专利名称：光器件、光器件集成方法及光网络系统的制作方法
技术领域：
本发明实施例涉及通信技术领域，尤其涉及一种光器件、光器件集成方法及光网络系统。
背景技术：
无源光网络(Passive Optical Network，简称PON)是一种点对多点的光接入技术。目前PON系统有时分多址(Time Division Multiple Access，TDMA) PON和波分复用 (Wavelength-division multiplexing, WDM) Ρ0Ν，其中所述 TDMA PON 系统包括光线路终端(Optical Line Terminal, 0LT)、光分路器(Splitter)、光网络单元(Optical Network Unit,0NU)以及连接这些设备的光纤。OLT通过一根主干光纤与光分路器连接，光分路器通过多个分支光纤与各个ONU连接。TDMA PON网络下行使用广播的方式，上行使用时分复用的方式使ONU按OLT规定的时隙依次发出信号光。但是由于TDMA-PON上下行都使用单一波长，众多用户共享一个波长，因此发展到一定阶段受到了带宽的限制，而WDM PON网络使用阵列波导光栅(Array Waveguide Grating, AffG)来进行密集波分复用，每个ONU都使用独立波长的光进行信号传输，这样可以增加PON网络的带宽。目前现有网络已经布放了大量的TDMA Ρ0Ν，另外不同用户对带宽的需求也不同， 因此形成了 TDMA PON和WDM PON共存的场景。实现TDMA-PON和WDM-PON共存的技术主要通过将 TDMA PON 中的 Splitter 以及 WDM PON 中的 AWG 和波分复用器(Wavelength Division Multiplexer, WDM)集成在同一个平面上来实现TDMA PON和WDM PON的共存，但是，由于 Splitter和AWG结构的限制，将Splitter和AWG集成在同一平面上会造成Splitter和AWG 的多路输出端交错在一起，带来不均勻的额外插损；另外在同一平面上制作的平面光波回路(Planar Lightwave Circuit, PLC)型WDM有带宽小、不同波长间隔离度低，尺寸大等问题。
发明内容
本发明实施例提供一种光器件、光器件集成方法及光网络系统，用以解决现有技术中将AWG和Splitter集成在同一平面后，导致的AWG和Splitter之间的插损一致性差、 带宽小、隔离度低、且集成后的器件尺寸大等问题。本发明一方面提供了一种光器件，包括光分路器、阵列式波导光栅、波分复用器以及反射膜，所述光器件有上、下两层，其中所述光分路器和所述至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和阵列式波导光栅被设置在下层；或者，所述阵列式波导光栅和所述至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和所述光分路器被设置在下层；其中，至少一个波分复用器靠近所述光器件的输入端，至少另一个波分复用器靠近所述光器件的输出端，且所述波分复用器成固定角度设置在上层；至少一个反射膜靠近所述光器件的输入端，至少另一个反射膜靠近所述光器件的输出端，且所述反射膜成固定角度设置在下层；所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得通过所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上。本发明另一方面还提供了一种光器件集成的方法，所述方法包括通过半导体工艺技术分别制作出光分路器和阵列式波导光栅；将至少两个波分复用器和所述光分路器设置在上平面，至少两个反射膜和所述阵列式波导光栅设置在下平面上；或者，将至少两个波分复用器和所述阵列式波导光栅设置在上平面，至少两个反射膜和所述光分路器设置在下平面上；其中，至少一个波分复用器被设置在靠近所述光器件的输入端，至少另一个波分复用器被设置在靠近所述光器件的输出端，且所述波分复用器成固定角度设置在上层；至少一个反射膜被设置在靠近所述光器件的输入端，至少另一个反射膜被设置在靠近所述光器件的输出端，且所述反射膜成固定角度设置在下层；将所述上平面的光分路器和下平面的阵列式波导光栅通过对准标志进行对准，且所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得入射到所述波分复用器的部分光信号被反射后垂直入射到所述反射膜上。本发明另一方面还提供了一种光网络系统，所述光网络系统包括光线路终端和多个光网络单元，所述光线路终端通过上述光器件与所述多个光网络单元，所述集成光器件为通过上述光器件的集成方法制作出来的。本发明提供的一种光器件，通过将光分路器和波分复用器设置在上层，将所述反射膜和阵列式波导光栅被设置在下层，或者，将所述阵列式波导光栅和波分复用器被设置在上层，所述反射膜和所述光分路器被设置在下层，且所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得通过所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上，实现了双层波导集成光分路器和阵列式波导光栅，使得所述光器件具有高性能、大带宽、高隔离度和尺寸小的优点。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本发明实施例提供的一种光器件结构俯视图；图2为本发明实施例提供的一种光器件结构正视图；图3为本发明实施例提供的一种光器件的上层为光分路器的俯视图；图4为本发明实施例提供的一种光器件的下层为阵列式波导光栅的俯视图；图5为本发明一实施例提供的一种光器件的上层为光分路器以及下层为阵列式波导光栅的正视图；图6为本发明另一实施例提供的一种光器件的上层为光分路器以及下层为阵列式波导光栅的正视图7为本发明又一实施例提供的一种光器件的上层为光分路器以及下层为阵列式波导光栅的正视图；图8为本发明实施例提供的一种光网络系统的结构示意图。
具体实施例方式为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。如图1所示为本发明实施例提供的一种光器件结构俯视图，所述光器件包括 光分路器(Splitter)、阵列式波导光栅(Array Waveguide Grating, AWG)、波分复用器 (Wavelength Division Multiplexer, WDM)以及反射膜，所述光器件有上、下两层，其中所述光分路器和所述至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和阵列式波导光栅被设置在下层；或者，所述阵列式波导光栅和所述至少两个波分复用器被设置在上层， 所述至少两个反射膜和所述光分路器被设置在下层。其中，至少一个波分复用器靠近所述光器件的输入端，至少另一个波分复用器靠近所述光器件的输出端，且所述波分复用器成固定角度设置在上层。至少一个反射膜靠近所述光器件的输入端，至少另一个反射膜靠近所述光器件的输出端，且所述反射膜成固定角度设置在下层。所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得通过所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上，从图1的俯视图看，所述至少一个反射膜位于所述至少一个WDM之前，所述至少另一个WDM位于所述至少另一个反射膜之前，其中从上而下看，WDM和反射膜之间有部分是可以重合的，即，上层的WDM的投影有一部分是可以覆盖到下层的反射膜，且所述上层的WDM以固定的角度设置在上层，最优的角度为45度，但是根据各种类型的AWG可以使用不同的角度，所述反射膜也是以固定的角度设置在下层，最优角度为45度， 但是根据各种类型的反射膜可以使用不同的角度，以上层为WDM和Splitter为例，通过上述设置，可以使得光信号通过所述WDM后，短波长的光信号通过，进入Splitter，长波长的光信号被反射后垂直入射到下层的反射膜，并进入到AWG中进行传输，最后长波长的光信号又经过固定角度的反向放置的反射膜和WDM合波后通过所述光器件的输出口输出。所述光分路器和所述阵列式波导光栅采用半导体工艺制作，进一步地，所述光分路器和阵列式波导光栅采用二氧化硅工艺制作并被设置所述光器件的上层或者下层，所述光分路器的芯层为折射率高的二氧化硅，上包层和下包层均为较芯层的折射率低的二氧化娃。进一步地，使用半导体工艺技术分别制作出带十字对准标志(对应图1中的对准 mark)的AWG和splitter，使得所述光分路器和阵列式波导光栅的输入波导和输出波导分别设计成能上下对齐的结构；AWG和splitter —般采用二氧化硅工艺，AffG和splitter的输入和输出端分别设计在相互对应的位置上，当AWG芯片和splitter芯片重叠后相应的输入波导和输出波导也能重叠，然后在其上进行斜45°开槽并插入TFF和反射膜，将插入的薄膜用折射率匹配的UV固化胶固定住，然后两个独立的AWG和splitter在显微镜下通过十字对准标志进行对准，用折射率匹配的UV固化胶(S卩，折射率匹配液)将两芯片粘住，最后输入和输出端用光纤阵列(Fibre Array, FA)进行耦合封装。进一步地，当所述光分路器和至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和所述阵列式波导光栅被设置在下层时，所述波分复用器为低通滤波片，例如低通薄膜滤波片(Short Pass Filter-Thin Film Filter, SPF-TFF-WDM)；或者，当所述阵列式波导光栅和所述波分复用器被设置在上层，所述反射膜和所述光分路器被设置在下层时，所述波分复用器为长通滤波片，例如长通滤波片(long pass filter-Thin Film Filter, LPF-TFF)。其中，WDM和反射膜有以下几种方式被设置在所述光器件的上层或者下层，且成固定角度图1为其中一种方式，即在所述光器件离波导芯层近的上表层进行固定角度的开槽，分别将所述薄膜滤波片(TFF)或者所述反射膜放入所述开的槽中；其二为用边缘角度为固定角度的锯片在所述光器件离波导芯层近的上表层划出一条槽，然后将TFF薄膜片和反射膜贴在固定角度的斜面上或者通过蒸镀技术在斜面上蒸镀TFF薄膜和反射膜(请参见图6)；其三为用锯片或者用感应耦合等离子体刻蚀的方法刻出一条槽，将镀上所述波分复用器或者反射膜的等腰三角形玻璃块插入到槽中(请参见图7)。如图2所示为本发明实施例提供的一种光器件结构侧视图，以光器件的上层(也可以称为上平面)为WDM和Splitter，下层为反射膜和AWG为例，且WDM为SPF-TFF-WDM，波长范围为λa的光信号和波长范围为λs的光信号通过输入端输入，其中，所述λs为短波长范围(例如1490nm波长范围或者1310nm波长范围)，Xa为长波长范围(例如1550nm波长范围)。所述λ a的光信号和λ s的光信号发送到经过固定角度放置的SPF-TFF-WDM1后， λ s的光信号通过SPF-TFF-WDM进入Splitter，进而通过WDM2进入输出端，而λ a的光信号被垂直反射到下层的反射膜1上，经过固定角度被水平反射到AWG中，经过AWG后，分成多路光信号，并分别通过反射膜2，被垂直反射到SPF-TFF-WDM2上，进而通过SPF-TFF-WDM2 的反射，与Splitter中的λ s的光信号耦合进同一根波导中输出。其中固定角度为45度是最优角度，但是根据WDM产品的不同，WDM和反射膜的角度可以同时改变来实现上述功能，所述反射膜最佳用例是全反射膜。本发明实施例提供的一种光器件，通过将光分路器和波分复用器设置在上层，将所述反射膜和阵列式波导光栅被设置在下层，或者，将所述阵列式波导光栅和波分复用器被设置在上层，所述反射膜和所述光分路器被设置在下层，且所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得通过所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上，实现了双层波导集成光分路器和阵列式波导光栅，使得所述光器件具有高性能、大带宽、高隔离度和尺寸小的优点。图3和图4分别为本发明实施例提供的一种光器件的上层为光分路器的俯视图， 以及一种光器件的下层为阵列式波导光栅的俯视图。这里仅仅是以上层为光分路器以及下层为阵列式波导光栅为例进行说明，实际中，AWG也可以在上层，Splitter也可以在下层， 其中WDM只需要由低通滤波片的WDM替换成长通滤波片的WDM也可以实现上述光器件的功能。如图3所示，所述光器件的上层为WDM1、Splitter以及WDM2组成，其中使用半导体工艺技术制作出带十字对准标志的splitter芯片，splitter —般采用二氧化硅工艺，其中对准标记(图中为对准mark)分别设置在上层的四个角上及波导边上，且WDMl以固定的倾斜角度被设置在靠近光器件的输入端口侧，WDM2以固定的倾斜角度被设置在靠近光器件的输出端口侧。如图4所示，所述光器件的下层为固定角度的反射膜1、固定角度的反射膜 2以及AWG组成，其中对准标志分别设置在下层的四个角上及波导边上，用来与上层进行对准。AWG和splitter的输入和输出端分别设计在相互对应的位置上。其中图3的WDMl 和WDM2和图4中的反射膜1和反射膜2通过开槽的方式，将所述WDMl、WDM2以及反射膜1 和反射膜2分别插入对应的槽中，并用折射率匹配的固化胶固定住。进一步地，将两个独立的AWG和splitter在显微镜下通过十字对准标志进行对准，用折射率匹配的UV固化胶将其粘住，最后输入和输出端用FA (fibre array光纤阵列) 进行耦合封装。图5、图6和图7分别为本发明实施例提供的一种光器件中通过三种方式设置的上层为光分路器以及下层为阵列式波导光栅的正视图；图5为其中一种方式，即在所述光器件的上层或者下层进行固定角度的开槽，分别将所述TFF薄膜滤波片或者所述反射膜放入所述开的槽中；图6为用边缘角度为固定角度的锯片在所述光器件的上层或者下层分别划出一条槽，通过贴片技术或光刻蒸镀技术分别在固定角度的斜面上镀上所述TFF薄膜滤波片或者所述反射膜；图7为用锯片或者用感应耦合等离子体刻蚀的方法作出一条槽，将镀上所述波分复用器或者反射膜的等腰三角形玻璃块插入到槽中。基于上述的光器件的结构图，本发明实施例还提供了一种光器件集成的方法，所述方法包括通过半导体工艺技术分别制作出光分路器和阵列式波导光栅；将至少两个波分复用器和所述光分路器设置在上平面，至少两个反射膜和所述阵列式波导光栅设置在下平面上；或者，将至少两个波分复用器和所述阵列式波导光栅设置在上平面，至少两个反射膜和所述光分路器设置在下平面上；其中，至少一个波分复用器被设置在靠近所述光器件的输入端，至少另一个波分复用器被设置在靠近所述光器件的输出端，且所述波分复用器成固定角度设置在上层；至少一个反射膜被设置在靠近所述光器件的输入端，至少另一个反射膜被设置在靠近所述光器件的输出端，且所述反射膜成固定角度设置在下层；将所述上平面的光分路器和下平面的阵列式波导光栅通过对准标志进行对准，且所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得进入所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上。本发明实施例提供的一种集成光器件的方法，通过将光分路器和波分复用器设置在上层，将所述反射膜和阵列式波导光栅被设置在下层，或者，将所述阵列式波导光栅和波分复用器被设置在上层，所述反射膜和所述光分路器被设置在下层，且所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得通过所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上，实现了双层波导集成光分路器和阵列式波导光栅，使得通过上述方法实现的所述光器件具有高性能、大带宽、高隔离度和尺寸小的优点。
图8为本发明实施例提供的一种光网络系统的结构示意图。所述光网络系统包括光线路终端和多个光网络单元，所述光线路终端通过一种光器件与所述多个光网络单元相连接。所述光器件具体包括光分路器、阵列式波导光栅、至少两个波分复用器以及至少两个反射膜，其特征在于，所述光器件有上、下两层，其中所述光分路器和所述至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和阵列式波导光栅被设置在下层；或者，所述阵列式波导光栅和所述至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和所述光分路器被设置在下层；其中，至少一个波分复用器靠近所述光器件的输入端，至少另一个波分复用器靠近所述光器件的输出端，且所述波分复用器成固定角度设置在上层；至少一个反射膜靠近所述光器件的输入端，至少另一个反射膜靠近所述光器件的输出端，且所述反射膜成固定角度设置在下层；所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得通过所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上。以光器件的上层为WDM与Splitter，下层为反射膜与AWG，其中，WDMl和WDM2为 SPF-TFF-WDM为例，当所述TDMA-PON的OLT发送下行光信号光λ down和WDM-PON的OLT发送下行信号光入1、λ 2……进入上述光器件后，λ down通过SPF-TFF-WDM1进入splitter 波导中进行传输，在输出端通过另一个SPF-TFF-WDM2输出，而λ 1、λ 2等长波长的光被 SPF-TFF-WDM1反射后垂直向下入射到反射膜1上，反射膜1将入射光反射后进入到AWG中， 然后通过反射膜2和SPF-TFF-WDM2与splitter对应波导中的光合在一起输出，因此ONU 既可以接收TDMA-PON的下行信号，又可以接收WDM-PON的下行信号，ONU可以根据用户对带宽的需求灵活地使用TDMA-PON的ONU或WDM-PON的ONU，ONU发出TDMA-PON所使用的上行信号光λ up或WDM-PON所使用的上行信号光λ1’、λ2’……通过和下行一样的原理分别经过TFF-WDM2和反射膜2进入到spl itter和AWG中，再通过TFF-WDMl和反射膜1合束到同一根光纤中，传输进OLT中，以此实现TDMA-PON和WDM-PON的共存以及无缝演进。本发明实施例提供的一种光网络系统，通过一种光器件，使得光网络单元即可以接收TDMA-PON的下行信号，又可以接收WDM-PON的下行信号，且可以通过带宽需求灵活使用，以此实现TDMA-PON和WDM-PON的共存以及无缝演进。本领域普通技术人员可以理解实现上述方法实施例的全部或部分步骤可以通过程序指令相关的硬件来完成，前述的程序可以存储于一计算机可读取存储介质中，该程序在执行时，执行包括上述方法实施例的步骤；而前述的存储介质包括R0M、RAM、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。最后应说明的是以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
权利要求
1.一种光器件，所述光器件包括光分路器、阵列式波导光栅、至少两个波分复用器以及至少两个反射膜，其特征在于，所述光器件有上、下两层，其中所述光分路器和所述至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和阵列式波导光栅被设置在下层；或者，所述阵列式波导光栅和所述至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和所述光分路器被设置在下层；其中，至少一个波分复用器靠近所述光器件的输入端，至少另一个波分复用器靠近所述光器件的输出端，且所述波分复用器成固定角度设置在上层；至少一个反射膜靠近所述光器件的输入端，至少另一个反射膜靠近所述光器件的输出端，且所述反射膜成固定角度设置在下层；所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得入射到所述波分复用器的部分光信号被反射后垂直入射到所述反射膜上。
2.根据权利要求1所述的光器件，其特征在于，所述光分路器和所述阵列式波导光栅采用半导体工艺制作。
3.根据权利要求1所述的光器件，其特征在于，当所述光分路器和至少两个波分复用器被设置在上层，所述至少两个反射膜和所述阵列式波导光栅被设置在下层时，所述波分复用器为低通滤波片；或者，当所述阵列式波导光栅和所述波分复用器被设置在上层，所述反射膜和所述光分路器被设置在下层时，所述波分复用器为长通滤波片。
4.根据权利要求1或者3所述的光器件，其特征在于，所述光分路器和阵列式波导光栅采用二氧化硅工艺制作并被设置所述光器件的上层或者下层，所述光分路器所在的上层或者下层的芯层为折射率高的二氧化硅，上包层和下包层均为较芯层的折射率低的二氧化娃。
5.根据权利要求1-4所述的任意一种光器件，其特征在于，在所述光器件的上层或者下层进行固定角度的开槽，分别将所述波分复用器或者所述反光膜放入所述开的槽中；或者，用边缘角度为固定角度的锯片在所述光器件的上层或者下层分别划出一条槽，通过贴片技术和光刻蒸镀技术分别在固定角度的斜面上镀上所述波分复用器或者所述反光膜；或者，用锯片或者用感应耦合等离子体刻蚀的方法刻出一条槽，将镀上所述波分复用器或者反射膜的等腰三角形玻璃块插入到槽中。
6.一种光器件集成的方法，其特征在于，所述方法包括通过半导体工艺技术分别制作出光分路器和阵列式波导光栅；将至少两个波分复用器和所述光分路器设置在上层，至少两个反射膜和所述阵列式波导光栅设置在下层；或者，将至少两个波分复用器和所述阵列式波导光栅设置在上层，至少两个反射膜和所述光分路器设置在下层；其中，至少一个波分复用器被设置在靠近所述光器件的输入端，至少另一个波分复用器被设置在靠近所述光器件的输出端，且所述波分复用器成固定角度设置在上层；至少一个反射膜被设置在靠近所述光器件的输入端，至少另一个反射膜被设置在靠近所述光器件的输出端，且所述反射膜成固定角度设置在下层；将所述上平面的光分路器和下平面的阵列式波导光栅通过对准标志进行对准，且所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得进入所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上。
7.根据权利要求6所述的光器件的集成方法，当所述光分路器和波分复用器设置在上层，所述反射膜和所述阵列式波导光栅被设置在下层时，所述波分复用器为低通滤波片；或者，当所述阵列式波导光栅和所述波分复用器被设置在上层，所述反射膜和所述光分路器被设置在下层时，所述波分复用器为长通滤波片。
8.根据权利要求6或者7所述的光器件，其特征在于，所述光分路器和阵列式波导光栅采用二氧化硅工艺制作并被设置所述光器件的上层或者下层，所述光分路器所在的上层或者下层的芯层为折射率高的二氧化硅，上包层和下包层均为较芯层的折射率低的二氧化娃。
9.根据权利要求6-8所述的任意一种光器件，其特征在于，在所述光器件的上层或者下层进行固定角度的开槽，分别将所述波分复用器或者所述反射膜放入所述开的槽中；或者，用边缘角度为固定角度的锯片在所述光器件的上层或者下层分别划出一条槽，通过贴片技术和光刻蒸镀技术分别在固定角度的斜面上镀上所述波分复用器或者所述反射膜；或者，用锯片或者用感应耦合等离子体刻蚀的方法刻出一条槽，将镀上所述波分复用器或者反射膜的等腰三角形玻璃块插入到槽中。
10.一种光网络系统，其特征在于，包括光线路终端和多个光网络单元，所述光线路终端通过如权利要求1-5所述的光器件与所述多个光网络单元相连接。
全文摘要
本发明实施例提供一种光器件，所述光器件包括光分路器、阵列式波导光栅、波分复用器以及反射膜，其特征在于，所述光器件有上、下两层，其中所述光分路器和波分复用器被设置在上层，所述反射膜和阵列式波导光栅被设置在下层；或者，所述阵列式波导光栅和波分复用器被设置在上层，所述反射膜和所述光分路器被设置在下层，所述波分复用器或者所述反射膜分别靠近所述光器件的输入端，且以固定角度进行设置；且所述波分复用器的投影部分覆盖所述反射膜，使得通过所述波分复用器的部分光信号垂直入射到所述反射膜上，实现了双层波导集成光分路器和阵列式波导光栅，使得所述光器件具有高性能、大带宽、高隔离度和尺寸小的优点。
文档编号G02B6/34GK102483494SQ201180002251
公开日2012年5月30日 申请日期2011年9月9日 优先权日2011年9月9日
发明者林华枫, 陈聪 申请人:华为技术有限公司