专利名称：彩膜、彩膜基板及其制造方法、显示装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示器领域，尤其涉及ー种彩膜、彩膜基板及彩膜基板的制造方法、显示装置
背景技术：
液晶显示器主要包括阵列基板、彩膜基板和填充于其中的液晶层。如图I所示，彩膜基板包括在基板上形成有挡光层12、像素层13以及公共电极层11，挡光层12又叫黑矩阵。如图2所示，在液晶显示器中，阵列基板2上的公共电极层21通过周边的封框胶3中的导电金球与彩膜基板I上的公共电极层11相连通，为彩膜基板上的公共电极层11提供电压，使彩膜基板I上的公共电极层11与阵列基板2上像素电极层22分别构成两个电极，为填充于其中的液晶4提供所需的电压差，来控制液晶4的转动，进而影响光线的行进方向，来形成不同的灰阶。在实现本发明的过程中，发明人发现现有彩膜基板至少存在如下问题传统的彩膜基板制作エ序包括挡光层的制作、像素层的制作以及公共电极层的制作，还可能包括柱状隔垫物的制作，エ序繁琐。并且现有的彩膜基板上公共电极层的材料为氧化铟锡(Indium-Tin Oxide，简称IT0)，价格非常高，造成彩膜基板成本大幅上升。
发明内容
本发明实施例提供ー种彩膜、彩膜基板及彩膜基板的制造方法，能够减少彩膜基板的制作エ序，降低成本。为解决上述技术问题，本发明实施例采用如下技术方案ー种彩膜，包括挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，所述挡光层为可导电的挡光层；所述像素层为可导电的像素层；所述可导电的挡光层和像素层相互连通。所述挡光层为部分加入不透光的导电材料或完全使用不透光的导电材料制成。所述像素层为部分加入透光的导电材料或完全使用有顔色的透光导电材料制成。一种彩膜基板，包括基板、所述基板上的挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，所述挡光层为可导电的挡光层；所述像素层为可导电的像素层；所述可导电的挡光层和像素层相互连通。所述挡光层为部分加入不透光的导电材料或完全使用不透光的导电材料制成。所述像素层为部分加入透光的导电材料或完全使用有顔色的透光导电材料制成。一种彩膜基板的制造方法，包括在基板上制作可导电的挡光层；
在所述挡光层之间制作可导电的像素层；所述可导电的挡光层和像素层相互连通。所述可导电的挡光层为部分加入不透光的导电材料或完全使用不透光的导电材料制成。所述可导电的像素层为部分加入透光的导电材料或完全使用有顔色的透光导电材料制成。本发明还提供了一种显示装置，包括上述彩膜基板。采用上述技术方案后，可导电的挡光层和像素层相互连通实现原有彩膜基板上公共电极的功能，从而取代了原有的公共电极层IT0，实现了去除现有技术中彩膜基板上的公共电极层IT0，进而減少了彩膜基板的制作エ序，相应的缩减了生产时间，并且由于ITO成本较高，降低了制作成本。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图I为现有技术中彩膜基板的截面示意图；图2为包括图I中彩膜基板的液晶显示器的原理示意图；图3为本发明实施例中彩膜的截面示意图；图4为本发明实施例中彩膜基板的截面示意图；图5为本发明实施例中彩膜及彩膜基板应用在液晶显示器中的原理示意图；图6为本发明实施例中彩膜基板制造方法的流程图。附图标记I-彩膜基板；11-公共电机层；12-挡光层；13-像素层；2_阵列基板；21公共电极层；22-像素电极层；3-封框I父；4_液晶；5_基板。
具体实施例方式下面结合附图对本发明实施例彩膜及其制造方法进行详细描述。应当明确，所描述的实施例仅仅是发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。如图3所示，本发明实施例提供ー种彩膜，包括挡光层12和被所述挡光层12隔开的像素层13，挡光层12为可导电的挡光层，像素层13为可导电的像素层。上述可导电的挡光层12和像素层13相互连通实现原有彩膜基板上公共电极的功倉^:。进ー步的，挡光层12为部分加入不透光的导电材料或完全使用不透光的导电材料制成，使得挡光层12能够导电且不影响其原有的挡光作用，上述不透光导电材料优选为金属铬。像素层13为部分加入透光的导电材料或完全使用的有顔色的透光导电材料制成，使得像素层13能够导电且不影响其原有的滤光作用。上述部分加入透光的导电材料优选为高透光的导电聚酷薄膜或掺锑ニ氧化錫。如图4所示，本发明实施例还提供一种彩膜基板，包括基板5和基板5上形成的上述本发明实施例提供的彩膜。由于可导电的挡光层12和像素层13相互连通实现原有彩膜基板上公共电极的功能，从而取代了原有的公共电极层IT0。如图5所示，本发明实施例提供的彩膜和彩膜基板应用到液晶显示器中，阵列基板2上的公共电极层21通过周边的封框胶3中的导电金球与本发明实施例的彩膜基板I上的挡光层12相连通，为与挡光层12相连通的像素层13提供电压，使彩膜基板I上的像素层13与阵列基板2上像素电极层22分别构成两个电极，为填充于其中的液晶4提供所需的电压差。由于上述挡光层12和像素层13相互连通实现原有彩膜基板上公共电极的功能，从而取代了原有的公共电极层IT0，实现了去除现有技术中彩膜基板上的公共电极层IT0，进而減少了彩膜基板的制作エ序，相应的缩减了生产时间，并且由于ITO成本较高，降 低了制作成本。如图6所示，本发明实施例还提供一种彩膜基板的制造方法，包括步骤101、在基板上制作可导电的挡光层；步骤102、在挡光层之间制作可导电的像素层；上述可导电的挡光层和像素层相互连实现原有彩膜基板上公共电极的功能，取代了原有的公共电极层IT0。与现有技术中彩膜基板的制造方法还必须包括公共电极层ITO的制作步骤相比去除了 ITO的制作，进而減少了彩膜基板的制作エ序。进ー步的，挡光层为部分加入不透光的导电材料或完全使用不透光的导电材料制成，使得挡光层能够导电且不影响其原有的挡光作用，上述不透光导电材料优选为金属铬。像素层为部分加入透光的导电材料或完全使用有顔色的透光导电材料制成，使得像素层能够导电且不影响其原有的滤光作用。上述部分加入透光的导电材料优选为高透光的导电聚酷薄膜或掺锑ニ氧化锡。本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法制造出的彩膜基板应用到液晶显示器中的具体过程參照上述实施例，在此不再赘述。由于可导电的挡光层和像素层相互连通实现原有彩膜基板上公共电极的功能，从而取代了原有的公共电极层IT0，实现了去除现有技术中彩膜基板上的公共电极层IT0，进而減少了彩膜基板的制作エ序，相应的缩减了生产时间，并且由于ITO成本较高，降低了制作成本。以上所述，仅为本发明的具体实施方式
，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
权利要求
1.一种彩膜，包括挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，其特征在于， 所述挡光层为可导电的挡光层； 所述像素层为可导电的像素层； 所述可导电的挡光层和像素层相互连通。
2.根据权利要求I所述的彩膜，其特征在于， 所述挡光层为部分加入不透光的导电材料或完全使用不透光的导电材料制成。
3.根据权利要求I或2所述的彩膜，其特征在于， 所述像素层为部分加入透光的导电材料或完全使用有颜色的透光导电材料制成。
4.一种彩膜基板，包括基板、所述基板上的挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，其特征在于， 所述挡光层为可导电的挡光层； 所述像素层为可导电的像素层； 所述可导电的挡光层和像素层相互连通。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于， 所述挡光层为部分加入不透光的导电材料或完全使用不透光的导电材料制成。
6.根据权利要求4或5所述的彩膜基板，其特征在于， 所述像素层为部分加入透光的导电材料或完全使用有颜色的透光导电材料制成。
7.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括 在基板上制作可导电的挡光层； 在所述挡光层之间制作可导电的像素层； 所述可导电的挡光层和像素层相互连通。
8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于， 所述可导电的挡光层为部分加入不透光的导电材料或完全使用不透光的导电材料制成。
9.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于， 所述可导电的像素层为部分加入透光的导电材料或完全使用有颜色的透光导电材料制成。
10.一种显示装置，其特征在于，包括权4至权6任一所述的彩膜基板。
全文摘要
本发明公开了一种彩膜、彩膜基板及彩膜基板的制造方法，涉及液晶显示器领域，能够减少彩膜基板的制作工序，降低成本。该彩膜包括挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，所述挡光层为可导电的挡光层，所述像素层为可导电的像素层，所述可导电的挡光层和像素层相互连通。该彩膜基板包括基板、所述基板上的挡光层和被所述挡光层隔开的像素层，所述挡光层为可导电的挡光层，所述像素层为可导电的像素层，所述可导电的挡光层和像素层相互连通。该彩膜基板的制造方法包括制作可导电的挡光层；在所述挡光层之间制作可导电的像素层。
文档编号G02F1/1335GK102650756SQ20111024784
公开日2012年8月29日 申请日期2011年8月24日 优先权日2011年8月24日
发明者王凯旋 申请人:北京京东方光电科技有限公司