3000)进行测定。ttelh^二氧化硅粒子的表面实施有机物处理。通逝OT这样的二氧化硅粒子，不会使下面详述的防弦层形鹏树脂组合物的粘度上升，能够使二氧10化硅粒子的分散性良好。作为实施了，有机物处理的二氧化硅粒子，不特别限定，可以是结晶性、溶胶状、凝胶状、中空、多孑L质等中的任何一种状态的二氧化硅粒子。此外，也可以是无定形二氧化硅粒子。此外，作为实施了上述有机物处理的二氧化硅粒子，可以使用市售品，例如可列举无定形二氧化硅(大日精化工业社制造)、15了工口、》p(f夕，公司制造)、脇二氧化硅(日产化学工业制造)等。从形成有效的凹凸形状、表现防弦性的角度考虑，优^J^二氧化硅粒子是无定形二氧化硅粒子。上述有机物处理有在二氧化硅粒子表面化学地结合化合物的方法、不与粒子表面化学结合而浸透到粒子内或粒子间的空隙等的物理方法，可以使用任一20禾中。一般地，从处理效率的角度考虑，雌使用禾,羟基或硅醇基(、"/—々基)等二氧化硅粒子表面的活性基的化学处理法。通过实施上述有机物处理而进行的疏水化可以通过三甲基氯硅烷等甲硅烷基化剂(、》"w匕剤)等进行，可衝i甲，基化剂的添加量、反应ME等调节25gl7W七率进行处理。考虑到甲硅烷基化处理二氧化硅粒子的分散稳定性等，疏水化率，为5090%左右。作为在处理中使用的化合物，可以使用和上述二氧化硅粒子表面的活性基反应性高的硅烷系、硅氧烷系(y口年廿y系)、^E^系材料等。例如，可以列举甲基三氯硅烷等的直^s单魏代硅氧烷材料(、"y材料)、支麟基30单取代的硅，材料(、>y3—V材料)、或二正丁基二氯娃院、乙基二甲基氯硅烷等的多取代直麟基硅鄉化合物(乂y〕一v化合物:)、多取^^:链烷基硅氧烷化合物(^y〕一y化合物:)。同样地，也可以有效地fOT直g基或支li^基的单取代、多取代硅氧烷材料(、乂口年廿少材料)、硅，材料。根据需要的功能，也可以^^在烷的末端或中间部位具有杂原子、不5饱和结合基(不飽和結合基)、环状结合基(環状結合基.)、芳香族官能团等的材料。由于这些化合物所含的烷基显示出疏水性，因此可以将被处理材料表面从亲水性容易地变换成^7K性，在未处理时缺乏亲和性的高針材料也能够得到高亲和性。相对于防弦层的树脂成分100质量份，上述二氧化硅粒子的含量优选为io1050质量份。小于10质量份时，防弦性可能不够。更^j:也，战含量的下限为20质量份。此外，舰50质量份时，光透过率降低，在用作光学叠层体的情况下，可能会对光学特性产生不好的影响。更tt^h述含量的上限为40质量份。mid^二氧化硅粒子的平均粒径为0.510.0Mm。小于0.5Mm时，凝集力15增大，;驗控制可能变得困难，而且防炫性降低，可能需要大量添加。舰IO.Omhi时，，过率降低，在制成光学叠层体的情况下，可能会对光学特性产生不好的影响。更，，平均粒径为1.05.0miti。上述平均粒径是利用库尔特颗粒计数仪。一小夕一力々y夕一)测定得到的值。20，二氧化硅粒子可以单独使用，也可以与有机树脂珠并用。，有机树脂珠可以举出聚苯乙烯珠(折射率i.60)、三聚mi安珠(折射率1.57)、丙烯酸类珠(7列/Mf—X、)(折射率1.491.53)、丙烯酸-苯乙烯珠(7夕y/W7千l^乂匕、、一X、)(折射率1.541.58)、苯基胍胺-甲醛縮合物珠(折射率1.66)、三聚氰胺-甲醛縮合物(折射率1.66)、聚碳酸酯珠(折射率1.57)、聚乙25烯珠(折射率1.50)等。j雄战有机树脂珠的表面具有船K性基，作为这样的珠，例如可以举出聚苯乙烯珠、折射轉易改变的丙烯酸-苯乙烯珠。mi^有机树脂郷过粒子微是否齐整等毅雠機择。^J^有机树脂珠的平均粒径为0.510.0Mm。小于0.5Mm时，^據力增大，；驗控制可能变得困难，而且得不到足够的防弦性，可能需要大量地添加。30MIO.Omhi时，光M:率斷氏，在制成光学艱体时，可能会对光学特性产生不好的影响。更imt也，平均粒径为1.05.0Mm。战平均粒径是利用库尔特颗粒计数仪(3—》力々y夕一)测定得到的值。相对于100质量份的二氧化硅粒子，上述有机树脂珠的含量雌为1050质量份。小于10质量份时，可能得不至促够的防弦性。5超过50质量份时，^iffl:率斷氏，在制成光学叠层体时，可能会对光学特性产生不好的影响。更优i^i^含量的下限是20质量份。此外，更ttit上限是40质量份。im防弦层还含有防污剂。对于现有的光学叠层体，如果为了赋予防污性而使防炫层形成用树脂组合io物中含有防污剂时，会产生防污剂和二氧化硅粒子凝集而使防炫层的光学特性降低的问题。但是，用于形成本发明的光学叠层体的防弦层的防弦层形成用树脂组合物中含有的二氧化硅粒子由于显示出上述特定范围的介电常数，因此即使在防炫层形鹏树脂组合物中含有上述防污齐啲情况下，也可以抑制静电引九二氧15化硅粒子和防污剂难以凝集。因此，在要求帝隨的光学叠层体的防污性高而在防炫层形成用树脂组合物中添加防污剂盼瞎况下，也不会降低光学特性，从而育辦得到显示出高防污性的光学観体。对上述防污剂不特别限定，可以使用公知的防污剂，例如可举出氟系化合物和/或硅系化合物。具体地，可举出大日本^V年化学工业社制的乂力、77、乂夕20F-482。上述防炫层含有防污剂时，特别构成最表面。由此，上述光学叠层体育詢多充分发挥防污性。含有上述二氧化硅粒子的防弦层是表面具有凹凸m、用于抑制外部光对图像的映照(映0込W、反射以及面闪光(闪烁)等导致的可视性斷氐的层。25作为在，表面上形成凹凸形仗的方法，可举出禾佣上述二氧化硅粒子以及根据需要的上述有机树脂珠形成凹凸的方法、M51实施压花赋型处理形成的方法。上述防弦层可以调制含有上述二氧化硅粒子、粘合剂树脂、溶剂和任意成分的防弦层形成用柳旨组合物来形成。30在上述防弦层形成用树脂组合物中，粘合齐卿脂雌具有透明性，例如可举出通过紫外线或电子束固化的树脂即电离方M线(電離放射線)固4I^树脂、电离方謝线固化型树脂和溶齐扦燥型柳旨(热塑性树脂等仅使涂布时用于调节固体成分而添加的溶剂干燥即成为被膜的树脂)的混合物、或热固性树脂。更{，为电离方M线固化型树脂。5作为上述电离方i(l寸线固化型树脂，例如可举出具有丙烯酸酯类的官能团的化合物等具有1个或2个以上不饱和键的化合物。作为具有1个不饱和键的化合物，例如可举出(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯勘比咯烷酮等。作为具有2个以上不饱和键的化合物，例如可举出聚羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三丙二io醇二(甲基)丙烯酸酯、二甘醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等的多官能化合物与(甲基)丙烯酸酯等的反应生鹏(例如多元醇的多(甲基)丙烯酸酯)等。财卜，在本说明书中，"(甲基)丙烯酸酯"指的是甲基丙烯酸酯禾吶烯酸酯。15除了上述化合物，也可以使用具有不饱和双键的较低分子量的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇聚烯树脂(求y于才一々求y工^榭脂o等作为上述电离放射线固化型树脂。上述电离方妇寸线固化型树脂可以和歸旰燥型树脂并用。通过并用竊扦20燥型树脂，可有效地防止涂布面的被膜缺陷，这样可以获得优异的亮黑感。一般地，作为可以与上述电离方妇寸线固化型树脂并用的M斤燥型树脂，不特别限定，可以使用热塑性树脂。对战热塑性树脂不特别限定，例如可举出苯乙烯类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、乙酸乙烯酯类树脂、乙烯基醚类树脂、含卣树脂、月旨环^fc希烃类树脂、25聚碳酸酯类树脂、聚酯类树脂、聚翻安类树脂、纤维素衍生物、硅，类树脂以及繊或弹性体等。雌上述热塑性树脂为非结晶性的、并在有机翻」(特另提可溶解多种聚合物、固化性化合物的通用溶剂)中可溶。特别地，从制膜性、透明性或耐气候性的角度考虑，^乙烯类树脂、(甲基)丙烯酸类树脂、月旨环^)i烃类树脂、聚酯类树脂、纤维素衍生物(纤维素酯类等)等。30在本发明的光学叠层体中，后述的透光性基材的材料为三乙酰纤维素10(TAC)等纤维素类树脂时，作为战热塑性树脂的雌具体实例，可举出纤维素类树脂，例如硝酸纤维素、乙酰纤维素、乙酸丙酸纤维素、乙基羟基乙基纤维素、乙酰丁基纤维素、乙基纤维素、甲基纤维素等纤维素衍生物等。通)i使用纤维素类树脂，可以提高与透光性基材、根据需要形成的防静电层等层的密5合性禾随吸性。进而，除了上述纤维素类树脂，还可以举出乙酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、偏二氯乙烯及其共聚物等乙烯类树脂，聚乙烯醇縮甲醛、聚乙烯醇縮丁瞎縮醛树脂，丙烯酸类树脂及其共聚物、甲基丙烯酸类树脂及其共聚物等丙烯酸类树脂，聚苯乙烯树脂，聚,安树脂，聚碳酸酯树脂等。10作为上述粘合剂树脂f顿的热掛性树脂，可举出酚醛树脂、尿素树脂、邻苯二甲酸二烯丙酯树脂、三聚氰胺树脂、胍胺树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酉旨树脂、环氧树脂、氨基醇酸树脂、三聚氰胺-尿素共缩合树脂、硅树脂、聚硅氧烷树麟。上述防弦层形成用树脂组合物tt^含有光聚合弓l发剂。作为上述光聚合弓I15发剂，可举出作为苯乙酮类(例如商品名为一^力、年-7184，于/《.7X夕十》亍^.亇^力々义社制造)市售的l-羟基-环a^-苯基-酮、二苯甲酮类、噻吨酮类、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、芳香族重氮像盐、芳香族锍盐、芳香族碘鴒"盐、金属茂(少夕ir口y)化合物、苯偶姻磺酸酯等。这些光聚合引发剂可以^^虫使用或者将两种以上并用。20上述光聚合引发剂的添加量相对于上述电离放射线固化型树脂固体成分100质量份，优选为0.110质量份。在不会对本发明的效果产生影响的情况下，可以根据需要向上述防弦层形成用树脂组合物添加其它任意成分。作为上述任意成分，可举出，有机树脂珠、战防污剂、上述以夕卜的树脂、表面活性剂、偶联剂、增粘剂、着色防止25齐U、颜料或染料等的着色剂、消泡剂、流平剂、阻燃剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、粘着赋与剂、聚合抑制剂、抗氧化剂、表面改性剂等。这些成分可以〈顿在防弦层中通常4柳的公知物质。上述防弦层形成用树脂组合物例如可通过^i:述二氧化硅粒子、粘合剂树月旨、光聚合弓l发剂以及其它任意成分与翻嗨合并进行分散处理获得。在上述30混合分散中，可以4柳涂料调配器(^t*z卜、>工一力一)或珠磨机(匕、、-乂$/10作为战竊U，可举出水、醇(如甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、苯甲醇)、酮(如丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮)、酯(如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、甲酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸丁酯)、脂肪5族烃(如己烷、环己烷)、卣代烃(如二氯甲烷、氯仿、四氯化碳)、芳香族烃(如苯、甲苯、二甲苯)、醐安(如二甲基甲醐安、二甲基乙醐安、n-甲勘比咯烷酮)、醚(如二乙醚、OS烷、四氢呋喃)、醚醇(如l-甲氧基-2-丙醇)等，但不限于上述二此外，这些翻呵以适当地混合1种以上来使用。其中尤其{腿酮类、酯类、芳香族烃类，在分散性、分散稳定性、安全性方面，更4继io^il至少一种酮类激U，进一步^it为甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮。地，上述防弦层是在透光性St才上涂布，防炫层形成用树脂组合物、根据需要进行干燥并利用活性能量线照射使其固化而形成的。作为涂布上述防炫层形成用树脂组合物的方法，可举出辊涂法、迈耶绕线#^布法、凹槽辊涂布法、口模涂布法。15作为上述活性能量线照射，可举出利用紫外线或电子束的照射。作为紫外线源的具体实例，可举出超高压汞灯、高压汞灯、低压汞灯、碳弧灯、背光源荧光灯、金属卣化物灯等的光源。紫外线的波长可以f顿190380nm的波长范围。作为电子束的具体实例，可举出Cockcroft-Walton型、VandeGraaff型(/^f'夕、'，:7卜型)、共振变压器型、绝缘芯变压器型(絶縁〕7変圧器型)、或20直线型、Dynamitron型(夕V于$卜口乂型)、高频型等各种电子束加it器。，防炫层的厚度,为1.07.5(Lun。当小于1.0Mm时，可能得不到足够的防弦性。舰7.5Mm时，itM率降低，在制成光学叠层体时，可能会对光学特性产生不好的影响。更t^i:述厚度的下限为2.0Mm。此外，更±限为3.0,。25此外，战防炫层的厚度可禾,激光显微镜、SEM、TEM进行截面观察而测定。例如，作为禾,激光显微镜的膜厚测定方法，可以使用激光共聚焦显微镜(LeicaTCS-NT:，^力社制造倍率2001000倍)，对防弦层的截面进t豫过观察。例如具体地，为了获得没有光晕的鲜明图像，可以在激光共聚焦显微镜中使用湿式物镜，同时为了消除物镜和防弦层截面间的空气层在防弦层截面30上加入大约2ml折射率为1.518的油进行观察。接着，对于显微IM察的1个画面，对每l点观啶凹凸的Max部、Mn部的膜，共测定2点。共测定5个画面，10点，算出平均值，由此可以求出平均膜厚。在SEM、TEM的截面观察中，也可以如上所述地观察5个画面，求出平均值。雌地，上腿光性基材是具有透明性、平滑性、耐热性且机械强度优异5的基材。作为形成上M光性基材的材料的具体实例，可举出聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯)、三乙酰纤维素(TAC)、二乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素、聚酯、聚翻安、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚乙烯醇縮乙醛、聚醚酮、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、或聚氨酯等热塑性树脂，优io选地可举出聚酯(聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯)、三乙酰纤维素(TAC)。此外，作为上^光性基材，可以使用具有脂环结构的非晶质烯烃聚合物(环烯烃聚合物(COP)膜。其是采用降冰片烯类聚合物、单环的环状烯烃类聚合物、环状共轭二烯烃类聚合物、乙烯基脂环幼5，合物树月誇的基材，15例如可举出曰本if才y(株)制的廿才氺、乂夕7、'廿才/7(降冰片烯类树脂)、住友《一夕，Y卜(株)制的7《，,卜FS-1700、JSR(株)制7—卜:/(改性降冰片烯类树脂)、三井化学(株)制的7々u(环状烯烃共聚物)、Ticona公司制Topas(环^:希烃共聚物)、日立化成(株)制的才7卜卜,乂OZ-1000系列(脂环式丙烯酸类树脂)等。另外，作为三乙酰纤维素的替代基材，还雌旭化成20女^力AX、(株)制的FV系列(低双折射率、低光弹性模)。上M光性S^雄将上述热塑性树月雜喊柔软性好的膜状体f顿，但是也可以根据固化性所要求的使用方式来4OT这些热塑性树脂的板，或者也可以4OT玻璃板的板状体。Jd^t光性謝的厚度雌为20300,更雌为30200,在透光25性基材为板状体的情况下，其厚度可以超过，厚度，为300inm5000Mm。在基材上形成防静电层等时，为了提高粘着性，除了电晕放电处理、氧化处理等物理M之外，也可以预先涂布被称为锚固剂(7乂力一剤)^漆的涂料。本发明的光学叠层体{，在±^防弦层上还具有低折射率层。上述低折射率层形成在防弦层的表面上，其折射率比防弦层低。根据本发明的im方式，30防炫层的折射率为1.48以上，低折射率层的折射率小于1.48，为1.45以下。低折射率层可以由1)含有二氧化硅或氟化镁的材料，2)作为低折射率树脂的氟系材料，3)含有二氧化硅或氟化镁的氟系材料，4)二氧化硅或氟化镁的薄膜等的任一种构成。上述氟系材料是至少分子中含有氟原子的聚合性化合物或其聚合物。对聚5合性化合物不特别限定，例如优选具有通过电离方妇寸线固化的官能团(电离放射线固化性基)、通过热固化的极性基(热固化极性基)等固化反应性基团的聚合性化合物。此外，也可以是同时具有这些反应性基团的化合物。作为含有氟原子的具有电离細寸线固化性基的聚合性化合物，可广泛^ffi具有乙烯性不饱和键的含氟单体。更具体地，可列举氟微希烃类(例如氟乙烯、io偏氯乙烯、四氟乙烯、六氟丙烯、全氟丁二烯、全氟-2,2-二甲基-l,3-二氧杂环戊烯等)。作为具有(甲基)丙烯酰氧基的聚合性化，，有2,2,2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟辛基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(全氟癸基)乙基(甲基)丙烯酸酯、a-三氟甲基丙烯酸甲酯、15a-三氟甲基丙烯酸乙酯等分子中具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物；分子中具有下述基团的含氟多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等具有至少3个氟原子的碳数为114的織基、氟环烷基或氟亚烷基、和至少2个(甲基)丙烯酰氧基。作为含氟原子的具有热固化性极性基的聚合性化合物，例如可以举例4-氟20乙烯-全織基乙烯醚共聚物；氟乙烯-烃系乙烯基醚共聚物；环氧、聚氮酯、纤维素、酚醛、聚亚胺等各种树脂的氟改性品等。作为上述热固化性极性基例如ttit举出羟基羧基、氨基环氧基等氢键形成基。这些不仅与涂膜的密合性优良，而且与二氧化硅等无机超微粒子的亲和性也优异。作为同时具有电离放射线固化性基和热固化性极性基的聚合性化合物(氟25系树脂)，可以列举丙烯或甲基丙烯酸的部分和完全氟化烷基、烯基芳基酯类，完全或部分氟化乙烯基醚类、完全或部分氟化乙烯基酯类、完全或部分氟化乙烯基酮类等。作为含有氟原子的上述聚合性化合物的聚合物，例如可以举出包含至少一种具有上述电离放射线固化性基的聚合性化合物的含氟(甲基)丙烯酸酯化30合物的单体或单体混合物的聚合物；至少一种含氟(甲基)丙烯酸酯化合物与(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等分子中不含氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的共聚物；氟乙烯、偏氟乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、3,3,3-三氟丙烯、U,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、六氟丙烯这样的含氟单体的均聚物或共聚物；等。5此外，在这类共聚物中含有硅氧烷成分的含硅氧烷偏氟乙烯也可以作为上述聚合性化合物的聚合物使用。作为这种情况下的硅^^成分，可以列举(聚)二甲基硅氧院、(聚)二乙基硅氧院、(聚)二苯基硅氧垸、(聚)甲基苯基硅氧烷、烷基改性(聚)二甲基硅氧烷、含偶氮基的(聚)二甲基硅鄉、二甲基硅氧烷、苯基甲基硅氧烷、烷基芳烷基改性硅氧烷、氟硅氧烷、聚醚改性的硅10氧烷、月旨肪酸酯改性的硅氧烷、甲驢硅氧烷、含硅醇基的硅氧烷、含烷氧基的硅氧垸、含苯酚基(7-/—》基)的硅氧垸、甲基丙烯酸改性硅氧烷夕夕y》変性y3—y)、丙烯酸改性的硅氧烷cr夕u/w変性^i;3—y)、氨基改性的硅氧烷、羧酸改性的硅氧烷、甲醇改性的硅氧烷、环氧基改性的硅氧烷、巯基改性的硅氧烷、氟改性的硅氧院、聚醚改性的硅氧烷等。其中具15有二甲基硅氧院结构的。此外，除了战的以外，进一步地，也可以采用分子中具有至少1个异氰酸酯基的含氟化合物和肝中具有至少1个氨基、羟基羧基等与异氰酸酉旨基反应的官能团的化合物反应而得到的化合物；含氟聚醚多元醇、含氟烷基多元醇、含氟聚酯多元醇、含氟s-己内酯改性的多元醇等含氟的多元醇和具有异氰20酸酯基的化合物反应而得到的化合物割乍为氟系材料。在形成低折射率层时，例如可以使用含原料成分的组合物(折射率层形成用组合物)来形成。更具体地，根据原料成分(树脂等)和需要，使用将添加剂(例如后述的"具有空隙的微粒子"、聚合引发剂、防静电齐轉)溶解或分散到歸忡而成的溶液或分散液作为低折射率层形鹏组合物，禾拥上述组合物25形^^膜，{肚述涂膜固化而获得低折射率层。此外，聚合引发剂等添加剂可以举出在防弦层中所述的添加剂。溶剂例如也可列举在防弦层中所述的溶剂，雌地是甲基异丁基酮、环己酮、异丙醇(IPA)、正丁醇、叔丁醇、二乙酮、PGME等。上述组合物的制备方法可以将成分均匀地混合即可，可以按照公知方法实30施。例如，可以{顿在防弦层的形成中所述的公知體来混合。15涂膜的形成方法可以按照公知的方法。例如可以使用在防弦层的形成中所述的各种方法。得到的涂膜的固化方法可以根据组合物的内容等适当进行选择。例如，如果是紫外线固化型，贝何以MXt凃膜照射紫外线使其固化。5在Jl^低折射率层中，低折射率剂tt^用"具有空隙的微粒子"。"具有空隙的微粒子"能够保持防弦层的层强度的同时，降低其折射率。在本发明中，"具有空隙的微粒子"是指，形成微粒子的内部填充有气体的结构和/或含有气体的多孔质结构体、与微粒子本身的折射率相比折射率与微粒子中的气体占有率成反比例地降低的微粒子。此外，在本发明中，根据微粒子的形态、结构、凝集状10态、被膜内部中微粒子的分散状态，也包含内部和/^面的至少一部分可形成纳米多孔结构的微粒子。使用该微粒子的低折射率层的折射率可以调节到1.301.45。作为具有空隙的无机系微粒子，可以举出例如根据日本特开2001-233611号公报中记载的方法制备的二氧化硅微粒子。可以是根据日本特开平7-13310515号公报、日本特开2002-79616号公报、日本特开2006-106714号公报等中记载的制造方法得到的二氧化硅微粒子。由于具有空隙的二氧化硅微粒子容易制造，且其自身的硬度高，因此在与粘合剂混合形成低折射率层时，层5驢提高，并且，可以将折射率调节到1.20-1.45左右的范围内。特别±也，作为具有空隙的有机系微粒子的具体实例，例如雌列樹顿日本特开2002-80503号公报中公开20的技术制备的中空聚合tr微粒子。作为可在被膜的内部和/皿面的至少一部分形成纳米多孔结构的微粒子，除了前述的二氧化硅微粒子，还可以歹U举为了增大比表面积而帝i遗的、以组入到填充用的柱以及表面的多孑L质部分中吸附各种化学物质的缓释材料(除放材)、催化剂固定用的多孔,微粒子或隔热材料和低电介材料中为目的的中空微粒子25的分散体、凝集体。作为这样的具体实例，可以采用如日本、乂U力工业株式会社制造的商品名为Nipsil、Nipgel中的多孑L质二氧化硅微粒子的集合体，由日产化学工业(株)制造的具有二氧化硅微粒子的fil^l^i接结构的胶态二氧化硅UP系列(商品名)中的粒径在本发明范围的。"具有空隙的微粒子"的平均粒径为5nm300腦，4腿下限为8nm以上，30上限为100nm以下，更j雌下限为10nm以上，上限为80nm以下。ffl31微粒子的平均粒径在该范围，可以使防弦层具有优异的透明性。要说明的是，上述平均粒径是利用动态光翻寸法等方法测定的值。"具有空隙的微粒子"在上述低折射率层中相对于励质量份的基糊B誕常为0.1500质量份左右，是10200质量份左右。5在形成低折射率层时，使上述低折射率层形成用组合物的粘度为可得到优选涂布性的0.55cps(25°C)，i^为0.73cps(25°C)。育g够实现优良的可见光的鄉防止膜，并且，能够形成均匀地没有涂布不匀的薄膜，从而形成对于基材的密合性特另批异的低折射率层。树脂的固化方法可以和在防弦层中所说明的方法相同。为了固化处理而利io用加热方法时，优选将通过加热例如产生自由基而使聚合性化合物开始聚合的热聚合弓1发剂添加至愾系树脂组，中。tt^t也，低折射率层的膜厚(腿)dA满足下式(I):dA=mA7(4nA)(I)(上式中，nA表示低折射率层的折射率，mg正奇数，iM表示l，凍15示波长，优选为480580nm范围的值)。此外，在本发明中，从低反射率化方面tt^低折射率层满足以下数学式(n):12(KnAdA<145(U)本发明的光学叠层体除了上述防弦层和低折射率层之外根据需要可以设置防污染层、防静电层、高折射率层或中折射率层等任意的层。20上述防污染层、防静电层、高折射率层、中折射率层可以制备添加了一般使用的防污剂、高折射率剂、中折射率剂、防静电剂或树月誇的组合物，禾,公知方法形成各^^层。本发明的光学叠层体的表面具有凹凸形状。对于上述凹凸形状，在设光学ftM体最表面的层的凹凸的平均间隔为Sm、凹凸部的平均倾斜角为ea、凹25凸的十点平均粗糙度为Rz的情况下，(Sm、0a、Rz的定义依据JISB06011994)。i^Sm为40iom600nm，6a为0.3度5.0度，Rz为0.3idm4.0fjm。下面描述用于求出Sm、ea、Rz所用的表面粗糙度测定器的测定条件。表面粗糙度测定器(型号S&3400/(株)小坂研究所制造)1)表面粗糙度检测部的探针(触針)30型号/SE2555N(2p标准)(株)小坂研究所制造(前端曲率半径2一顶角90獻材料金刚石)2)表面粗糙度测定器的测定斜牛掛隹长度(粗糙度曲线的iUh值k):0.8mm刑介长度(難长度(截止值入c)x5):4.0匪5探针的移动鹏0.1mm/s本发明的光学叠层体的可见光iffl:率im为90%以上。小于90%时，在安装于显示器表面时，可能有损色再现性。更{^^可见光^1率为95%以上，进一步为98%以上。战光学觀体的表面浊度值(八,x'値)4腿为10%以下。超过10%时，io在安装于显示^^面的情况下，可能有损色再现性。更imJl^浊度为0.25%。战表面浊度值是禾拥RI寸'舰率计HM-150(村上色彩技术研究所制造)测定得到的值。，光学叠层体的内部浊度值，为70%以下。上述内部浊度值处于上述范围内时，可以得到改善将本发明的光学叠层体用于LCD等时的表面闪光(闪15烁)的效果。上述表面浊度值和内部浊度il^利用后述的方法得到的值。g口，在光学叠层体的最表层(例如防炫层或低折射率层)的凹凸上用迈耳際线,布将季戊四醇三丙烯酸酯等树脂(包含单体或低聚物等的树脂成分)用甲苯等稀释，使固体成分为60%的物质，使干燥膜厚为8nm。由此，最表面的表面凹凸，赃坏20而形成平坦的层。其中，由于在形成该最表层的组合物中添加了流平剂等，在再涂(y〕-卜)剂易于被排斥而不易润湿的情况下，可以通过预先对防炫膜进行皂化鹏(2mol/l的NaOH(或KON)溶液在55度下浸渍3射中后，7夂洗，用kimwipes(年厶17^7。)完全除去7jC滴后，在50度的烘箱中干燥1分钟)，实施亲水处理。该表面经平坦化的膜成为不具有由表面凹凸而产生的浊度、只具有25内部浊度的状态。该浊度可以作为内部浊度而求出。因此，从原先的光学叠层体的浊度(整体浊度)减去内部浊度的值，可以求出仅由表面凹凸产生的浊度(表面浊度)。此外本发明提供一种具有偏光元件的偏振板，上述偏振板在偏光元件表面具有战的光学觀体。30对上述偏光元件不特别限定，例如，可以{顿通过碘进行染色的、拉伸的聚乙烯醇膜，聚乙烯醇縮甲醛膜，聚乙烯醇縮乙醛膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物系皂化膜等。在上述偏光元件和本发明的光学叠层体的层合处理中，优选对透光性對才进行皂化M。禾,皂化处理，可以获得粘着性良好的防静电效果。本发明还提供在最表面具有上述光学叠层体或上述偏振板的图像显示装5置。Jd悉图像显^置可以举出LCD、PDP、FED、ELD(有机EL、无机EL)、CRT等。上述图像显^置的代表例LCD包括M性显示体、和从背面照射该显示体的光源装置。本发明的图像显^S为LCD时，其M性显示体的表面形成io有本发明的光学叠层体或本发明的偏振板。本发明为在具有上述光学叠层体的液晶显示装置的情况下，光源装置的光源从光学4il体的下侧照谢。此外，在STN型液晶显碟置中，可以在液晶显示元件和偏振板之间插入相位差板。该液晶显示装置的各层间可以根据需要设置粘着剂层。15上述图像显^置的一个例子PDP具有表面玻璃基板、与该表面玻璃相对配置且在它们之间封入放电气体的背面玻璃基板。在本发明的图像显示装置是PDP的情况下，，表面玻璃基板的表面，面板(玻璃基板基板)上具有上述光学叠层体。上述图像显示装置也可以是在玻璃基板上蒸镀了施加电压时发光的硫化20锌、二胺类物质发光体，控制施加于繊上的电压^iS行显示的ELD装置，或者是将电子信号变换成光、产生人眼可以看至啲图像的CRT等图像显碟置。在这种情况下，如上所述的各显^置的最表面或前面板的表面上具有上述的光学觀体。本发明的光学叠层体任一情况下可以用于电视机、计算机、文字处理机等25的显示器显示。特别地，可以适用于CRT、液晶面板、PDP、ELD等高清晰图像用显示器的表面。发明彭深本发明的光学叠层体由于具有上述结构，因此防弦性、防污性和色再现性30优异。因此，可以l^!子iM用于阴mi寸线管显^g(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发光显示器(ELD)等中。实施发明的最佳方式下面，根据实施例和比较例更加详细地说明本发明，但是本发明的内容并5不解释为限定于这些实施方式。如不特别说明，"份'和"％"是质量基准。(无定形二氧化硅粒子的制备)在下述的实施例和比较例中使用的无定形二氧化硅是利用硅勝内和硫酸的中和反应的湿式法(例如日本t封午第1781081号、日本t封午第1409252号、曰本#1午第2667071号、日本牛封午第3719687号)第隨的。对得到的无定形二氧io化硅粒子利用三甲基氯硅烷进行疏水化表面化学处理，将其疏水化率调节到5090%的范围，得到介电常数不同的各种无定形二氧化硅粒子。(介电常数的观啶)制作各分散了1种在M实施例和比较例中使用的无定形二氧化硅粒子的分散液，制备介电常数测定用的i^。15介电常数是使用v—，卜口y公司制造的1260型阻抗测定器(2端子法)、在频率范围lKHz-100KHz、测定Mit为25。C下测定。此外，介电常数也可以在前述的分散液状态以夕卜的在涂布、固化成为光学叠层fl^t态之后，通过切削等仅切出固化膜的含有二氧化硅的层部分^6t行测定。这样，可以在该切出的膜的两面溅射金，进一步地在膜周围适当地粘着银20糊料荆吏其导通，加温到8CTC进行减压千燥，从而得至阶电常数测定用的试样。在成为固化膜盼瞎况下，含有几种无定形二氧化硅粒子时为其平均值。(防弦层形成用柳旨组合物的审'J备)(制备例l)25防弦层形J^树脂组合物1的制备紫外线固4a树脂季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)20质量份醋酸丙酸纤维素(分子量50000)0.25质量份30光固化引发剂201.2质量份0.2质量份1.24质量份^》;if年-7184(^只.7^0亇》亍^r.^"《力々义(株)制)^T/Mf^工7907(千只.7^p亇小xY.^$力少义(株)制)无定形二氧化硅粒子(介电常数2.5)(平均粒径1.0pm，禾佣麟偶联剂进行了表面船K鹏)硅織类流平剂甲苯甲基异丁基酮充分混合±^材料，制成组合物。用孔径为30pm的聚丙烯制滤器过滤该组合物，制备固体成分为35%的防弦层形]^树脂组合物1o0.013质量份34.0质量份8.5质量份25(制备例2)防弦层形成用树脂组合物2的制备紫外线固4鹏树脂季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)醋酸丙酸纤维素(分子量50000)光固化引发剂^r》力-年-7184(千z.7X^"W"亍Y.々s力々义(株)帝u)<々力々二7907(于".7^^"W"亍^'，3力々X(株)制)无定形二氧化硅粒子(平均粒径1.5pm，介电常数2.5)无定形二氧化硅粒子(平均粒径l雞m，介电常数3.0)硅敏类流平剂甲苯甲基异丁基酮充分混合，材料，制成组合物。用？L径为30pm的聚丙烯制滤器过滤该组合物，制备固体成分为38.5%的防弦层形成用树脂组合物2。38质量份0.76质量份2.3质量份0.4质量份1.16质量份7.27质量份0.079质量份60.2质量份14.1质量份(制备例3)防弦层形,树脂组合物3的制备紫外线固化型树脂30季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)(折射率1.51)2.20质量份异,酸改性二丙烯酸酉旨M215(日本化药(株)制，折射率1.51)1.21质』0.34质』聚甲基丙烯酸甲酯(分子量75000)光固化引发剂5^乂i^f年-7184(千".7人^卞/"于吖.^$力^乂(株)制)0.22质量^/M/年工7907(于"7乂^亇^于吖.女《力/W^(株)制)0.04质量透光性第一粒子单分散丙烯酸类珠(粒径9、m，折射率1.535)0J2质透光性第二粒子1.73质io无定形二氧化硅油墨(不定形^y力一y年)(平均粒径1.5pm，固体成分60%，介电常数2.5)t份t份份份量份量份流平剂硅織类流平剂0.02质量份15歸U:甲苯5.88质量份环己酮1.55质量份充分混合J:M材料，制成固体成分为40.5%的组合物。用孔径为30^im的聚丙烯制滤器过滤该组合物，制备防弦层形成用树脂组合物3。20(制备例4)防弦层形成用树脂组合物4的制备将防弦层用柳旨组合物1记载的无定形二氧化硅粒子(介电常数为2.5)改，无定形二氧化硅粒子(介电常数为4.0)，除此之外，配合比等完全相同地25制备防炫层形成用树脂组合物4。(制备例5)防弦层形成用树脂组合物5的制备将防炫层形/^ffl树脂组合物2记载的无定形二氧化硅粒子(平均粒径1.5p30m，介电常数为2.5)改无定形二氧化硅粒子(平均粒径1.5pm，介电常数4.0)的材料，除此之外，配合比等完全相同地制备防弦层形鹏树脂组合物5。(制备例6)防弦层形成用树脂组合物6的制备5将防弦层形自树脂组合物3记载的"无定形二氧化硅油墨(平均粒径lm，固体成分为60%，介电常数为2.5)"改无定形二氧化硅油墨(平均粒径lm，固体成分为60%，介电常数为4.0)的材料，除lfct外，配合比等完全相同地制备防弦层形鹏树脂组合物6。io(制备例7)防弦层形成用树脂组合物7的制备将防弦层形J^树脂组合物3记载的"无定形二氧化硅油墨(平均粒径lm，固体成分为60%，介电常数为2.5)"改无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5pm，固体成分为50%，介电常数为l.O)的材料，除lt[^外，配合比等完15全相同地制备防弦层形鹏树脂组合物7。(制备例8)防弦层形成用扭J脂组合物8的制备将防炫层形自树脂组合物3记载的"无定形二氧化硅油墨(平均粒径1、20m，固体成分为60%,介电常数为2.5)"改无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5pm，固体成分为50%，介电常数为1.5)的材料，除lifct外，配合比等完全相同地制备防弦层形鹏树脂组合物8。(制备例9)25防'炫层形,树脂组合物9的制备将防弦层形l^树脂组合物3记载的"无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5pm，固体成分为60%，介电常数为2.5)"改无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5pm，固体成分为60%，介电常数为2.5)的材料，除lth^外，配合比等完全相同地制备防弦层形鹏树脂组合物9。30(制备例10)防弦层形成用树脂组合物10的制备将防弦层形自树脂组合物3记载的"无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5pm，固体成分为60%,介电常数为2.5)"改，无定形二氧化硅油墨(平均粒5径1.5)im，固体成分为50%，介电常数为3.0)的材料，除ltk^外，配合比等完全相同地制备防弦层形鹏树脂组合物10。(制备例ll)防弦层形成用树脂组合物ll的制备io将防弦层形l^树脂组合物3记载的"无定形二氧化硅油墨(平均粒径lm，固体成分为60%,介电常数为2.5)"改无定形二氧化硅油墨(平均粒径1.5pm，固体成分为50%，介电常数为3.3)的材料，除jfet外，配合比等完全相同地制备防炫层形鹏树脂组合物11。15(制备例12)低折射率层形成用组合物的制备中空二氧化硅浆9.57质量份(IPA，MIBK分散，固体成分为20%，粒径50nm)20季戊四醇三丙烯酸酯PET300.981质量份(紫外线固化型树腺日本化药制)AR1106.53质量份(氟聚合物；固体成分为15。/o的MBK溶液；^V年y工业制造)^/P力'年a71840.069质量份25(光固化引发剂；千只只^少卞々亍^，$力汝义(株)制造)硅^K类流平剂0.157质量份丙二醇单甲基醚(PGME)28.8质量伤、甲基异丁基酮53,9质量份充分混合i:^成分，用孔径为lO)im的聚丙;):躺鹏器过滤该组合物，制备固30体成分为4%的低折射率层形鹏树脂组合物。其折射率为1.40。24(实施例l)防弦层的形成f柳三乙酰纤维素膜(TD80U，富士写真7心"(株)帝U;厚度80nm)5作为透明St才，在膜上^OT涂布用绕线棒(迈耶绕线棒)#6涂布防弦层形自树脂组合物8，在7(TC的烘箱中加热^P燥1辦中，使M喊分蒸发后，在氮气氛中(氧浓度为200ppm以下)，照射紫外线使得照射线量为100mJ，使涂膜固化形成防弦层。低折射率层的层叠io在防弦层上{顿涂布用绕线棒(迈耳際线棒)#2涂布制备例12制备的低折射率层形成用组合物，在7(TC的烘箱中加热^P燥1併中，使M(J成分蒸发后，在氮气氛中(氧浓度为200ppm以下)，照射紫外线使得照射线量为100mJ，使涂膜固化，得到层叠了低折射率层的光学叠层体l。15(实施例2)将防弦层形自树脂组合物8改防炫层形自树脂组合物9，除lfct夕卜，与实施例l同样地得到光学4M体2。(实施例3)20将防炫层形i^树脂组合物8改防炫层形自树脂组合物1，除lttlt夕卜，与实施例l同样地得到光学ftjl体3。(实施例4)将防弦层形鹏树脂组合物8改舰防弦层形鹏树脂组合物2，除紋25夕卜，与实施例l同样地得到光学ftjl体4。(实施例5)^顿和实施例1相同的三醋酸纤维素膜(TD80U，富士写真7—々厶(株)制；厚度80pm)作为透明S^才，在膜上f顿涂布用绕线棒(迈耶绕线棒)#1430涂布防弦层形成用树脂组合物3，在7(TC的烘箱中加热千燥1併中，使翻喊分蒸发后，照射紫外线使照射线量为30mJ，使涂膜固化形成防弦层。低折射率层的叠层在防炫层上j顿涂布用绕线棒(迈耶绕线棒)#2涂布在制备例12中制备的低折射率层形成用组合物，在7(TC的烘箱中加热千燥1併中，使翻喊分蒸发5后，在氮气氛(氧浓度为200ppm以下)中，照射紫外线使照射线量为歸mJ，使涂膜固化得至'展叠了低折射率层的光学叠层体5。(实施例6)将防弦层形鹏树脂组合物8改防炫层形鹏树脂组合物10，除ifetio夕卜，与实施例l同样地得到光学4M体6。(实施例7)将防炫层形自树脂组合物8改^防弦层形，树脂组合物11，除fe夕卜，与实施例1同样地得到光学SM体7。15(比较例l)将防炫层形鹏树脂组合物8改顿防弦层形鹏树脂组合物4，除te夕卜，与实施例l同样地得到光学ftM体8。20(比较例2)将防弦层形自树脂组^tl8改M防炫层形自树脂组合物5，除;fet夕卜，与实施例l同样地得到光学ft)l体9。(比较例3)25将防弦层形鹏树脂组合物3改顿防弦层形鹏树脂组合物6，除紋夕卜，与实施例5同样地得到光学ftjl体10。进行下述评价，其结果记载于表l中。30i刊介l:光学特性i微、表面形状对实施例和比较例的光学叠层体，按照本说明书的定义，测定光学叠层体整体的浊度Ha值、前述光学ftJl体的内部浊度值Hi、薩a的值、反射Y值(5度反射)。5对于反射率测定，4柳具有5。C正反射观啶體的分光度计(岛津制作所(株)制，UV-3100PC)进行测定。此外，{顿反射率在波长550歸附近变成极小值(衝氐劍寸率)时的值。粥介2:黑色再现性试验(明室环境)io在与实施例和比较例的光学叠层体的膜面的相反侧贴合正交尼科尔棱镜的偏振板后，在30W的三波长荧光下(从与防炫层面成45。的方向照射)进行功能iWT(从样品面上方50cm、大约45。的角度用眼观察)，并根据下述的^t详细地评价黑色再现性(黑看上去是不是黑)。此时作为黑的基准样品，使用正交尼科尔棱镜偏振板来比较黑色。15iTO鋭隹评价(D:育,再现黑色。(没有乳白色的感觉)评价〇大体上肯,再现黑色。(有些乳白色的感觉，觉察不到的7jC平)评价A:黑色再现不充分。(稍微的乳白色的感觉，觉察到的ZK平)评价x:不能再现黑色。(乳白色的感觉强烈，明显觉察到的水平)20评价3:防弦性评艇验对实施例和比较例中得到的光学叠层体的背面进4，占着处理，粘贴在黑色丙烯板(了列/l4及)上，作为评价用i辦。准备宽度为20匪的白黑条纹板，25以与试样面的法线成20度的角度在J^试样(试样面向上方倾斜约30度)上映入该条纹，然后进行观察。此时试样面的照度为2501x(勒克司)，条纹的亮度(白)为65cd/m2。财卜，条纹板和试样的距离为1.5m，试样和观察者的距离为lm。根据观察者观察其时看到条纹的方式按下述定义进行评价。评价難30评价O):看不到条纹，防弦性良好评价〇看得到条纹，不明显的水平刑介x:倉,看到条纹<table>tableseeoriginaldocumentpage29</column></row><table>产业实用性本发明的光学叠层体适用于阴极射线管显示装置(CRT)、液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)、电致发舰示器(ELD)等。权利要求1.一种光学叠层体，其特征在于，具有透光性基材、和含有二氧化硅粒子的防炫层，前述二氧化硅粒子的介电常数小于4.0。2.如权利要求1所述的光学叠层体，其中，二氧化硅粒子的t该面积为2000m々g以下。3.如权利要求l或2所述的光学ftjl体，其中，二氧化硅粒子为无定形二氧化硅粒子。4.如权利要求13中任何一项所述的光学觀体，其中，相对于防弦层io的树脂成分100质量份，二氧化硅粒子的含量为1050质量份。5.如木又利要求14中任何一项所述的光学SM体，其中，防弦层上还具剤氐折射率层。6.—种图像显^置，其特征在于，最表面上具有权利要求15中任何一项所述的光学叠层体。7.—种偏振板，其特征在于，具有偏光元件，在偏光元件表面具有权利要求15中任何一项所述的光学叠层体。8.—种图像显^g，其特征在于，最表面具有权利要求15中任何一项所述的光学叠层体。9.一禾中图像显^g，其特征在于，最表面具有权利要求7所述的偏振板。2010.—种光学特性得到改善的光学叠层体的制造方法，该光学叠层体具有透光性S^才和含有二氧化硅粒子的防弦层，其特征在于包括以下步骤(a)(e):(a)将二氧化硅粒子的介电常数调节至W、于4.0的步骤；(b)将粘合齐U树脂和根据需要的其它成分与前述二氧化硅粒子一起分散、混合到翻忡，制备防炫层形成用组合物的步骤，此时，该二氧化硅粒子间的25静电引力得至柳制，得到该二氧化硅粒子的驗得到控制的组合物；(c)提供透光性基材的步骤；(d)在前述透光性S^才上涂布步骤(b)中制备的防炫层形鹏组合物，形麟布膜的步骤；(e)使前述涂布膜千燥、固化，得到光学叠层体的步骤，30在此，得至啲光学観体兼备优异的黑色再现性和防炫性。11.如权利要求10所述的制造方法，其中，在步骤(a)中，ffi^顿中空二氧化硅粒子作为二氧化硅粒子改变空隙率，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节到小于4.0。12.如权利要求10所述的制造方法，其中，在步骤(a)中，舰掺杂二氧5化硅粒子，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节至U小于4.0。13.如权利要求10所述的制造方法，其中，在步骤(a)中，MilX^二氧化硅粒子表面进行化学修饰，将前述二氧化硅粒子的介电常数调节至U小于4.0。14.如权利要求13所述的制造方法，其中，二氧化硅粒子的表面化学修饰是^ffi硅^^材料的疏水tt^面化学处理。全文摘要本发明涉及光学叠层体、偏振板和图像显示装置。本发明提供虽然防炫层中含有二氧化硅粒子，但该二氧化硅粒子适度地凝集、光学特性优良的光学叠层体。该光学叠层体具有透光性基材和含有二氧化硅粒子的防炫层，上述二氧化硅粒子的介电常数小于4.0。文档编号G02B1/10GK101458343SQ20081017853公开日2009年6月17日申请日期2008年9月28日优先权日2007年9月28日发明者伊藤洁,山本佳奈申请人:大日本印刷株式会社