专利名称：液晶显示面板的修复方法
技术领域：
本发明涉及液晶显示技木，尤其涉及ー种液晶显示面板的修复方法。
背景技术：
液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示器(Thin FilmTransistor Liquid Crystal Display,简称TFT-IXD)是液晶显示器中的主流产品。液晶显示面板是液晶显示器的重要部件，液晶显示面板由阵列基板和彩膜基板对盒而成。在液晶显示面板的制造过程中，亮点(Bright Pixel)是最常见的不良，亮点可发生于彩膜基板的彩色矩阵图形上。造成液晶显示面板出现亮点的原因可以包括TFT工程上产生异物、TFT无法正常驱动或者进行TFT工程时人为注入的异物质引起的短路(short)等。当彩膜基板的彩色矩阵图形上出现亮点时，该彩色矩阵图形仅能显示本身的固有顔色而无法随驱动电压变化而改变显示颜色。在将阵列基板和彩膜基板对盒形成液晶显示面板之后，需要对液晶显示面板进行测试。当测试出液晶显示面板出现亮点后，可通过修复エ艺(cell repair)对液晶显示面板上亮点的修复。现有技术中，通过持续向液晶显示面板施加高电压以实现对亮点的修复。但是，由于液晶显示面板内部容易产生异物，异物会导致液晶显示面板出现亮点不良，在持续施加高电压的过程中，产生的异物会使液晶显示面板发生线不良，从而增加了产品的不良率以及降低了产品活用度。
发明内容
本发明提供ー种液晶显示面板的修复方法，用以降低产品的不良率以及增加产品活用度。为实现上述目的，本发明提供ー种液晶显示面板的修复方法，所述液晶显示面板的彩膜基板包括衬底基板以及形成于所述衬底基板上的黑矩阵图形和彩色矩阵图形；所述修复方法包括在所述液晶显示面板出现亮点不良时，通过将所述亮点转化成暗点来对所述亮点不良进行初次修复；检测初次修复后的像素点的光參数；若判断出某一像素点的光參数大于或者等于特定数值，确定所述光參数大于或者等于所述特定数值的像素点为剩余亮点，对所述液晶显示面板的彩膜基板上与所述剩余亮点对应的区域进行碳化处理。可选地，所述光參数包括光透过率。进ー步地，若所述亮点对应的彩色矩阵图形为红色矩阵图形，所述特定数值为16% ；若所述亮点对应的彩色矩阵图形为绿色矩阵图形，所述特定数值为8% ；若所述亮点对应的彩色矩阵图形为蓝色矩阵图形，所述特定数值为24%。
可选地，所述光参数包括光透过面积。进一步地，所述特定数值为所述亮点对应的像素开口面积的三分之可选地，所述将所述亮点转化成暗点包括利用激光照射亮点对应的彩色矩阵图形，使衬底基板与亮点对应的彩色矩阵图形之间形成缝隙；利用激光照射所述亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形，使所述亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形颗粒化并通过所述缝隙扩散以覆盖所述亮点，以使所述亮点转化成暗点。
可选地，激光照射所述亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形时对黑矩阵图形的渗透深度由所述激光的强度决定。可选地，所述激光的强度越强，所述渗透深度越大。可选地，所述对所述液晶显示面板的彩膜基板上与所述剩余亮点对应的区域进行碳化处理，包括利用激光照射所述剩余亮点在彩膜基板上对应的区域，使该区域的彩色矩阵图形分解为碳和气体化合物，以使所述剩余亮点转化成暗点。可选地，所述液晶显示面板出现亮点的原因包括如下之一或其任意组合薄膜晶体管TFT的过孔缺失、TFT的栅极开路、跨栅线的像素间短路、像素与数据线间短路、像素下存在数据线残留物、像素下存在a-Si残留物、跨数据线的像素间短路、像素与栅线间短路、TFT器件关闭电流过高、TFT器件打开电流过小、液晶层出现异物、接触面不良、源漏极开路。本发明具有以下有益效果本发明提供的液晶显示面板的修复方法包括将亮点转化成暗点的初次修复，并对初次修复后的像素点进行检测；若检测结果表明仍存在亮点不良，则对剩余亮点在彩色矩阵图形上对应的区域进行碳化处理；利用本发明提供的方案，不仅可以提高亮点不良的修复率，而且避免了持续施加高电压过程中产生的异物使液晶显示面板发生线不良的情况，从而降低了产品的不良率以及提高了产品活用度。
图I为本发明实施例一提供的一种液晶显示面板的修复方法的流程图；图2为本实施例中引发売点的一种不意图；图3为本实施例中引发売点的另一种不意图；图4为利用激光照射売点周边的黑矩阵图形的不意图；图5为激光强度与渗透深度的关系示意图。
具体实施例方式为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的液晶显示面板的修复方法进行详细描述。图I为本发明实施例一提供的一种液晶显示面板的修复方法的流程图，如图I所示，该方法包括步骤101、判断液晶显示面板是否出现亮点，若判断出液晶显示面板出现亮点，则执行步骤102 ;若判断出液晶显示面板未出现亮点，则流程结束。在将彩膜基板和阵列基板对盒形成液晶显示面板后，对液晶显示面板进行测试，以判断液晶显示面板是否出现亮点。本实施例中，液晶显示面板包 括相对设置的彩膜基板和阵列基板，彩膜基板包括衬底基板以及形成于衬底基板上的黑矩阵图形和彩色矩阵图形。其中，彩色矩阵图形可包括红色矩阵图形、緑色矩阵图形和蓝色矩阵图形。本步骤中，液晶显示面板出现亮点的原因具体包括如下之一或其任意组合TFT的过孔缺失(TFT via hole missing)、TFT的栅极开路(TFT gate open)、跨栅线的像素间短路(Pixel-to-pixel short across gate line)、像素与数据线间短路(Pixel-to-dataline short)、像素下存在数据线残留物(data line residue under pixel)、像素下存在 a_Si 残留物(a_Si residue under pixel)、跨数据线的像素间短路(Pixel-to-pixelshort across data line)、像素与栅线间短路(Pixel-to-gate line short)、TFT 器件关闭电流过高(High TFT off-current)、TFT 器件打开电流过小(Low TFT on-current)、液晶层出现异物、接触面不良、源漏极开路(S/D开路)。若出现上述之一或其任意组合中出现的情況，则会导致液晶显示面板出现亮点。图2为本实施例中引发亮点的ー种示意图,如图2所示,液晶显示面板包括相对设置的彩膜基板和阵列基板1，彩膜基板和阵列基板I之间填充有液晶层，彩膜基板包括衬底基板21以及形成于衬底基板21上的彩色矩阵图形和黑矩阵图形22，彩色矩阵图形包括红色矩阵图形23、緑色矩阵图形24和蓝色矩阵图形25，图2中给出了由液晶层出现异物而引发亮点的情況，由异物引发的亮点对应于緑色矩阵图形24。图3为本实施例中引发亮点的另ー种示意图，如图3所示，图3中给出了由TFT的过孔缺失、TFT的栅极开路、跨栅线的像素间短路、像素与数据线间短路、像素下存在数据线残留物、像素下存在a-Si残留物、跨数据线的像素间短路、像素与栅线间短路、TFT器件关闭电流过高以及TFT器件打开电流过小而引发亮点。步骤102、通过激光将亮点转化成暗点，以完成对亮点不良的初次修复。本实施例中，步骤102具体可包括利用激光照射亮点对应的彩色矩阵图形，使衬底基板与亮点对应的彩色矩阵图形之间形成缝隙；利用激光照射亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形，使亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形颗粒化并通过缝隙扩散以覆盖亮点，以使亮点转化成暗点。图4为利用激光照射亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形的示意图，如图4所示，液晶显示面板包括彩膜基板和阵列基板1，彩膜基板包括衬底基板21以及形成于衬底基板21上的彩色矩阵图形和黑矩阵图形22，彩色矩阵图形包括红色矩阵图形23、绿色矩阵图形24和蓝色矩阵图形25。亮点对应于绿色矩阵图形24。利用激光照射亮点对应的绿色矩阵图形24，使衬底基板21与亮点对应的绿色矩阵图形24之间形成缝隙；利用激光照射亮点对应的绿色矩阵图形24周边的黑矩阵图形，黑矩阵图形颗粒化并通过缝隙扩散，覆盖了亮点对应的緑色矩阵图形的一部分，实现了将亮点覆盖，从而实现了将亮点转换为暗点。图5为激光強度与滲透深度的关系示意图，如图5所示，激光照射亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形时对黑矩阵图形的滲透深度可由激光的強度决定，因此可通过调节激光的强度调节渗透深度，以达到覆盖亮点的目的。其中，激光的强度越强，渗透深度越大。例如如图5所示，激光的强度和渗透深度呈正相关关系。步骤103、检测初次修复后的像素点的光参数。
本实施例中，检测出彩膜基板上每个彩色矩阵图形的光参数，其中，光参数可包括光透过率和/或光透过面积。步骤104、判断某一像素点的光参数是否大于或等于特定数值，若判断出光参数大于或者等于所述特定数值，则执行步骤105 ;若判断出光参数小于所述特定数值，则流程结束。本实施例中，步骤102中通过激光将亮点转化成暗点时，有可能存在修复效果不好的像素点。此时，可对初次修复后的像素点进行检测，得出被测像素点对应的光参数，并通过判断所述光参数是否大于或等于特定数值，来确定该像素点是否仍存在亮点不良。若判断出光参数大于或者等于特定数值，则表明该彩色矩阵图形对应的亮点的初次修复效果不好、仍存在不良，此时可确定光透过率大于或者等于特定数值的像素点为剩余亮点。若判断出光参数小于特定数值，则表明该彩色矩阵图形未对应亮点或者对应的亮点已通过激光转换为暗点，无需进行进一步处理。其中，特定数值可根据需要预先设定。光参数为光透过率时，若亮点对应的彩色矩阵图形为红色矩阵图形，特定数值为16% ;或者，若亮点对应的彩色矩阵图形为绿色矩阵图形，特定数值为8% ;或者，若亮点对应的彩色矩阵图形为蓝色矩阵图形，特定数值为24%。如果光参数为光透过面积，则特定数值为亮点对应的像素开口面积的三分之一。步骤105、确定出光参数大于或者等于特定数值的像素点为剩余亮点，并对剩余亮点在该彩色矩阵图形上对应的区域进行碳化处理，流程结束。在步骤104中，当判断出光参数大于或者等于特定数值时，确定出该彩色矩阵图形还对应于未能通过激光转换为暗点的亮点，即剩余亮点，对剩余亮点在该彩色矩阵图形上对应的区域进行碳化处理，可以尽量将液晶显示面板的光参数维修至小于特定数值的情形，从而提闻液晶显不面板的质量。其中，对剩余亮点在该彩色矩阵图形上对应的区域进行碳化处理具体包括利用激光照射剩余亮点在该彩色矩阵图形上对应的区域，使该区域分解为碳和气体化合物，从而实现对剩余亮点在该彩色矩阵图形上对应的区域的碳化处理。被碳化处理的区域仅为彩色矩阵图形的一部分，该部分对应于剩余亮点。其中，由于气体化合物的作用，碳化后的该区域呈现蜂窝状。其中，用于照射剩余亮点的彩色矩阵图形的激光，在碳化处理阶段的激光强度要大于其在初次修复时照射彩色矩阵图形的激光强度，约为I. 5倍的关系，这样才能顺利将亮点区域的彩色矩阵图形分解成碳以形成暗点。 本实施例提供的液晶显示面板的修复方法包括将亮点转化成暗点的初次修复，并对初次修复后的像素点进行检测；若检测结果表明仍存在亮点不良，则对剩余亮点在彩色矩阵图形上对应的区域进行碳化处理；利用本发明提供的方案，不仅可以提高亮点不良的修复率，而且避免了持续施加高电压过程中产生的异物使液晶显示面板发生线不良的情况，降低了产品的不良率以及提高了产品活用度，从而提高了生产效率。 可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精 神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种液晶显示面板的修复方法，所述液晶显示面板的彩膜基板包括衬底基板以及形成于所述衬底基板上的黑矩阵图形和彩色矩阵图形；其特征在于，所述修复方法包括 在所述液晶显示面板出现亮点不良时，通过将所述亮点转化成暗点来对所述亮点不良进行初次修复； 检测初次修复后的像素点的光参数； 若判断出某一像素点的光参数大于或者等于特定数值，确定所述光参数大于或者等于所述特定数值的像素点为剩余亮点，对所述液晶显示面板的彩膜基板上与所述剩余亮点对应的区域进行碳化处理。
2.根据权利要求I所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于，所述光参数包括光透过率。
3.根据权利要求2所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于， 若所述亮点对应的彩色矩阵图形为红色矩阵图形，所述特定数值为16% ； 若所述亮点对应的彩色矩阵图形为绿色矩阵图形，所述特定数值为8% ； 若所述亮点对应的彩色矩阵图形为蓝色矩阵图形，所述特定数值为24%。
4.根据权利要求I所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于，所述光参数包括光透过面积。
5.根据权利要求4所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于，所述特定数值为所述亮点对应的像素开口面积的三分之一。
6.根据权利要求I所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于，所述将所述亮点转化成暗点包括 利用激光照射所述亮点对应的彩色矩阵图形，使衬底基板与亮点对应的彩色矩阵图形之间形成缝隙； 利用激光照射所述亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形，使所述亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形颗粒化并通过所述缝隙扩散以覆盖所述亮点，以使所述亮点转化成暗点。
7.根据权利要求6所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于，激光照射所述亮点对应的彩色矩阵图形周边的黑矩阵图形时对黑矩阵图形的渗透深度由所述激光的强度决定。
8.根据权利要求7所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于，所述激光的强度越强，所述渗透深度越大。
9.根据权利要求I所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于，所述对所述液晶显示面板的彩膜基板上与所述剩余亮点对应的区域进行碳化处理，包括 利用激光照射所述剩余亮点在彩膜基板上对应的区域，使该区域的彩色矩阵图形分解为碳和气体化合物，以使所述剩余亮点转化成暗点。
10.根据权利要求I至9任一所述的液晶显示面板的修复方法，其特征在于，所述液晶显示面板出现亮点的原因包括如下之一或其任意组合薄膜晶体管TFT的过孔缺失、TFT的栅极开路、跨栅线的像素间短路、像素与数据线间短路、像素下存在数据线残留物、像素下存在a-Si残留物、跨数据线的像素间短路、像素与栅线间短路、TFT器件关闭电流过高、TFT器件打开电流过小、液晶层出现异物、接触面不良、源漏极开路。
全文摘要
本发明公开了一种液晶显示面板的修复方法。该液晶显示面板的修复方法，所述液晶显示面板的彩膜基板包括衬底基板以及形成于所述衬底基板上的黑矩阵图形和彩色矩阵图形；所述修复方法包括在所述液晶显示面板出现亮点不良时，通过将所述亮点转化成暗点来对所述亮点不良进行初次修复；检测初次修复后的像素点的光参数；若判断出某一像素点的光参数大于或者等于特定数值，确定所述光参数大于或者等于所述特定数值的像素点为剩余亮点，对所述液晶显示面板的彩膜基板上与所述剩余亮点对应的区域进行碳化处理。本发明提供的液晶显示面板的修复方法降低了产品的不良率以及提高了产品活用度。
文档编号G02F1/13GK102654661SQ20121013814
公开日2012年9月5日 申请日期2012年5月4日 优先权日2012年5月4日
发明者吴涛, 钮曼萍 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 合肥京东方光电科技有限公司