一种光学扩散膜的制作方法
【专利摘要】本实用新型的一种光学扩散膜，包括有基材层，所述基材层的上表面涂覆形成光学扩散层，该基材层的下表面涂有防粘接层，所述光学扩散层的上表面凸起形成上凸块，所述防粘接层的下表面向下凸出形成下凸块。本实用新型的优点是：光学扩散膜的基材层的上表面涂覆形成光学扩散层，而下表面涂有防粘接层，所述光学扩散层的上表面凸起形成上凸块，所述防粘接层的下表面向下凸出形成下凸块。上表面的上凸块的光学扩散层中产生“丁达尔效应”对光线产生散射作用，再通过光学扩散层对光线产生折射，从而提高光学扩散膜的雾度和透过率。
【专利说明】一种光学扩散膜
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电子产品制造领域，尤其是一种光学扩散膜。
【背景技术】
[0002]平板显示(FPD，例如IXD、PDP等)产业作为信息产业的重要组成部分，近年来更是得到了迅速发展。平板显示器广泛应用于电视、电脑显示器、笔记本电脑、手机、数码相机、MP3、MP4、MP5、车载DSC/DV、GPS导航仪等产品上。但这些平板显示器本身并不发光，所产生的画面光源是由其中的背光模组所提供，其光源要求均匀、高亮度。
[0003]不论是现在应用较多的LED背光源还是传统的CCFL背光源，其所发出的光为点光源或者线光源，而不是面光源。但经过背光模组用扩散膜，能够将其分布成一个均匀的面光源。光线经过扩散层时，通过在两种折射率不同的介质中不断发生的折射、反射等光学现象，从而得到光学扩散的结果。
[0004]但是，现有的光学扩散膜，存在光学透过率或雾度过低问题，因此其结构有待进一步改进。
【发明内容】
[0005]本实用新型所要解决的技术问题是针对上述现有技术现状，而提供结构简单，雾度高，透过率高的一种光学扩散膜。
[0006]本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为:
[0007]—种光学扩散膜,包括有基材层，所述基材层的上表面涂覆形成光学扩散层，该基材层的下表面涂有防粘接层，所述光学扩散层的上表面凸起形成上凸块，所述防粘接层的下表面向下凸出形成下凸块。
[0008]为优化上述技术方案，采取的措施还包括:
[0009]上述的光学扩散层内包含第一 PMMA粒子而向上凸起形成上凸块。
[0010]上述的第一 PMMA粒子的第一粒径为15微米至40微米。
[0011]上述的光学扩散层的第一厚度为所述第一粒径的1/2至4/5。
[0012]上述的防粘接层内包含第二 PMMA粒子而向下凸出形成下凸块。
[0013]上述的第二 PMMA粒子的第二粒径为I微米至5微米。
[0014]上述的防粘接层的第二厚度为所述第二粒径的2/5至3/5。
[0015]与现有技术相比，本实用新型的光学扩散膜的基材层的上表面涂覆形成光学扩散层，而下表面涂有防粘接层，所述光学扩散层的上表面凸起形成上凸块，所述防粘接层的下表面向下凸出形成下凸块。上表面的上凸块的光学扩散层中产生“丁达尔效应”对光线产生散射作用，再通过光学扩散层对光线产生折射，从而提高光学扩散膜的雾度和透过率。
【专利附图】
【附图说明】
[0016]图1是本实用新型实施例剖视结构示意图；[0017]图2是图1中I部放大图；
[0018]图3是图1中II部放大图。
【具体实施方式】
[0019]以下结合附图实施例对本实用新型作进一步详细描述。
[0020]如图1至图3所示为本实用新型的结构示意图，
[0021]其中的附图标记为:第一粒径R、第二粒径r、第一厚度H、第二厚度h、基材层1、光学扩散层2、上凸块21、防粘接层3、下凸块31、第一 PMMA粒子4、第二 PMMA粒子5、助扩散粒子6。
[0022]如图1至图3所示，
[0023]—种光学扩散膜，包括有基材层I，其中所述的基材层I的上表面涂覆形成光学扩散层2，该基材层I的下表面涂有防粘接层3，所述的光学扩散层2的上表面凸起形成上凸块21，所述的防粘接层3的下表面向下凸出形成下凸块31。
[0024]实施例中，光学扩散层2内包含第一 PMMA粒子4而向上凸起形成上凸块21。
[0025]实施例中，第一 PMMA粒子4的第一粒径R为15微米至40微米。
[0026]实施例中，光学扩散层2的第一厚度H为所述第一粒径R的1/2至4/5。
[0027]实施例中，防粘接层3内包含第二 PMMA粒子6而向下凸出形成下凸块31。
[0028]实施例中，第二 PMMA粒子6的第二粒径r为I微米至5微米。
[0029]实施例中，防粘接层3的第二厚度h为所述第二粒径r的2/5至3/5。
[0030]基材层I采用PET材料、PS材料或PC材料制成。
[0031]光学扩散层2的涂液的组成配方的重量份数为:树脂粘合剂10份至30份，扩散剂21份至43份，交联剂I份至5份，稀释剂40份至70份，扩散剂包含扩散粒子20份至40份，助扩散粒子6为I份至3份；防粘接层3的涂液的组成配方的重量份数为:防粘接粒子20份至40份、树脂粘合剂20份至50份、交联剂I份至3份、稀释剂40份至60份。
[0032]树脂粘合剂丙烯酸树脂粘合剂、聚氨酯粘合剂或聚酯粘合剂。
[0033]扩散剂为有机微珠、无机离子或者两者的混合物。
[0034]扩散粒子为第一 PMMA粒子4和第二 PMMA粒子5的混合物，第一 PMMA粒子4和第二 PMMA粒子5的粒径比为5:1至20:1，其重量比3:1至8:1。
[0035]助扩散粒子6为纳米级的氧化钛或碳酸钙，助扩散粒子6的粒径为10纳米至90纳米。
[0036]交联剂为脂肪类异氰酸酯类交联剂；防粘接粒子为第二 PMMA粒子。
[0037]该光学扩散膜的制备方法，包括以下步骤:
[0038]步骤1、按照光学扩散层2的组成配方准备涂液原料；
[0039]步骤2、将配方中的稀释剂、扩散剂加入到分散机中，在1000r/min的转速下分散30min至40min,然后加入树脂粘合剂,在700r/min的转速下分散15min至20min,接着加入交联剂，在700r/min的转速下分散IOmin至15min ；
[0040]步骤3、将分散均匀的光学扩散层2的涂液原料涂于基材层I的上表面，然后进行烘干处理，在80°C至110°C的烘干温度下烘干40秒，烘干分为五个区，每个区温度分别设定为80°c，100°c，110°c，10(rc，9(rc ;最后进行老化处理，在55°C的老化温度下老化60小时形成光学扩散层2 ；
[0041]步骤4、按照防粘接层3的组成配方准备涂液原料；
[0042]步骤5、将配方中的稀释剂、防粘接粒子加入到分散机中，然后加入树脂粘合剂，在700r/min的转速下分散15min至20min,接着加入交联剂,在700r/min的转速下分散IOmin至 15min ；
[0043]步骤6、将分散均匀的防粘接层3的涂液原料涂于基材层I的下表面，然后进行烘干处理，在80°C至110°C的烘干温度下烘干40秒，最后进行老化处理，在55°C的老化温度下老化60小时形成防粘接层3 ;完成光学扩散膜的制备。
[0044]上述的稀释剂可选用高挥发速度的稀释剂，如丙酮、乙酸乙酯、四氢呋喃、丁酮、乙酸甲酯等，也可选用中等挥发速度的稀释剂，如乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、甲苯、二甲苯、乙酸戊酯等，还可选用低挥发速度的稀释剂丙二醇甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、丙二醇单甲醚等。生产过程中根据生产条件及生产环境进行选用。
[0045]PET为聚对苯二甲酸类塑料，PS为聚苯乙烯塑料，PC为聚碳酸酯塑料，PMMA为聚甲基丙烯酸甲酯塑料。
[0046]基材层I的上表面和下表面分别涂覆形成光学扩散层2和防粘接层3，而上凸块21的形成，使光线照射时产生“丁达尔效应”对光线产生散射作用，再通过光学扩散层内不同粒径的PMMA粒子对光线产生折射，从而提高光学扩散膜的雾度和透过率。
[0047]本实用新型的最佳实施例已阐明，由本领域普通技术人员做出的各种变化或改型都不会脱离本实用新型的范围。
【权利要求】
1.一种光学扩散膜，包括有基材层(I)，其特征是:所述的基材层(I)的上表面涂覆形成光学扩散层(2)，该基材层(I)的下表面涂有防粘接层(3)，所述的光学扩散层(2)的上表面凸起形成上凸块(21)，所述的防粘接层(3)的下表面向下凸出形成下凸块(31)。
2.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的光学扩散层(2)内包含第一 PMMA粒子(4)而向上凸起形成上凸块(21)。
3.根据权利要求2所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的第一PMMA粒子(4)的第一粒径(R)为15微米至40微米。
4.根据权利要求3所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的光学扩散层(2)的第一厚度⑶为所述第一粒径(R)的1/2至4/5。
5.根据权利要求1所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的防粘接层(3)内包含第二 PMMA粒子(6)而向下凸出形成下凸块(31)。
6.根据权利要求5所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的第二PMMA粒子(6)的第二粒径ω为I微米至5微米。
7.根据权利要求6所述的一种光学扩散膜，其特征是:所述的防粘接层(3)的第二厚度(h)为所述第二粒径(r)的2/5至3/5。
【文档编号】G02B5/02GK203414611SQ201320535832
【公开日】2014年1月29日 申请日期:2013年8月30日 优先权日:2013年8月30日
【发明者】钟国伦, 李哲, 刘红兵, 方振华, 孟凡伟 申请人:浙江元泰特种膜有限公司