1.具有印模结构的印模，其中所述印模结构至少部分由作为印模材料的有机硅形成。
2.根据权利要求1的印模，其中所述印模材料具有环氧基和/或丙烯酰基。
3.根据权利要求1或2的印模，其中所述印模材料由一种或多种下述提及的材料形成：
-丙烯酸酯有机硅或环氧有机硅，
-多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)，
-原硅酸四乙酯(TEOS)和/或
-聚(有机)硅氧烷。
4.根据前述权利要求之一的印模，其中通过紫外线辐射或通过热辐射硬化或者能硬化所述印模材料。
5.根据前述权利要求之一的印模，其中所述印模材料在5000纳米至10纳米，优选1000纳米至100纳米，更优选700纳米至200纳米，最优选500纳米至400纳米的波长范围内是透明的。
6.用于形成印模结构的方法，其中所述印模结构至少部分由作为印模材料的有机硅形成。
7.根据权利要求6的方法，其中通过紫外线辐射或通过热辐射硬化所述印模结构的印模材料。