专利名称：充电构件、处理盒和电子照相设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于电子照相设备的充电构件、处理盒和电子照相设备。
背景技术：
在电子照相设备中，用于通过与电子照相感光构件表面接触以使电子照相感光构件表面充电的辊形充电构件(下文中也称作“充电辊”)，通常具有包含树脂的弹性层。这类充电辊可充分保证与电子照相感光构件的辊隙宽度，从而可有效且均匀地使电子照相感光构件充电。然而，弾性层包含用于软化的增塑剂或树脂的低分子量组分。因此，由于长期使用该辊，低分子量组分可能会滲出至充电辊表面。为解决此类问题，专利文献I公开了ー种采用由通过溶胶-凝胶法形成的无机氧化物涂层构成的滲出抑制层覆盖表面的导电辊，抑制了低分子量组分向其表面的滲出。引用文献列表专利文献PTL I :日本专利申请特开2001-17364
发明内容
_6] 发明要解决的问题由本发明的发明人进行的研究发现，专利文献I公开的采用滲出抑制层作为表面层的导电辊由于重复使用而磨损，从而充电性能随时间变化。基于上述考虑，本发明涉及提供ー种即使长期使用后，充电性能仍然较少随时间变化的充电构件。进ー步地，本发明涉及提供各自可以稳定地形成高质量电子照相图像的处理盒，和电子照相设备。
_9] 用于解决问题的方案根据本发明的ー个方面，提供ー种充电构件，其包括支承体；和表面层，其中，所述表面层包含聚硅氧烷，所述聚硅氧烷具有选自由下式表示的単元Al-単元A3组成的组中的至少ー种単元，和在所述聚硅氧烷上通过连接基团键合选自由下式(1)-(6)所示化合物组成的组中的至少ー种化合物，其中所述连接基团由选自所述単元中的も、R4和R6中的至少ー种与选自以下的至少ー种基团形成下式⑴所示化合物的Ricil-Rltl6,下式⑵所示化合物的R2tll-R208,下式⑶所示化合物的R3tll-R310,下式⑷所示化合物的R4tll-R412，下式(5)所示化合物的R5tll-R514,
下式(6)所示化合物的R6tll-R616,
[化学式I]
权利要求
1. 一种充电构件，其包括 支承体；和 表面层，其中，所述表面层包含聚硅氧烷，所述聚硅氧烷具有选自由下式表示的単元Al至单元A3组成的组中的至少ー种単元，和在所述聚硅氧烷上通过连接基团键合选自由下式(1)-(6)所示化合物组成的组中的至少ー种化合物，其中所述连接基团由选自所述単元中的凡、R4和R6中的至少ー种与选自以下的至少ー种基团形成 下式⑴所示化合物的Ricil-Rltl6, 下式⑵所示化合物的R2CI1-R2CI8, 下式⑶所示化合物的R3tll-R3ici, 下式⑷所示化合物的R4tll-R412, 下式(5)所示化合物的R5tll-R514, 下式(6)所示化合物的R6tll-R616,其中选自所述由单元A1-A3表示的単元中的R1. R4和R6中的至少一种基团，和选自下式(I)的 R10「R106，下式(2)的 R2tll-R2tl8，下式(3)的 R3tu-R31。，下式(4)的 R4cu-R412，下式(5)的も。1_も14，和下式(6)的R6cu-R616的至少ー种基团表不能够相互反应形成连接基团的基团；も、R4和R6中不涉及与选自由式(1)-(6)组成的组中的任意化合物键合的基团各自独立地表示取代或未取代的烧基,或者取代或未取代的芳基； R2>R3和R5各自独立地表示氢原子或者取代或未取代的烷基；和R10「R106、R201_R208> R301_R310、R40「R412、R50「R514 和 R601_R616 中不涉及与选自由单兀 AトA3组成的组中任何单元键合的基团各自独立地表示选自取代或未取代的烷基和取代或未取代的芳基的任意基团， 式(I) 化合物(I)
2.一种电子照相设备，其包括 根据权利要求I所述的充电构件；和 与所述充电构件接触设置的电子照相感光构件。
3.—种处理盒，其一体化地支持根据权利要求I所述的充电构件，和选自电子照相感光构件、显影单元、转印单元和清洁单元的至少ー种构件，其中所述处理盒形成为可拆卸地安装至电子照相设备主体上。
全文摘要
公开一种即使在重复使用时，仍然能够保持优异耐磨性的充电构件，和各自装备有所述充电构件的处理盒和电子照相设备。所述充电构件的特征在于其表面层含有具有键合其上的倍半硅氧烷的聚硅氧烷。
文档编号G03G15/02GK102667635SQ20108005683
公开日2012年9月12日 申请日期2010年12月10日 优先权日2009年12月15日
发明者来摩洋子, 长岭典子, 黑田纪明 申请人:佳能株式会社