专利名称：太阳能反射镜及其制备方法
技术领域：
本发明涉及太阳能聚光集热技术领域，特别涉及太阳能聚光器用反射镜及其制备方法。
背景技术：
太阳能是可再生能源中分布最广泛，几乎遍布全球的每个角落，取用更方便，储量最丰富，可谓是取之不尽用之不竭，一旦它能够被充分有效的利用，将会极大地缓解人类的能源危机，故而太阳能在未来能源结构中将占有重要的地位。太阳能热利用，尤其是太阳能集热发电工程首先解决的问题是辐射到地面的太阳能能流密度小的问题，利用太阳能反射镜将太阳光汇聚起来增加能流密度是高效利用太阳能的一种技术手段。 作为太阳能聚光器关键部件，太阳能反射镜目前有玻璃基底镜后膜反射镜和金属基底镜前膜反射镜等。其中镜前膜反射镜虽然反射效率高但存在耐风沙腐蚀性能差的缺陷。因此目前规模化应用的太阳能反射镜多采用玻璃基底镜后膜。典型结构为玻璃基底/银/铜/保护漆，其中银反射层多采用传统的化学“湿法”工艺制备。该方法制备的反射镜反射率为93%。由于玻璃/银/铜采用化学反应成膜法，界面之间的附着力较差，长期户外使用存在耐久性缺陷。其次由于采用化学反应镀膜方法，镀膜过程存在环境污染等问题。
发明内容
本发明的目的在于避免现有技术的不足提供一种太阳能反射镜。本发明适用于规模化应用的高反射率太阳能反射镜。本发明的又一目的在于提供一种太阳能反射镜到的制备方法。为实现上述目的，本发明采取的技术方案为一种太阳能反射镜，包括有在玻璃基板上设有金属反射层，其主要特点在于在玻璃基板与金属反射层之间设有光学过渡层，在金属反射层上设有反射补偿金属过渡层；在反射补偿金属过渡层上设有保护层。所述的太阳能反射镜，所述的光学过渡层的材料为Si3N4或Al2O3或Tix0y。所述的太阳能反射镜，所述的金属反射层的材料为银或铝。所述的太阳能反射镜，所述的反射补偿金属过渡层的材料为铝或铜；其厚度为120_150nm。所述的太阳能反射镜，所述的光学过渡层是Si3N4或Al2O3或TixOy的厚度为5_30nmo所述的太阳能反射镜,所述的金属反射层的厚度为80_150nm。一种太阳能反射镜的制备方法，其主要特点在于步骤为(I)在真空环境下对玻璃基板镀膜面进行等离子清洗将待镀玻璃基板放入真空室体，预抽真空，当室体真空度为KT4Pa后开始向真空室体通过质量流量计精确充如惰性气体，氮气或IS气且将室内压强维持在4 5Pa ;开启轰击电源,在真空室体内的一对轰击极板间加50(T2500V电压，电流为O. 5^3. 5Α电流，产生稳定的辉光，产生辉光等离子流；在稳定的辉光放电的条件下清洗30(T500s ；(2)在真空环境下Si3N4光学过渡层的制备；将高纯硅作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室体充入氩气和氮气的混合气体为450-520sccm 340-380sccm,当真空度达到O. 5 5Pa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压380V-420V，电流45A-55A，镀膜2_10min，在玻璃基板表面形成5-30nm厚的Si3N4薄膜；(3)在真空环境下金属银反射层制备将纯银作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流18A-22A，镀膜3(T60s，在步骤(2)光学过渡层的表面形成8(Tl50nm厚银反射层；
(4)铝反射补偿金属过渡层制备将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流38A-42A，镀膜30-40s，在金属银反射层表面形成120_150nm厚金属铝层；(5)喷淋5(T60um厚保护油漆。所述的太阳能反射镜的制备方法，还包括有步骤(2)为Al2O3光学过渡层的制备将高纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室体充入氩气和氧气的混合气体450-550sccm 340-380sccm,当真空度达到O. 5飞Pa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流26A-34A，镀膜2_10min，在玻璃基板表面形成5-30nm厚的Al2O3薄膜。所述的太阳能反射镜的制备方法，还包括有步骤(2)为TixOy光学过渡层的制备将高纯钛作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室体充入氩气和氧气的混合气体220-260sccm 450-550sccm,当真空度达到O. 5 5Pa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压370V-390V，电流8A-12A，镀膜2_10min，在玻璃基板表面形成5-30nm厚的TixOy薄膜。所述的太阳能反射镜的制备方法，还包括有步骤(3)为铝光学反射层的磁控溅射制备将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流38A-42A，镀膜30-40s，在在步骤(2)光学过渡层的表面形成120_150nm厚金属铝层。所述的太阳能反射镜的制备方法，还包括有步骤(4)为反射补偿金属过渡层通过真空蒸发制备以高纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT2Pa后，启动蒸发镀铝电源开始蒸发镀膜，电压8A-12A，电流2450A-2550A，在在步骤(3)光学反射层的表面形成120nm-150nm厚金属招层。所述的太阳能反射镜的制备方法，还包括有步骤(4)铜反射补偿金属过渡层通过磁控溅射制备将纯铜作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. riPa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流18A-22A，镀膜30-40s，在在步骤(3)光学反射层的表面形成120_150nm厚金属铜层。本发明的有益效果本发明由于在玻璃与银反射层之间制备了一层光学过渡层，起到了光学增透的作用，使得该结构反射镜较银层与玻璃直接接触膜系反射镜的反光率有明显提高，从93%提高到97% ;由于镀银技术采用了真空磁控溅射的方法，在提高膜层附着力，保证膜层性能的同时，消除了制镜过程中的化学污染；常规湿法镀银制镜工艺，在镀完反射层银之后，会在银层之上镀一层铜层，起到保护银层及增强银与油漆附着力的作用。由于铜是重金属元素，在银镜的生产和使用过程中铜的废弃物会对环境产生一定的污染。在该结构中，采用了真空镀铝或铜的方法制备了反射补偿及金属过渡层，在降低银消耗降低成本的同时，消除了传统镀银制镜过程中的化学镀铜造成的环境污染。
图I是本发明的太阳能反射镜结构示意图。图中1 :玻璃；2、光学过渡层；3、金属反射层；4、反射补偿及金属过渡层；5、保护层。
具体实施例方式以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。实施例I :见图1，一种太阳能反射镜，包括有在玻璃基板I上设有金属反射层3，在玻璃基板I与金属反射层3之间设有光学过渡层2，在金属反射层3上设有反射补偿金属过渡层4 ;在反射补偿金属过渡层4上设有保护层5。所述的光学过渡层2的材料为Si3N4,厚度为IOnm ;所述的金属反射层3的材料为银，SOnm ;所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝120nm。保护层5为油漆。上述太阳能反射镜的制备方法，其步骤为( I)玻璃基板等离子清洗将待镀玻璃基板放入真空室体。预抽真空，当室体真空度为10_4Pa后开始向真空室体通过质量流量计精确充如惰性气体，氮气且将室内压强维持在4 5Pa ;开启轰击电源，在真空室体内的一对轰击极板间加50(T2500V电压，电流为O. 5^3. 5Α电流，产生稳定的辉光，产生辉光等离子流；在稳定的辉光放电的条件下清洗30(T500s ；(2) Si3N4光学过渡层制备；将高纯硅作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室体充入氩气和氮气的混合气体为500sccm 360sccm,当真空度达到O. 5、Pa时,启动磁控派射电源开始磁控溅射镀膜，电压400V，电流50A，镀膜3min，在玻璃基板表面形成IOnm厚的Si3N4薄膜；(3)金属银反射层制备将纯银作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流20A，镀膜30s，在玻璃基板表面形成80nm厚银反射层；
(4)铝反射补偿金属过渡层制备将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流40A，镀膜30s，在玻璃基板表面形成120nm厚金属铝层。(5)喷淋50um厚保护油漆。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为96. 8%。实施例2 :见图1，一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Al2O3，厚度为10nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚
度 为80nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝120nm。保护层5为油漆。上述太阳能反射镜的制备方法，其步骤为( I)玻璃基板等离子清洗将待镀玻璃基板放入真空室体。预抽真空，当室体真空度为KT4Pa后开始向真空室体通过质量流量计精确充如惰性气体，如氮气或氩气且将将室内压强维持在4 5Pa ;开启轰击电源，在真空室体内的一对轰击极板间加50(T2500V电压，电流为O. 5^3. 5Α电流，产生稳定的辉光，产生辉光等离子流；在稳定的辉光放电的条件下清洗30(T500s ；(2) Al2O3光学过渡层制备；将高纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室体充入氩气和氧气的混合气体480sccm 360sccm,当真空度达到O. 5、Pa时,启动磁控派射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流30A，镀膜3min，在玻璃基板表面形成IOnm厚的Al2O3薄膜。(3)金属银反射层制备将纯银作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流20A，镀膜30s，在玻璃基板表面形成80nm厚银反射层。(4)铝反射补偿过渡层制备将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流40A，镀膜30s，在玻璃基板表面形成120nm厚金属铝层。(5)喷淋50um厚保护油漆。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为97. 2%。实施例3 :见图I, 一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是TixOy，厚度为10nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚
度为80nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝120nm。保护层5为油漆。上述太阳能反射镜的制备方法，其步骤为( I)玻璃基板等离子清洗将待镀玻璃基板放入真空室体。预抽真空，当室体真空度为10_4Pa后开始向真空室体通过质量流量计精确充如惰性气体，如氮气或氩气且将将室内压强维持在4 5Pa ;开启轰击电源，在真空室体内的一对轰击极板间加50(T2500V电压，电流为O. 5^3. 5Α电流，产生稳定的辉光，产生辉光等离子流；在稳定的辉光放电的条件下清洗30(T500s ；(2) TixOy光学过渡层制备；将高纯钛作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气和氧气的混合气体，当真空度达到O. 5飞Pa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压380V，电流10A，镀膜4min，在玻璃基板表面形成IOnm厚的TixOy薄膜。(3)金属银反射层制备将纯银作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流20A，镀膜30s，在玻璃基板表面形成80nm厚银反射层。(4)铝反射补偿(金属过渡层)层制备
将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流40A，镀膜30s，在玻璃基板表面形成120nm厚金属铝层。(5)喷淋60um厚保护油漆。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为97. 8%。实施例4 :见图1，一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是TixOy，厚度为30nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为80nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝120nm。保护层5为油漆。其制备方法的步骤(2)为TixOy光学过渡层的制备将高纯钛作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT4Pa后，向真空室体充入氩气和氧气的混合气体260sccm 550sccm,当真空度达到O. 5、Pa时,启动磁控派射电源开始磁控溅射镀膜，电压390V，电流12A，镀膜lOmin，在玻璃基板表面形成30nm厚的TixOy薄膜。所述太阳能反射镜中，其余制备方法的步骤同实施例3。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为96. 8%。实施例5:见图I, 一种太阳能反射镜,其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Al2O3，厚度为25nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为lOOnm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝lOOnm。保护层5为油漆。所述太阳能反射镜中，制备方法步骤(I)同实施例2。步骤(2)为Al2O3光学过渡层的制备将高纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室体充入氩气和氧气的混合气体550sccm 380sccm,当真空度达到O. 5、Pa时,启动磁控派射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流32A，镀膜8min，在玻璃基板表面形成25nm厚的Al2O3薄膜。所述太阳能反射镜中，其余制备方法的步骤同实施例2。经检测，反射镜在400-2500nm范围内的反射率为97. 2%。实施例6:见图I, 一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Si3N4，厚度为25nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为120nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝120nm。保护层5为油漆。
所述太阳能反射镜中，银反射层通过真空磁控溅射方法制备。(2)在真空环境下Si3N4光学过渡层的制备；将高纯硅作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室体充入氩气和氮气的混合气体为520sccm 380sccm,当真空度达到O. 5^5Pa时,启动磁控派射电源开始磁控溅射镀膜，电压380V-420V，电流55A，镀膜lOmin，在玻璃基板表面形成30nm厚的Si3N4薄膜；(3)金属银反射层制备 将纯银作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压500V，电流22A，镀膜40s，在玻璃基板表面形成IOOnm厚银反射层。(4)铝反射补偿过渡层制备将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流42A，镀膜40s，在玻璃基板表面形成120nm厚金属铝层。(5)喷淋60um厚保护油漆。经检测，反射镜在400-2500nm范围内的反射率为97. 8%。实施例7:见图I, 一种太阳能反射镜,其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Si3N4，厚度为15nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为150nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝150nm。保护层5为油漆。所述太阳能反射镜中，银反射层通过真空磁控溅射方法制备。经检测，反射镜在400-2500nm范围内的反射率为97. 8%。实施例8:见图I, 一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Al2O3，厚度为30nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为150nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝150nm。保护层5为油漆。所述太阳能反射镜中，银反射层通过真空磁控溅射方法制备。经检测，反射镜在400-2500nm范围内的反射率为98. 4%。实施例9:见图I, 一种太阳能反射镜,其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是TixOy，厚度为30nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为150nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝150nm。保护层5为油漆。经检测，反射镜在400-2500nm范围内的反射率为98. 2%。实施例10:见图I, 一种太阳能反射镜,其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是TixOy，厚度为25nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为80nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝120nm。保护层5为油漆。步骤(4)为反射补偿金属过渡层通过真空蒸发制备以高纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_2Pa后，启动蒸发镀铝电源开始蒸发镀膜，电压8A，电流2450，在在步骤(3)光学反射层的表面形成120nm nm厚金属铝层。经检测，反射镜在400-2500nm范围内的反射率为97. 5%。实施例11:见图I，一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。
所述的光学过渡层2是Si3N4，厚度为25nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为80nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝150nm。保护层5为油漆。步骤(4)为反射补偿金属过渡层通过真空蒸发制备以高纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2 X KT2Pa后，启动蒸发镀铝电源开始蒸发镀膜，电压12A，电流2550A，在在步骤(3)光学反射层的表面形成150nm厚金属铝层。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为97. 5%。实施例12:见图I，一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Al2O3，厚度为10nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为150nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝150nm。保护层5为油漆。 所述太阳能反射镜中，银反射层通过真空磁控溅射方法制备。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为98. 6%。实施例13:见图I，一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是TixOy，厚度为10nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为150nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝150nm。保护层5为油漆。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为98. 2%。实施例14:见图I，一种太阳能反射镜，其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Al2O3，厚度为25nm。所述的金属反射层3的材料为铝，厚度为120nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铝lOOnm。保护层5为油漆。所述太阳能反射镜中，银反射层通过真空磁控溅射方法制备。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为93. 2%。实施例15:见图I, 一种太阳能反射镜,其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Al2O3，厚度为10nm。所述的金属反射层3的材料为铝，厚度为120nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铜150nm。保护层5为油漆。所述太阳能反射镜中，制备方法步骤(I)和(2)同实施例2.步骤(3)为铝光学反射层的磁控溅射制备将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. I IPa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压480V，电流40A，镀膜30-40s，在在步骤(2)光学过渡层的表面形成120nm厚金属铝层。步骤(4)铜反射补偿金属过渡层通过磁控溅射制备将纯铜作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. ΓΙΡβ时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流18A-22A，镀膜30-40s，在在步骤(3)光学反射层的表面形成120_150nm厚金属铜层。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为95. 6%。实施例16:见图I, 一种太阳能反射镜,其结构与实施例I相同。所述的光学过渡层2是Si3N4，厚度为10nm。所述的金属反射层3的材料为银，厚度为150nm。所述的反射补偿金属过渡层4的材料为铜150nm。保护层5为油漆。所述太阳能反射镜中，银反射层通过真空磁控溅射方法制备。
步骤(4)铜反射补偿金属过渡层通过磁控溅射制备将纯铜作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到O. I IPa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流18A-22A，镀膜30-40s，在在步骤(3)光学反射层的表面形成120_150nm厚金属铜层。经检测，反射镜在400_2500nm范围内的反射率为98. 6%。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种太阳能反射镜，包括有在玻璃基板上设有金属反射层，其特征在于在玻璃基板与金属反射层之间设有光学过渡层，在金属反射层上设有反射补偿金属过渡层；在反射补偿金属过渡层上设有保护层。
2.如权利要求I所述的太阳能反射镜，其特征在于所述的光学过渡层的材料为Si3N4或Al2O3 或 Tix0y。
3.如权利要求I所述的太阳能反射镜，其特征在于所述的金属反射层的材料为银或招。
4.如权利要求I所述的太阳能反射镜，其特征在于所述的反射补偿金属过渡层的材料为铝或铜；其厚度为120-150nm。
5.如权利要求2所述的太阳能反射镜，其特征在于所述的光学过渡层是Si3N4或Al2O3或TixOy的厚度为5-30nm。
6.如权利要求3所述的太阳能反射镜，其特征在于所述的金属反射层的厚度为80_150nm。
7.一种太阳能反射镜的制备方法，其特征在于步骤为 (1)在真空环境下对玻璃基板镀膜面进行等离子清洗将待镀玻璃基板放入真空室体，预抽真空，当室体真空度为KT4Pa后开始向真空室体通过质量流量计精确充如惰性气体，氮气或IS气且将室内压强维持在4 5Pa ;开启轰击电源,在真空室体内的一对轰击极板间加50(T2500V电压，电流为0. 5^3. 5A电流，产生稳定的辉光，产生辉光等离子流；在稳定的辉光放电的条件下清洗30(T500s ； (2)在真空环境下Si3N4光学过渡层的制备； 将高纯硅作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT4Pa后，向真空室体充入氩气和氮气的混合气体为450-520sccm 340-380sccm,当真空度达到0. 5 5Pa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压380V-420V，电流45A-55A，镀膜2_10min，在玻璃基板表面形成5-30nm厚的Si3N4薄膜； (3)在真空环境下金属银反射层制备 将纯银作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到0. riPa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流18A-22A，镀膜3(T60s，在步骤(2)光学过渡层的表面形成8(Tl50nm厚银反射层； (4)铝反射补偿金属过渡层制备 将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到0. I^lPa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流38A-42A，镀膜30-40s，在金属银反射层表面形成120_150nm厚金属铝层； (5)喷淋5(T60um厚保护油漆。
8.如权利要求7所述的太阳能反射镜的制备方法，其特征在于还包括有步骤(2)为Al2O3光学过渡层的制备 将高纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT4Pa后，向真空室体充入氩气和氧气的混合气体450-550sccm 340-380sccm,当真空度达到0. 5飞Pa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流26A-34A，镀膜2_10min，在玻璃基板表面形成5-30nm厚的Al2O3薄膜。
9.如权利要求7所述的太阳能反射镜的制备方法，其特征在于还包括有步骤(2)为TixOy光学过渡层的制备 将高纯钛作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT4Pa后，向真空室体充入氩气和氧气的混合气体220-260sccm 450-550sccm,当真空度达到0. 5 5Pa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压370V-390V，电流8A-12A，镀膜2_10min，在玻璃基板表面形成5-30nm厚的TixOy薄膜。
10.如权利要求7所述的太阳能反射镜的制备方法，其特征在于还包括有步骤(3)为铝光学反射层的磁控派射制备 将纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到0. I^lPa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流38A-42A，镀膜30-40s，在在步骤(2)光学过渡层的表面形成120_150nm厚金属铝层。
11.如权利要求7所述的太阳能反射镜的制备方法，其特征在于还包括有步骤(4)为反射补偿金属过渡层通过真空蒸发制备 以高纯铝作为靶材，当真空室体内真空度抽到2 X KT2Pa后，启动蒸发镀铝电源开始蒸发镀膜，电压8A-12A，电流2450A-2550A，在在步骤(3)光学反射层的表面形成120nm-150nm厚金属招层。
12.如权利要求7所述的太阳能反射镜的制备方法，其特征在于还包括有步骤(4)铜反射补偿金属过渡层通过磁控溅射制备 将纯铜作为靶材，当真空室体内真空度抽到2X KT4Pa后，向真空室体充入氩气，当真空度达到0. I^lPa时，启动磁控溅射电源开始磁控溅射镀膜，电压460V-500V，电流18A-22A，镀膜30-40s，在在步骤(3)光学反射层的表面形成120_150nm厚金属铜层。
全文摘要
本发明涉及一种太阳能聚光集热技术领域，特别涉及太阳能聚光器用反射镜及其制备方法。一种太阳能反射镜，包括有在玻璃基板上设有金属反射层，其主要特点在于在玻璃基板与金属反射层之间设有光学过渡层，在金属反射层上设有反射补偿金属过渡层；在反射补偿金属过渡层上设有保护层。本发明由于在玻璃与银反射层之间制备了一层光学过渡层，起到了光学增透的作用，使得该结构反射镜较银层与玻璃直接接触膜系反射镜的反光率有明显提高，从93%提高到97%。
文档编号G02B1/10GK102809769SQ201210288980
公开日2012年12月5日 申请日期2012年8月12日 优先权日2012年8月12日
发明者范多旺, 王成龙, 范多进, 苗树翻 申请人:兰州大成科技股份有限公司, 兰州大成真空科技有限公司, 常州大成绿色镀膜科技有限公司