专利名称：显示器的修补方法及其修补后的结构的制作方法
技术领域：
本发明是涉及一种显示器的修补方法及其修补后的结构。
背景技术：
一般液晶面板是由有源元件阵列基板、彩色滤光基板以及配置于前面所述两基板 间的液晶层所构成。此外，前面所述的两基板通常是以框胶粘着，并将液晶封存于其间。另 外，在液晶面板的外表面通常会贴附偏光片，透过偏光片的偏振方向搭配液晶分子的扭转 方向，便可控制显示面板各像素单元的呈现亮态或是暗态。通常，若偏光片中具有缺陷，将 会使得显示面板在操作过程的中在对应所述缺陷处产生亮点缺陷。这主要是因为上述缺陷 会使得显示面板在该处产生漏光，因而该缺陷处即构成亮点缺陷。传统对于偏光片上的缺陷的修补方法是在偏光片的对应缺陷处涂布一层油墨，以 达到遮蔽该缺陷所造成的亮点。然而，因油墨非常容易自偏光片表面脱落，因而此种修补的 效果不理想。
发明内容
本发明提供一种显示器的修补方法及其修补后的结构，其可以修补显示面板的亮 点缺陷。本发明提出一种显示器的修补方法及其修补后的结构，此方法包括提供一显示 器，其包括一显示面板；以及至少一光学膜，位于该显示面板的至少一外表面，其中该光 学膜具有一上表层、一下表层以及位于该上表层以及该下表层之间的一中间层，其中该光 学膜具有一缺陷；以及进行一激光修补程序，以使该光学膜的对应该缺陷处碳化成一黑点， 其中该激光修补程序是在该光学膜的该上表层中形成该黑点。该激光修补程序的波长为 400 800纳米(nm)。该激光修补程序的一激光脉冲时间为< 500fs (飞秒或称为毫微微 秒，即10的-15次方秒)。该激光修补程序的一激光脉冲能量在IMHz的频率下，脉冲能量 为在IMHz的频率下，脉冲能量为> 1.0微焦耳(μ J)，其中IMHz的频率为较佳实施方式， 但本发明并不依此为限，可依设计的需求做相应的改变。该光学膜的该上表层以及该下表 层的材质包括三乙酰纤维素。该光学膜的该中间层包括聚乙烯醇。该光学膜的总厚度为 100 500微米(μ m)。该激光修补程序是在该光学膜的1 100微米处进行修补。该显 示器进一步包括至少一第一光学膜，位于该光学膜的该上表层、该下表层或是该上表层和 下表层上均有该第一光学膜。该缺陷的尺寸为10 1000微米。该光学膜为偏光片。本发明另提出一种修补后的显示器结构，其包括一显示面板；以及至少一光学膜， 位于该显示面板的至少一外表面上，其中该光学膜具有一上表层、一下表层以及位于该上 表层以及该下表层之间的一中间层，且该光学膜的该上表层中具有一碳化黑点。该光学膜 的该上表层以及该下表层的材质包括三乙酰纤维素。该光学膜的该中间层包括聚乙烯醇。 该光学膜的总厚度为100 500微米。该碳化黑点是位于该光学膜的1 100微米深处。 进一步包括至少一第一光学膜，位于该光学膜的该上表层、该下表层或是该上表层和下表层上均有该第一光学膜。该碳化黑点的尺寸为10 1000微米。该光学膜为偏光片。基于上述，本发明采用激光修补程序以使光学膜的对应缺陷处碳化成黑点。由于 碳化黑点可以遮蔽光学膜的缺陷所造成的漏光，因而可以使得所述缺陷不会造成显示面板 的亮点缺陷。为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式 作详细说明如下。
图1是根据本发明一实施例的显示器的修补方法的剖面示意图；图2 图3是对应图1的区域R的放大示意图；图4是根据本发明另一实施例的光学膜的剖面示意图。主要元件符号说明
100显示面板102第一基板102a,110a夕卜表面104像素阵列层110第二基板112电极层/彩色滤光层120显示介质200、300光学膜202缺陷204碳化黑点210下表层212中间层214上表层220、240光学膜230、250粘着层L激光修补程序
R区域Dl、D2厚度/深度
具体实施例方式图1是根据本发明一实施例的显示器的修补方法的剖面示意图。请参照图1，本实 施例的修补方法首先提供显示器，显示器包括显示面板100以及至少一光学膜200，300。显示面板100包括第一基板102、像素阵列层104、第二基板110、电极层/彩色滤 光层112以及显示介质120。第一基板102与第二基板110彼此相对设置，且第一基板102与第二基板110的材 质各自可为玻璃、石英、有机聚合物、或是不透光/反射材料(例如导电材料、金属、硅片、 陶瓷、或其它可适用的材料)、或是其它可适用的材料。像素阵列层104设置在第一基板102上。像素阵列层104包括多条扫描线(未绘 示)、多条数据线(未绘示)以及多个像素结构(未绘示)，且每一像素结构与对应的一条 扫瞄线以及对应的一条数据线电性连接。根据本实施例，每一像素结构具有有源元件以及 像素电极。有源元件可为底部栅极型薄膜电晶体或是顶部栅极型薄膜电晶体，其包括栅极、 沟道、源极以及漏极。
电极层/彩色滤光层112设置在第二基板110上。更详细来说，设置在第二基板 110上的膜层112可为电极层、彩色滤光层或是电极层与彩色滤光层。根据一实施例，膜层 112是由彩色滤光层以及覆盖彩色滤光层的电极层所构成。在此，电极层为透明导电层，其 材质包括金属氧化物，例如是铟锡氧化物或者是铟锌氧化物。彩色滤光层可包括红、绿、蓝 色滤光图案。另外，彩色滤光层更可包括设置遮光图案，其又可称为黑矩阵。显示介质120位于第一基板102以及第二基板110之间。显示介质120可包括液 晶分子、电泳显示介质或是其它可适用的显示介质。另外，光学膜200、300位于显示面板100的外表面。更详细来说，光学膜300是设 置在显示面板100的第一基板102的外表面10 上。光学膜200是设置在显示面板100 的第二基板110的外表面IlOa上。换言的，在第一基板102的外表面10 贴附有光学膜 300，而像素阵列层104则是设置在相对于第一基板102的外表面10 的内表面上。在第 二基板110的外表面IOOa贴附有光学膜200，而电极层/彩色滤光层112则是设置在相对 于第二基板110的外表面IOOa的内表面上。根据本实施例，上述的光学膜200、300为偏光 片。值得一提的是，本实施例是以显示面板100的两外表面各自设置有光学膜200、 300为例，但本发明不限于此。根据其他实施例，也可以仅在显示面板100的第一基板102 的外表面10 设置光学膜300，或是仅在显示面板100的第二基板110的外表面IlOa设置 光学膜200。特别是，在本实施例中，光学膜200中具有缺陷202。上述的缺陷202可为颗粒、凹 痕或是其他种可能导致显示面板漏光的缺陷。上述的缺陷202的尺寸实质上为10 1000 微米(um)，。因此，本实施例以激光修补程序L的方式来修补上述的漏光缺陷，详细说明如 下。图2是图1的区域R的放大示意图。请同时参照图1以及图2，在本实施例中，光 学膜200具有上表层214、下表层210以及位于上表层214以及下表层210之间的中间层 212。根据本实施例，光学膜200的上表层214以及下表层210的材质包括三乙酰纤维素 (TAC)，光学膜200的中间层212包括聚乙烯醇(PVA)。以图2的实施例为例，光学膜200的缺陷202是位于上表层214。接着，进行激光修 补程序L，以使光学膜200的对应缺陷处202碳化成黑点204，特别是，上述的激光修补程序 L是于光学膜202的上表层214中形成黑点204。激光修补程序L所形成的碳化黑点204的 尺寸是实质上大于等于缺陷202的尺寸。此外，若光学膜200的总厚度Dl实质上为100 500微米，则激光修补程序L实质上是于光学膜200的1 100微米处(即D2深度)进行 修补。根据本实施例，上述激光修补程序L的波长实质上为400 800微米(nm)。激光修 补程序L的激光脉冲时间(pulse duration)实质上为彡500fs (飞秒或称为毫微微秒，即 10的-15次方秒)。激光修补程序L的激光脉冲能量(pulse energy)实质上为> 1. 0微 焦耳(μ J)。其中该激光修补程序L的最佳操作频率为1MHz，但是该频率可以根据需求由 技术人员做出调整，并不以此例为限。并且任何频率都是本发明所包含的保护范围。承上所述，本实施例是利用激光修补程序L以于光学膜202的上表层214中形成 黑点204，所述碳化黑点204可以遮蔽光学膜200中的缺陷202所导致的漏光，因此可使得 缺陷202所产生的亮点得以修补成暗点。
在图2的实施例中，光学膜200中的缺陷202是形成在上表层214中。然，本发明 不限于此。根据其他实施例，如图3所示，光学膜200中的缺陷202也可以是形成在中间 层212中。当然，根据另一实施例，光学膜200中的缺陷202也可以是形成在下表层212中 (未绘示出)。无论光学膜200中的缺陷202是形成在上表层214、下表层210还是中间层 212，本实施例的激光修补程序L都是在光学膜200上表层214形成碳化黑点204，以遮蔽缺 陷202所造成的漏光。这主要是因为光学膜200的上表层214是最靠近外部的膜层，因此 激光修补程序L的光线可以轻易地且快速地在上表层214形成碳化黑点204。而碳化黑点 204主要是用来遮蔽缺陷202所产生的漏光，因此只要碳化黑点204可以形成在足以遮蔽缺 陷202的漏光路径即可。因此，本实施例在光学膜200的上表层214形成碳化黑点204既 可达到遮蔽缺陷202所产生的漏光，又可使激光修补程序L易于执行。值得一提的是，传统的显示面板的亮点缺陷的修补方法大多是对显示面板100内 的膜层(例如是彩色滤光层11 进行暗点修补。但是，对彩色滤光层112进行暗点修补的 缺点是，若光学膜200的缺陷(颗粒)是位于对应彩色滤光层112的两个彩色滤光图案(例 如绿色滤光图案与红色滤光图案)之间的话，因为光线折射的关系，那么彩色滤光层112所 要修补的区域则需涵盖整个绿色滤光图案与红色滤光图案。这样一来，修补的面积就会过 大，导致碳化黑点过于明显，反而影响显示面板的显示品质。因此，本实施例的修补方法是 对显示面板100外部的光学膜200来进行修补，而且是对光学膜200的上表层214进行碳 化以形成黑点。相较于传统修补方法来说，本实施例的修补程序不但较为容易，且也较容易 掌控碳化黑点的尺寸。在上述实施例中，是以光学膜200中具有缺陷202为例来说明。然，本发明不限于 此。根据其他实施例，若显示面板100下方的另一光学膜300具有缺陷存在的话，也可以采 用如上所述的激光修补程序L来进行修补。也就是，利用激光修补程序使光学膜300的表 层对应有缺陷的处碳化成黑点，以达到遮蔽缺陷所造成的漏光。此外，在上述实施例中，光学膜200是以具有上表层214、下表层210以及位于上表 层214以及下表层210之间的中间层212为例，然本发明不限于此。根据其他实施例，在光 学膜200的上表层214及/或下表层210上可进一步设置其他光学膜。以图4的实施例为 例，在光学膜200的上表层214还可进一步设置抗反射膜220 (Antiglare layer)在光学膜 200的下表层210上还可进一步设置相位差膜对0，其中相位差膜240与下表层210之间具 有粘着层230。另外，在相位差膜240上可进一步设置粘着层250，此粘着层250用以使图 4的光学膜的迭层与显示面板100贴合。综上所述，本实施例采用激光修补程序以使光学膜的对应缺陷处碳化成黑点。由 于碳化黑点可以遮蔽光学膜的缺陷所造成的漏光，因而可以使得所述缺陷不会造成显示面 板的亮点缺陷。另外，本实施的修补程序是在光学膜的上表层形成碳化黑点，以遮蔽光学膜中的 缺陷所造成的漏光。由于光学膜的上表层是最靠近外部的膜层，因此激光修补程序的光线 可以很容易地在光学膜的上表层形成碳化黑点。换言的，本实施例在光学膜的上表层形成 碳化黑点既可达到遮蔽缺陷所产生的漏光，又可使激光修补程序易于执行。再者，本实施例的修补方法是对显示面板外面的光学膜来进行碳化修补，而且是 对光学膜的上表层进行碳化以形成黑点。相较于传统修补方法来说，本实施例不但激光修补程序较为容易，且也较容易掌控碳化黑点的尺寸。 虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域 中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明 的保护范围当视后附的申请专利范围所界定者为准。
权利要求
1.一种显示器的修补方法，包括提供一显示器，其包括一显示面板；以及至少一光学膜，位于该显示面板的至少一外表面，其中该光学膜具有一上表层、一下表 层以及位于该上表层以及该下表层之间的一中间层，其中该光学膜具有一缺陷；以及进行一激光修补程序，以使该光学膜的对应该缺陷处碳化成一黑点，其中该激光修补 程序是在该光学膜的该上表层中形成该黑点。
2.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该激光修补程序的波长为 400 800纳米。
3.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该激光修补程序的一激光脉 冲时间为< 500飞秒。
4.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该激光修补程序的一激光脉 冲能量在IMHz的频率下，脉冲能量为> 1. 0微焦耳。
5.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该光学膜的该上表层以及该 下表层的材质包括三乙酰纤维素。
6.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该光学膜的该中间层包括聚 乙烯醇。
7.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该光学膜的总厚度为100 500微米。
8.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该激光修补程序是在该光学 膜的1 100微米处进行修补。
9.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该显示器进一步包括至少一 第一光学膜，位于该光学膜的该上表层、该下表层或是该上表层和下表层上均有该第一光 学膜。
10.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该缺陷的尺寸为10 1000 微米。
11.如权利要求1所述的显示器的修补方法，其特征在于该光学膜为偏光片。
12.—种修补后的显示器结构，包括一显示面板；以及至少一光学膜，位于该显示面板的至少一外表面上，其中该光学膜具 有一上表层、一下表层以及位于该上表层以及该下表层之间的一中间层，且该光学膜的该 上表层中具有一碳化黑点。
13.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于该光学膜的该上表层以 及该下表层的材质包括三乙酰纤维素。
14.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于该光学膜的该中间层包 括聚乙烯醇。
15.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于该光学膜的总厚度为 100 500微米。
16.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于该碳化黑点是位于该光学膜的1 100微米深处。
17.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于进一步包括至少一第一 光学膜，位于该光学膜的该上表层、该下表层或是该上表层和下表层上均有该第一光学膜。
18.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于该碳化黑点的尺寸为 10 1000微米。
19.如权利要求12所述的修补后的显示器结构，其特征在于该光学膜为偏光片。
全文摘要
一种显示器的修补方法及其修补后的结构，此方法包括提供显示器，所述显示器包括显示面板以及至少一光学膜。光学膜位于显示面板的至少一外表面，且光学膜具有上表层、下表层以及位于上表层以及下表层之间的中间层，且光学膜具有缺陷。接着，进行激光修补程序，以使光学膜的对应缺陷处碳化成黑点，其中激光修补程序是在光学膜的上表层中形成黑点。
文档编号G02F1/13GK102116948SQ201110060780
公开日2011年7月6日 申请日期2011年3月9日 优先权日2010年12月22日
发明者张一凡, 梁嘉杉, 洪彬哲 申请人:友达光电股份有限公司