专利名称：一种激光干涉光刻系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种激光干涉光刻系统，特别涉及一种用于大面积光栅制造的激光干涉光刻系统。
背景技术：
激光干涉光刻技术是一种利用两束或者多束激光干涉产生的周期性图形曝光感光基底制造微纳阵列器件的重要技术，主要应用于特征尺寸低于亚波长的孔阵、点阵、柱阵、光栅、微透镜阵列等器件的制造，这些微阵列器件在国防、民生、科研等领域具有广泛应用。近年来，随着大型天文望远镜、惯性约束核聚变激光点火系统、光刻系统等重大工程系统中的关键光栅器件对尺寸、栅线密度、精度要求的不断提高，光栅制造正在向米级尺寸、纳米级精度、亚万级栅线密度的量级迈进，大面积高精度密栅线光栅的制造成为了光栅制造领域的亟需解决的热点问题。传统光栅制造技术主要包括机械刻划、激光直写、机械拼接等，机械刻划存在大面积制造精度低、加工周期长、制造的光栅存在鬼线等缺点，激光直写也存在大面积制造精度低、加工周期长等缺点，机械拼接则存在拼接精度差、拼接过程复杂、成本昂贵等缺点，因此传统制造技术难以实现上述量级光栅的制造。激光干涉光刻技术或全息光刻技术则在上述量级光栅制造方面具有大面积制造栅线密精度高、加工周期短等优势，因此激光干涉光刻技术逐步成为大面积高精度光栅制造技术的主流技术。适用于大面积高精度光栅制造的干涉光刻技术的难点在于干涉光刻系统的研发，而高精度干涉光刻系统具有很大的研发难度。针对高精度干涉光刻系统的研发，世界上著名的光栅制造系统公司及研究机构展开了一系列的研究，研究主要集中于高精度干涉光刻系统，研究成果在诸多专利中均有揭露。麻省理工学院美国专利US5，142，385公开了一种激光干涉光刻系统，该光刻系统利用两束空间滤波器出射的大尺寸光束形成大面积干涉图形曝光基底实现大面积光栅制作，该系统中干涉图形具有较大的图形非线性误差；同时，为防止系统干涉图形相位漂移引起误差，该光刻系统列举了一种图形相位锁定装置用于光栅图形锁定，该装置通过采样干涉光束至两个光电探测器及处理电路实现图形相位检测，检测的相位反馈至控制器控制相位调制器调制相位实现图形锁定；然而该装置中的相位测量易受干扰、精度低，加之电光相位调制器的相位调制速度慢、调节精度低、调制范围窄，该装置难以满足高精度条纹锁定要求。麻省理工学院在另一美国专利US6，882，477B1中公开了一种扫描激光干涉光刻系统，该光刻系统利用两束经准直后的小尺寸光束干涉形成干涉图形曝光作步进扫描运动的基底实现大面积光栅制作，经准直后的小尺寸光束干涉有效的消除了干涉图形的相位非线性误差；同时，为防止系统干涉图形相对于运动的基底平台发生相位漂移引起误差，该光刻系统列举了一种基于外差测量原理的图形锁定装置，该装置通过在干涉光路中布置三个声光调制器产生外差相位测量的频差，利用光束采样器采样干涉光束至外差相位计进行图形相位检测，检测的相位反馈至控制器控制声光调制器调制相位实现图形锁定；该装置具有高速、高精等图形相位锁定优点特点，但图形锁定装置使扫描干涉光刻系统过于复杂，大大增加了系统的装调难度，同时声光调制器通过移频进行相位调制易引起光刻系统干涉角度的变化且影响干涉光束的相干性而影响光刻系统性能。中国科学院光电技术研究所在公开号CN1731283A、CN1690857A、CN1752847A等中国专利中公开了多种激光干涉光刻系统，但干涉光刻系统中均不存在干涉图形相位锁定装置，这使得公开的干涉光刻系统难以实现高精度光栅的制作。中国科学院长春光学精密机械与物理研究所在公开号CN1544994A、CN101718884A、CN101793988A等中国专利中公开了仅公开了全息光刻系统的光路调整及栅线密度调整方法，未发现对干涉系统及图形锁定相关论述。苏州苏大维格光电科技股份有限公司在公开号CN101846890中国专利中公开了一种并行式干涉光刻系统，光刻系统利用光栅分光和透镜合光，但干涉光刻系统中也不存在干涉图形相位锁定装置，因此该激光干涉光刻系统也难以实现大面积高精度光栅的制作。考虑到上述技术方案的局限，寻求一种激光干涉光刻系统，该光刻系统具有一种基于零差相位测量的图形相位锁定装置，该装置可极大的抑制零差相位测量扰动，实现高速、高精相位测量及光束相位调制，同时采用该装置的干涉光刻系统结构形式简洁且相位调制不影响光刻系统性能，最终实现干涉光刻系统整体性能的提升。
发明内容
本发明的目的是提供一种激光干涉光刻系统，该干涉光刻系统能够实现很高的干涉图形锁定精度，结构形式简洁、易于装调。本发明的技术方案如下:—种激光干涉光刻系统，包括激光器、反射镜、分束器、基底台和基底；激光器I出射的激光经反射镜、分束器后分为两束干涉光束，两束干涉光束经反射镜在基底台承载的基底上实现合光干涉，干涉图形通过基底曝光实现图形记录转移；其特征在于:所述系统还包括一个图形锁定系统，该图形锁定系统包括两个光束采样器、零差相位计、电子信号处理部件、控制器、驱动器和相位调制执行器；所述的两个光束采样器分别位于靠近基底处的两束干涉光路上，两个光束采样器分别采取两束干涉光路上的一部分光，其中一束为参考光，另一束为测量光，参考光与测量光分别从两个入口入射至零差相位计中，光信号经零差相位计处理后，输出包含干涉条纹相位信息的电信号，电信号经电子信号处理部件后输入至控制器，控制器输出控制信号至驱动器，驱动器驱动相位调制执行器；当干涉光刻系统的图形发生漂移时，利用该图形锁定系统控制图形漂移实现图形锁定。本发明的技术特征还在于:所述基底台相对于干涉图形运动，由设置在基底台上的位移测量装置检测基底台的运动位移并反馈至控制器，控制器对零差相位计与位移测量装置的反馈信息进行处理，同时控制相位调制执行器和基底台实现干涉图形相对于运动的基底台锁定。本发明所述的测量光和参考光在零差相位计中传播光路有以下几种方案:第一种:本发明所述的测量光和参考光分别从零差相位计的两个入口入射，传播光路为:测量光经第一四分之一波片、分光镜后一束透射，另一束反射；参考光经第二四分之一波片、第一分光镜后一束透射，另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一偏振分光镜后，透射的P光入射至第一光电探测器，反射的S光入射至第二光电探测器；第二束合光经半波片、第二偏振分光镜后，透射的P光入射至第三光电探测器，反射的s光入射至第四光电探测器；经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件。第二种:本发明所述的测量光和参考光分别从零差相位计的两个入口入射，传播光路为:测量光经分光镜后一束透射，另一束反射；参考光经分光镜后一束透射，另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一四分之一波片、第一偏振分光镜后，透射的P光入射至第一光电探测器，反射的S光入射至第二光电探测器；第二束合光经第二四分之一波片、第三四分之一波片、第二偏振分光镜后,透射的P光入射至第三光电探测器，反射的S光入射至第四光电探测器；经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件。第三种:本发明所述的测量光和参考光分别从零差相位计的两个入口入射，传播光路为:测量光经第一半波片、分光镜后一束透射，另一束反射；参考光经第二半波片、分光镜后一束透射，另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一偏振分光镜后，透射的P光入射至第一光电探测器，反射的S光入射至第二光电探测器；第二束合光经四分之一波片、第二偏振分光镜后，透射的P光入射至第三光电探测器，反射的s光入射至第四光电探测器；经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件。第四种:本发明所述的测量光和参考光分别从零差相位计的两个入口入射，传播光路为:测量光经第一四分之一波片、分光镜后一束透射、另一束反射；参考光经第二四分之一波片、分光镜后一束透射、另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一沃拉斯顿棱镜后分为两束，分别入射至第一光电探测器和第二光电探测器；第二束合光经第二沃拉斯顿棱镜后分为两束，分别入射至第三光电探测器和第四光电探测器；经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单元。第五种:本发明所述的测量光和参考光分别从零差相位计的两个入口入射，传播光路为:测量光经分光镜后一束透射、另一束反射；参考光经分光镜后一束透射、另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经检偏器至第一光电探测器；第二束合光经四分之一波片、偏振分光镜后，透射的P光入射至第二光电探测器，反射的s光入射至第三光电探测器；经三个光电探测器转换后形成三路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单
J Li ο第六种:本发明所述的测量光和参考光分别从零差相位计的两个入口入射，传播光路为:测量光偏振分光镜后透射，参考光经偏振分光镜后反射，实现测量光、参考光合光；合光束经四分之一波片、第一分光镜后分为两束，其中一束经第一检偏器后入射至第一光电探测器，另一束经第二分光镜后，一束透射，一束反射，其中反射光经第二检偏器后入射至第二光电探测器，透射光经反射棱镜、第三检偏器后入射至第三光电探测器；经三个光电探测器转换后形成三路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单元。本发明所述的相位调制执行器采用电光调制器、微电机驱动反射镜座或光栅相位调制器。本发明所述的光栅相位调制器采用圆形光栅相位调制器，所述的圆形光栅相位调制器包括圆形基板、环形光栅、旋转电机和光栅定位器；环形光栅沿圆周方向安装于圆形基板上，且至少安装一条环形光栅；旋转电机的输出轴与圆形基板相连接，光栅定位器安装于圆形基板上。本发明所述的光栅相位调制器采用矩形光栅相位调制器，所述的矩形光栅相位调制器包括矩形基板、矩形光栅、直线电机和光栅定位器；矩形光栅沿长度方向安装于矩形基板上，且至少安装一条矩形光栅；直线电机的动子或定子与矩形基板相连接，光栅定位器安装于矩形基板上。本发明所提供的一种激光干涉光刻系统具有以下优点及突出性效果:具有很高的图形锁定精度及图形锁定速度，能够有效地抑制光刻阶段图形相位漂移引起的制造误差；能够实现光刻图形闻速、闻精的锁定于闻速运动的基底台上；同时，系统具有很好的图形质量、结构形式简洁、易于装调，是实现大面积、高精度、密栅线光栅制造的优良系统。
图1为本发明第一种激光干涉光刻系统示意图。图2为本发明第二种激光干涉光刻系统示意图。图3为本发明的零差相位计的第一种传播光路示意图。图4为本发明的零差相位计的第二种传播光路示意图。图5为本发明的零差相位计的第三种传播光路示意图。图6为本发明的零差相位计的第四种传播光路示意图。图7为本发明的零差相位计的第五种传播光路示意图。图8为本发明的零差相位计的第六种传播光路示意图。图9为本发明第一种圆形光栅相位调制器实施例示意图。图10为本发明第二种圆形光栅相位调制器实施例示意图。图11为本发明第一种矩形光栅相位调制器实施例示意图。图12为本发明第二种矩形光栅相位调制器实施例示意图。图中:1_激光器；2_分束器；3_基底台；31_位移测量装置；4-基底；5_光束采样器；6—零差相位计；61—分光镜；61a—第一分光镜；61b—第二分光镜；62—四分之一波片；62a—第一四分之一波片；62b—第二四分之一波片；63—偏振分光镜；63a—第一偏振分光镜；63b—第二偏振分光镜；64—半波片；64a—第一半波片；64b—第二半波片；65a—第一光电探测器；65b—第二光电探测器；65c—第三光电探测器；65d—第四光电探测器；66a—第一沃拉斯顿棱镜；66b—第二沃拉斯顿棱镜；67—检偏器；67a—第一检偏器；67b—第二检偏器；67c—第二检偏器；68 —反射棱镜；7 —电子/[目号处理部件；8—控制器；9一驱动器；10—相位调制执行器；11 一光栅相位调制器；111 一光栅定位器；12—圆形光栅相位调制器；121—圆形基板；122—环形光栅；123—旋转电机；13—矩形光栅相位调制器；131-矩形基板；132—矩形光栅；133—直线电机。
具体实施例方式下面结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。请参考图1，图1为本发明第一种激光干涉光刻系统示意图。如图1所示，该干涉光刻系统由激光器1、反射镜、分束器2、基底台3、基底4组成；激光器I出射的激光经反射镜、分束器2后分为两束干涉光束，两束干涉光束经反射镜在基底台3承载的基底4上实现合光干涉，干涉图形通过基底曝光实现图形记录转移；激光干涉光刻系统还包括一个图形锁定系统，该图形锁定系统包括两个光束采样器5、零差相位计6、电子信号处理部件7、控制器8、驱动器9和相位调制执行器10 ;所述的两个光束采样器5分别位于靠近基底处的两束干涉光路上，两个光束采样器5分别采取两束干涉光路上的一部分光，其中一束为参考光，另一束为测量光，参考光与测量光分别从两个入口入射至零差相位计6中，光信号经零差相位计6处理后，输出包含干涉条纹相位信息的电信号，电信号经电子信号处理部件7后输入至控制器8，控制器8输出控制信号至驱动器9，驱动器9驱动相位调制执行器10 ;当干涉光刻系统的图形发生漂移时，利用该图形锁定系统控制图形漂移实现图形锁定。请参考图2，图2为本发明第二种干涉光刻系统示意图。如图2所示，干涉光刻系统的基底台3相对于干涉图形运动，一般为步进扫描式运动；基底台3的运动位移由位移测量装置31反馈至控制器9中，控制器9处理零差相位计6与位移测量装置31的反馈信息，同时控制相位调制执行器10和基底台4实现干涉图形相对于运动基底台3的锁定，该干涉光刻系统能通过扫描曝光基底实现大面积高精度光栅的制造。请参考图3，图3为本发明的零差相位计的第一种传播光路示意图。如图3所示，所述的测量光和参考光分别从零差相位计6的两个入口入射，传播光路为:测量光经第一四分之一波片62a、分光镜61后一束透射,另一束反射；参考光经第二四分之一波片62b、第一分光镜61后一束透射,另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一偏振分光镜63a后，透射的P光入射至第一光电探测器65a,反射的s光入射至第二光电探测器65b ;第二束合光经半波片64、第二偏振分光镜63b后,透射的P光入射至第三光电探测器65c,反射的s光入射至第四光电探测器65d ;经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件7。该零差相位计采用四路正交信号获取相位信息，能够抑制直流漂移带来的测量扰动，提高相位测量精度，从而提高图形锁定精度。请参考图4，图4为本发明的零差相位计的第二种传播光路示意图。如图4所示，测量光和参考光分别从零差相位计6的两个入口入射，传播光路为:测量光经分光镜61后一束透射，另一束反射；参考光经分光镜61后一束透射,另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一四分之一波片62a、第一偏振分光镜63a后,透射的p光入射至第一光电探测器65a,反射的s光入射至第二光电探测器65b ;第二束合光经第二四分之一波片62b、第三四分之一波片62c、第二偏振分光镜63b后,透射的P光入射至第三光电探测器65c,反射的s光入射至第四光电探测器65d ;经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件7。该零差相位计与图3中的具有相同效果，不同的是结构布置形式。请参考图5，图5为本发明的零差相位计的第三种传播光路示意图。如图5所示，测量光和参考光分别从零差相位计6的两个入口入射，传播光路为:测量光经第一半波片64a、分光镜61后一束透射,另一束反射；参考光经第二半波片64b、分光镜61后一束透射，另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一偏振分光镜63a后,透射的P光入射至第一光电探测器65a,反射的s光入射至第二光电探测器65b ;第二束合光经四分之一波片62、第二偏振分光镜63b后,透射的P光入射至第三光电探测器65c,反射的s光入射至第四光电探测器65d;经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件7。该零差相位计与图3、4中的具有相同效果，但采用了不同的偏振器件和光学结构布置形式。请参考图6，图6为本发明的零差相位计的第四种传播光路示意图。如图6所示，所述的测量光和参考光分别从零差相位计6的两个入口入射，传播光路为:测量光经第一四分之一波片62a、分光镜61后一束透射、另一束反射；参考光经第二四分之一波片62b、分光镜61后一束透射、另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一沃拉斯顿棱镜66a后分为两束，分别入射至第一光电探测器65a和第二光电探测器65b ;第二束合光经第二沃拉斯顿棱镜66b后分为两束，分别入射至第三光电探测器65c和第四光电探测器65d ;经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单元7。该零差相位计与图3、4、5中的具有相同效果，但由于采用了沃拉斯顿棱镜而使光学结构较为简洁。请参考图7，图7为本发明的零差相位计的第五种传播光路示意图。如图7所示，测量光和参考光分别从零差相位计6的两个入口入射，传播光路为:测量光经分光镜61后一束透射、另一束反射；参考光经分光镜61后一束透射、另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经检偏器67至第一光电探测器65a ;第二束合光经四分之一波片62、偏振分光镜63后，透射的P光入射至第二光电探测器65b，反射的s光入射至第三光电探测器65c ;经三个光电探测器转换后形成三路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单元7。该零差相位计采用三路正交信号获取相位信息，同样能够抑制直流漂移带来的测量扰动，提高相位测量精度，与四路正交信号不同的是需特殊设计三路正交信号的电子信号处理部件，三路测量结构虽简化了光学结构，但结构不对称性将引入测量误差。请参考图8，图8为本发明的零差相位计的第六种传播光路示意图。如图8所示，测量光和参考光分别从零差相位计6的两个入口入射，传播光路为:测量光偏振分光镜63后透射，参考光经偏振分光镜63后反射,实现测量光、参考光合光；合光束经四分之一波片62、第一分光镜6 Ia后分为两束,其中一束经第一检偏器67a后入射至第一光电探测器65a,另一束经第二分光镜61b后,一束透射,一束反射,其中反射光经第二检偏器67b后入射至第二光电探测器65b,透射光经反射棱镜68、第三检偏器67c后入射至第三光电探测器65c ；经三个光电探测器转换后形成三路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单元7。该零差相位计同为三路结构，可获取较高的测量精度，与图7中的不同之处采用了不同的光学元件及光学布置结构，结构上更为对称。请参考图9，图9为本发明第一种圆形光栅相位调制器实施例示意图。如图9所示，光栅相位调制器11采用圆形光栅相位调制器12，圆形光栅相位调制器12包括圆形基板121、环形光栅122、旋转电机123和光栅定位器111 ;环形光栅122沿圆周方向安装于圆形基板121上，该实施例中仅安装一条环形光栅122 (为清晰表示环形光栅，图9中将环形光栅栅距放大)；旋转电机123的输出轴与圆形基板121相连接，光栅定位器111安装于圆形基板121上，可沿圆形基板121的径向定位光束的入射位置。当光束入射至环形光栅122上时，发生衍射(通常选用I级或-1级闪耀衍射)，环形光栅122转动时，衍射光发生移频而实现相位调制。请参考图10，图10为本发明第二种圆形光栅移相器实施例示意图，环形光栅122沿径向具有三条光栅(为清晰表示环形光栅，图10中将环形光栅栅距放大)，光栅定位器111移动圆形基板121使光束入射至不同的光栅环带上，能够实现不同的调制速度。请参考图11，图11为本发明第一种矩形光栅相位调制器实施例示意图。如图11所示，光栅相位调制器11采用矩形光栅相位调制器13，矩形光栅相位调制器13包括矩形基板131、矩形光栅132、直线电机133和光栅定位器111 ;矩形光栅132沿长度方向安装于矩形基板131上，该实施例中仅安装一条矩形光栅132(为清晰表示环形光栅，图11中将矩形光栅栅距放大)；直线电机133的动子或定子与矩形基板131相连接，光栅定位器111安装于矩形基板131上，可沿矩形基板131的宽度方向定位光束的入射位置。当光束入射至矩形光栅132上时，发生衍射(通常选用I级或-1级闪耀衍射)，矩形光栅132移动时，衍射光发生移频而实现相位调制。请参考图12，图12为本发明第二种矩形光栅相位调制器实施例示意图，矩形光栅132沿长度方向具有三条光栅(为清晰表示环形光栅，图12中将矩形光栅栅距放大)，光栅定位器111移动矩形基板131使光束入射至不同的光栅环带上，能够实现不同的调制速度。
权利要求
1.一种激光干涉光刻系统，包括激光器(I)、反射镜、分束器(2)、基底台(3)和基底(4);激光器(I)出射的激光经反射镜、分束器(2)后分为两束干渉光束，两束干渉光束经反射镜在基底台(3)承载的基底(4)上实现合光干渉，干涉图形通过基底曝光实现图形记录转移；其特征在于:所述系统还包括ー个图形锁定系统，该图形锁定系统包括两个光束采样器(5)、零差相位计(6)、电子信号处理部件(7)、控制器(8)、驱动器(9)和相位调制执行器(10);所述的两个光束采样器(5)分别位于靠近基底处的两束干渉光路上，两个光束采样器(5)分别米取两束干涉光路上的一部分光,其中一束为參考光，另一束为测量光，參考光与測量光分别从两个入口入射至零差相位计(6)中，光信号经零差相位计(6)处理后，输出包含干涉条纹相位信息的电信号，电信号经电子信号处理部件(7)后输入至控制器(8)，控制器(8)输出控制信号至驱动器(9)，驱动器(9)驱动相位调制执行器(10);当干渉光刻系统的图形发生漂移时，利用该图形锁定系统控制图形漂移实现图形锁定。
2.根据权利要求1所述的ー种激光干渉光刻系统，其特征在于:所述基底台(3)相对于干涉图形运动，由设置在基底台(3)上的位移測量装置(31)检测基底台(3)的运动位移并反馈至控制器(8 )，控制器(8 )对零差相位计(6 )与位移測量装置(31)的反馈信息进行处理，同时控制相位调制执行器(10)和基底台(3)实现干涉图形相对于运动的基底台(3)锁定。
3.根据权利要求1或2所述的ー种激光干渉光刻系统，其特征在于:所述的测量光和參考光分别从零差相位计(6)的两个入口入射，传播光路为:測量光经第一四分之一波片(62a)、分光镜(61)后一束透射，另一束反射；參考光经第二四分之一波片(62b)、第一分光镜(61)后一束透射,另一束反射；测量光的反射光和參考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和參考光的反射光形成 第二束合光；第一束合光经第一偏振分光镜(63a)后，透射的P光入射至第一光电探测器(65a),反射的s光入射至第二光电探测器(65b)；第二束合光经半波片(64)、第二偏振分光镜(63b)后,透射的p光入射至第三光电探测器(65c)，反射的s光入射至第四光电探测器(65d);经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件(7)。
4.根据权利要求1或2所述的ー种激光干渉光刻系统，其特征在于:所述的测量光和參考光分别从零差相位计(6)的两个入口入射，传播光路为:測量光经分光镜(61)后一束透射，另一束反射；參考光经分光镜(61)后一束透射,另一束反射；测量光的反射光和參考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和參考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一四分之一波片(62a)、第一偏振分光镜(63a)后,透射的p光入射至第一光电探測器(65a)，反射的s光入射至第二光电探测器(65b);第二束合光经第二四分之一波片(62b)、第三四分之一波片(62c)、第二偏振分光镜(63b)后,透射的p光入射至第三光电探测器(65c)，反射的s光入射至第四光电探测器(65d);经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件(7)。
5.根据权利要求1或2所述的ー种激光干渉光刻系统，其特征在于:所述的测量光和參考光分别从零差相位计(6)的两个入口入射，传播光路为:測量光经第一半波片(64a)、分光镜(61)后一束透射,另一束反射；參考光经第二半波片(64b)、分光镜(61)后一束透射，另一束反射；测量光的反射光和參考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和參考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一偏振分光镜(63a)后,透射的p光入射至第一光电探测器(65a)，反射的s光入射至第二光电探测器(65b);第二束合光经四分之一波片(62)、第二偏振分光镜(63b)后,透射的P光入射至第三光电探测器(65c),反射的s光入射至第四光电探测器(65d);经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理部件(7)。
6.根据权利要求1或2所述的一种激光干涉光刻系统，其特征在于:所述的测量光和参考光分别从零差相位计(6)的两个入口入射，传播光路为:测量光经第一四分之一波片(62a)、分光镜(61)后一束透射、另一束反射；参考光经第二四分之一波片(62b)、分光镜(61)后一束透射、另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光,测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经第一沃拉斯顿棱镜(66a)后分为两束，分别入射至第一光电探测器(65a)和第二光电探测器(65b);第二束合光经第二沃拉斯顿棱镜(66b)后分为两束，分别入射至第三光电探测器(65c)和第四光电探测器(65d);经四个光电探测器转换后形成四路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单元(7)。
7.根据权利要求1或2所述的一种激光干涉光刻系统，其特征在于:所述的测量光和参考光分别从零差相位计(6)的两个入口入射，传播光路为:测量光经分光镜(61)后一束透射、另一束反射；参考光经分光镜(61)后一束透射、另一束反射；测量光的反射光和参考光的透射光形成第一束合光，测量光的透射光和参考光的反射光形成第二束合光；第一束合光经检偏器(67)至第一光电探测器(65a);第二束合光经四分之一波片(62)、偏振分光镜(63)后，透射的P光入射至第二光电探测器(65b)，反射的s光入射至第三光电探测器(65c);经三个光电探测器转换后形成三路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单元(7)。
8.根据权利要求1或2所述的一种激光干涉光刻系统，其特征在于:所述的测量光和参考光分别从零差相位计(6)的两个入口入射，传播光路为:测量光偏振分光镜(63)后透射，参考光经偏振分光镜(63)后反射，实现测量光、参考光合光；合光束经四分之一波片(62)、第一分光镜(61a)后分为两束,其中一束经第一检偏器(67a)后入射至第一光电探测器(65a),另一束经第二分光镜(6Ib )后,一束透射,一束反射，其中反射光经第二检偏器(67b)后入射至第二光电探测器(65b)，透射光经反射棱镜(68)、第三检偏器(67c)后入射至第三光电探测器(65c);经三个光电探测器转换后形成三路相位相差90°的余弦电信号，输入至电子信号处理单元(7)。
9.根据权利要求1和2所述的一种激光干涉光刻系统，其特征在于:所述的相位调制执行器(10)采用电光调制器、微电机驱动反射镜座或光栅相位调制器(11)。
10.根据权利要求9所述的一种干涉光刻系统，其特征在于:所述的光栅相位调制器(11)采用圆形光栅相位调制器(12)，所述的圆形光栅相位调制器(12)包括圆形基板(121)、环形光栅(122)、旋转电机(123)和光栅定位器(111);环形光栅(122)沿圆周方向安装于圆形基板(121)上，且至少安装一条环形光栅(122);旋转电机(123)的输出轴与圆形基板(121)相连接，光栅定位器(111)安装于圆形基板(121)上。
11.根据权利要求9所述的一种干涉光刻系统，其特征在于:所述的光栅相位调制器(11)采用矩形光栅相位调制器(13)，所述的矩形光栅相位调制器(13)包括矩形基板(131)、矩形光栅(132)、直线电机(133)和光栅定位器(111);矩形光栅(132)沿长度方向安装于矩形基板(131)上，且至少安装一条矩形光栅(132);直线电机(133)的动子或定子与矩形基板(131)相连接，光 栅定位器(111)安装于矩形基板(131)上。
全文摘要
一种激光干涉光刻系统，用于大面积光栅制造的激光干涉光刻系统。该系统包括激光器、反射镜、分束器和基底台等。激光器出射的激光经反射镜、分束器后分为两束干涉光束，干涉光束经反射镜在基底台承载的基底上实现合光干涉，干涉图形通过曝光基底实现图形记录转移；为防止曝光期间图形漂移，该系统利用一种基于零差测量原理的图形锁定装置进行干涉图形相位锁定。该锁定装置包括零差相位计、电子信号处理部件、控制器、驱动器和相位调制执行器，零差相位计测量光栅图形漂移，经信号处理部件反馈至控制器，控制器经驱动器控制相位调制执行器实现相位锁定。本发明具有结构简洁、图形锁定精度高等优点，是实现大面积高精度光栅制造的关键系统。
文档编号G02B26/06GK103092003SQ20131001781
公开日2013年5月8日 申请日期2013年1月17日 优先权日2013年1月17日
发明者朱煜, 王磊杰, 张鸣, 刘召, 杨开明, 胡金春, 尹文生, 穆海华, 胡楚雄, 徐登峰, 成荣 申请人:清华大学