专利名称：彩膜基板及其制作方法、液晶面板及显示设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及显示技术领域，尤其是指一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板及显示设备。
背景技术：
随着TFT-1XD面板生产线的高世代化及面板的大尺寸化，各种不良发生的比例也有所加重，在面板修复和面板的不良分析中，像素的精确定位已成为一个显著的问题，特别是在使用扫描电镜，3D显微镜，原子力显微镜，红外光谱仪等进行分析时，在制样过程中均需要将面板进行切割。如何保证在切割前后不良区的精确定位已经成为了一个严重的问题，此外对于彩膜基板而言在某些仪器中无法进行颜色的辨别，所以更加不易确定所要研究的像素，如何解决此问题已经非常重要。传统面板定位方式主要是基于相对坐标的方法，也即:将面板置于基台上，通过坐标的变化记录不良的坐标，再进行修复和分析，但是该方法存在明显的不足，首先采用相对坐标时，离开仪器的基台之后，容易产生定位的紊乱，其次大尺寸基板在某些小基台的分析仪器上(SEM/3D 0M)，无法实现相对的坐标定位，再次通过相对坐标在基板不良区附近标记激光Mark (标记)时，可能会对不良区的不良现象产生影响。
发明内容
本发明技术方案的目的是提供一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板及显示设备，用于解决现有技术面板修复和分析过程中难以对像素精确定位的问题。为了达到上述目的，本发明采用的技术方案为:一种彩膜基板，包括衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的多个色阻单元，所述彩膜基板还包括用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。进一步的,所述标记结构包括行号标记,其中所述行号标记表示一个色阻单元所处的沿第一方向的行的行号，或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第一方向的相邻多行的共用行号。进一步的，所述标记结构还包括列号标记，其中所述列号标记用于表示一个色阻单元所处的沿第二方向的列的列号，或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第二方向的相邻多列的共用列号；所述第一方向和所述第二方向垂直。进一步的，所述标记结构设置在所述色阻单元的周边任意位置。进一步的，还包括隔垫物层，所述标记结构与所述隔垫物层同层形成。进一步的，所述像素为亚像素。进一步的，所述隔垫物层包括柱状隔垫物，所述柱状隔垫物与所述标记结构通过构图工艺共同形成在所述隔垫物层。进一步的，所述标记结构包括数字、字母中任一种或几种的组合。
进一步的，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述标记结构形成在所述黑矩阵对应的区域内。本发明还提供一种彩膜基板的制作方法，包括以下步骤:在衬底基板上形成包括色阻单元的图形；形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。进一步的，所述在衬底基板上形成包括色阻单元的图形，包括以下步骤:通过构图工艺，形成黑矩阵的图形；通过构图工艺，形成所述色阻单元的图形。进一步的，所述方法还包括:在形成有所述色阻单元和所述黑矩阵的衬底基板上，形成隔垫物层；所述形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构,包括:通过构图工艺，在形成所述隔垫物层的同时形成所述标记结构。本发明还提供一种液晶面板，包括上述的彩膜基板。本发明还提供一种显示设备，包括上述的液晶面板。本发明的有益效果是:本发明通过在彩膜基板的对色阻单元对应的像素进行标记，实现了像素的绝对坐标标记，无论是在那种仪器的基台，也无论基板的切割与否都能够快速准确的找到不良区，从而进行定址定位，能有效提高修复和分析的效率及准确性。
图1表示本发明彩膜基板的俯视图；图2表示本发明彩膜基板的A-A向剖视图；图3表示本发明彩膜基板的B-B向剖视图；图4表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第一步骤制备的俯视图；图5表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第一步骤制备的A-A向剖视图；图6表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第一步骤制备的B-B向剖视图；图7表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第二步骤制备的A-A向剖视图；图8表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第二步骤制备的B-B向剖视图；图9表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第三步骤制备的A-A向剖视图；图10表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第三步骤制备的B-B向剖视图；图11表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第四步骤制备的A-A向剖视图；图12表示本发明彩膜基板上制作标记结构的第四步骤制备的B-B向剖视图。
具体实施例方式以下结合附图对本发明的结构和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本发明，并非以此限定本发明的保护范围。如图1所示，本发明具体实施例提供一种彩膜基板，包括衬底基板，以及设置在衬底基板上的多个色阻单元，所述彩膜基板还包括用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。通过在彩膜基板的色阻单元对应的像素(需要进行标记的像素)周边进行坐标标记的标记结构，实现了像素的绝对坐标标记，无论是在那种仪器的基台，也无论基板的切割与否都能够快速准确的找到不良区，从而进行定址定位，能有效提高修复和分析的效率及准确性。 本实施例中，所述像素可以为由单个色阻单元组成的亚像素，也可以是由多个色阻单元组合形成的组合像素，本实施例中优选为亚像素。所述标记结构包括行号标记，其中所述行号标记表示一个色阻单元所处的沿第一方向的行的行号，或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第一方向的相邻多行的共用行号。所述标记结构还包括列号标记，其中所述列号标记用于表示一个色阻单元所处的沿第二方向的列的列号，或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第二方向的相邻多列的共用列号；优选地，所述第一方向和所述第二方向垂直。优选的，所述标记结构包括行号标记和列号标记，其中所述行号标记表示所述色阻单元所对应栅线的行号，所述列号标记用于表示所述色阻单元所对应数据线的列号。本实施例中，所述标记结构优选设置在所述色阻单元的周边任意位置。优选的，所述标记结构的位置与所述色阻单元所对应栅线的位置相对应。彩膜基板还包括隔垫物层，所述标记结构与所述隔垫物层同层形成。优选的，所述隔垫物层包括柱状隔垫物，所述柱状隔垫物与所述标记结构通过构图工艺共同形成在所述隔垫物层。优选的，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述标记结构形成在所述黑矩阵对应的区域内。本实施例中，所述标记结构包括数字、字母中任一种或几种的组合。当然所述标记结构的形式并不限于此。本发明还提供一种彩膜基板的制作方法，包括以下步骤:在衬底基板上形成包括色阻单元的图形；形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。优选的，所述在衬底基板上形成包括色阻单元的图形，包括以下步骤:通过构图工艺，形成黑矩阵的图形；通过构图工艺，形成所述色阻单元的图形。优选的，所述方法还包括:在形成有所述色阻单元和所述黑矩阵的衬底基板上，形成隔垫物层；所述形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构,包括:通过构图工艺，在形成所述隔垫物层的同时形成所述标记结构。以下具体介绍标记结构的制作过程。本实施方式中以TN显示模式的像素结构为蓝本，在此结构中彩膜基板不使用OC(平坦层)，在此CF基板侧利用光刻工艺在Gate (栅线)方向上的BM (黑矩阵)上利用PS层(隔垫物层)对亚像素进行行列标示，具体结构如图1-图3中所示，在图中“100-210”是举例，代表Gate行号为100，Data (数据线)列号为210，其他亚像素的标记结构照此可得。步骤一:在基板4依次形成BM2、色阻单元3，如图4_图6所示。
步骤二:在与栅线对应的位置的色阻单元3采用半曝光技术，将标记区域的色阻厚度只保留色阻单元厚度的一部分，如图7、图8所示。步骤三:在色阻单元上沉积公共电极层(优选采用ITO透明导电膜层)5，如图9、图10所示。步骤四:在公共电极层5上沉积PS层1，如图11、图12所示。步骤四:制作PS，完成CF基板的制备，并在与色阻单元3的标记区域相对应的位置形成具有标记结构的标记区，如图1-图3所示。根据以上，本领域技术人员应该能够理解所述标记结构的制作工艺，在此不再详细描述。本发明以一种TN型显示模式为例，该TN型液晶显示器的CF基板(彩膜基板)能够实现亚像素的绝对坐标标记。针对大尺寸显示器的CF基板在定位和切割为小片进行分析时无法精确定位，同时在某些分析仪器中也不易区分RGB(红色、绿色、蓝色像素对应的色阻单元)的问题(0M (光学显微镜)、SEM (扫描电子显微镜)、3D显微镜下无法准确查找)，通过在CF基板对像素进行绝对坐标标记的方法，解决上述问题。该显示器在CF基板不良修复和不良解析方面可轻松确定不良点，能有效提高修复和分析的效率及准确性。此外，本领域技术人员可以理解，本发明具体实施例所述彩膜基板，用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构，并不仅限于设置于上述位置，且不限于采用数字构成行号和列号的方式进行绝对坐标标记，本领域人员可以采用其他方式进行位置标记；本申请中所提供的方法中的步骤顺序不限于所陈述的顺序，所能够变换的各种等同方式，在此不一一列举。本发明具体实施例另一方面还提供一种具有上述彩膜基板结构的液晶面板和显示设备，具体可以参阅上述，在此不再赘述。以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
权利要求
1.一种彩膜基板，包括衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的多个色阻单元，其特征在于，所述彩膜基板还包括用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述标记结构包括行号标记，其中所述行号标记表示一个色阻单元所处的沿第一方向的行的行号，或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第一方向的相邻多行的共用行号。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述标记结构还包括列号标记，其中所述列号标记用于表示一个色阻单元所处的沿第二方向的列的列号，或者表示相邻的多个色阻单元所处的沿所述第二方向的相邻多列的共用列号； 所述第一方向和所述第二方向垂直。
4.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述标记结构设置在所述色阻单元的周边任意位置。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，还包括隔垫物层，所述标记结构与所述隔垫物层同层形成。
6.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述像素为亚像素。
7.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物层包括柱状隔垫物，所述柱状隔垫物与所述标记结构通过构图工艺共同形成在所述隔垫物层。
8.根据权利要求1-7任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述标记结构包括数字、字母中任一种或几种的组合。
9.根据权利要求1-7任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括黑矩阵，所述标记结构形成在所述黑矩阵对应的区域内。
10.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤: 在衬底基板上形成包括色阻单元的图形； 形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。
11.根据权利要求10所述彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括色阻单元的图形，色阻单元包括以下步骤: 通过构图工艺，形成黑矩阵的图形； 通过构图工艺，形成所述色阻单元的图形。
12.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于， 所述方法还包括:在形成有所述色阻单元和所述黑矩阵的衬底基板上，形成隔垫物层； 所述形成具有用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构，包括:通过构图工艺，在形成所述隔垫物层的同时形成所述标记结构。
13.一种液晶面板，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的彩膜基板。
14.一种显示设备，其特征在于，包括权利要求13所述的液晶面板。
全文摘要
本发明涉及一种彩膜基板及其制作方法、液晶面板、显示设备，其中彩膜基板包括衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的多个色阻单元，所述彩膜基板还包括用于对色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构。本发明的有益效果是本发明通过在彩膜基板设置色阻单元对应的像素进行坐标标记的标记结构，实现了像素绝对坐标标记，无论是在那种仪器的基台，也无论基板的切割与否都能够快速准确的找到不良区，从而进行定址定位，能有效提高修复和分析的效率及准确性。
文档编号G02F1/1335GK103176306SQ201310094769
公开日2013年6月26日 申请日期2013年3月22日 优先权日2013年3月22日
发明者王明超, 林鸿涛, 王俊伟 申请人:京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司