光致抗蚀剂组合物的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加；酸生成剂；增塑剂；和溶剂，所述溶剂的量为所述光致抗蚀剂组合物的总量的40至75质量％。
【专利说明】光致抗蚀剂组合物
【技术领域】
[0001]本发明涉及光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。
【背景技术】
[0002]在通过半导体芯 片用薄膜安装插脚的过程中，在基板上排列配置作为具有4至150 μ m高度的突起的电极。
[0003]对于用于制备突起的光致抗蚀剂组合物，JP2008-134515A1提到了一种正性型化学放大光致抗蚀剂组合物，该光致抗蚀剂组合物任选地包含作为猝灭剂的胺化合物。
【发明内容】
[0004]本申请给出如下方面的发明。
[0005]一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含:
[0006]树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加；
[0007]酸生成剂；
[0008]增塑剂；和
[0009]溶剂,所述溶剂的量为所述光致抗蚀剂组合物的总量的40至75质量％。
[0010]根据[I]所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂是通过将以下三者反应而获得的树脂:
[0011]酚醛清漆树脂，
[0012]具有两个以上乙烯氧基的化合物，和
[0013]树脂,所述树脂包含由式(al-2)表示的结构单元或由式(a2_l)表示的结构单元，或同时包含上述这两种结构单元:
[0014]
【权利要求】
1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含: 树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加； 酸生成剂； 增塑剂；和 溶剂，所述溶剂的量为所述光致抗蚀剂组合物的总量的40至75质量％。
2.根据权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂是通过将以下三者反应而获得的树脂: 酚醛清漆树脂， 具有两个以上乙烯氧基的化合物，和 树脂，所述树脂包含由式(al-2)表示的结构单元或由式(a2_l)表示的结构单元,或者同时包含这两种结构单元:
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3.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物还包含酚醛清漆树脂。
4.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述酸生成剂是由式(b5)表示的化合物:
5.根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述增塑剂是选自由以下各项组成的组中的一种:邻苯二甲酸酯、脂族烃羧酸酯和芳香族磺酰胺。
6.一种用于制备厚度为3 μ m至150 μ m的光致抗蚀剂膜的光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含: 树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加； 酸生成剂； 增塑剂；和 溶剂。
7.一种厚度为3 μ m至150 μ m的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂膜通过向基板涂敷光致抗蚀剂组合物得到，所述光致抗蚀剂组合物包含: 树脂，所述树脂显示通过酸的作用在碱性水溶液中的溶解度增加； 酸生成剂； 增塑剂；和 溶剂。
8.一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括: (1)将根据权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物涂敷在基板上的步骤， (2)通过干燥所述光致抗蚀剂组合物而形成光致抗蚀剂组合物膜的步骤， (3)将所述光致抗蚀剂组合物膜曝光的步骤，以及 (4)将所曝光的光致抗蚀剂组 合物膜显影的步骤。
【文档编号】G03F7/039GK103488048SQ201310218296
【公开日】2014年1月1日 申请日期:2013年6月4日 优先权日:2012年6月8日
【发明者】河村麻贵, 中西润次 申请人:住友化学株式会社