一种消除半波孔的短波通滤光片的制作方法
【专利摘要】本发明属于薄膜光学领域，具体涉及一种消除半波孔的短波通滤光片，主要针对短波通滤光片中影响半波孔的一个关键因素——材料非均质性。膜系设计包含两部分：薄膜周期结构和与基板和空气的导纳匹配层。薄膜由H和L组成，H，L分别表示光学厚度为1/4参考波长的高、低折射率膜层。膜系基本周期结构为（0.5LH0.5LHL），周期为N，参考波长为高反射带中心波长。采用常规薄膜设计软件，在基板与薄膜周期结构之间，空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层，得到消除半波孔的膜系设计。该发明将薄膜基本周期结构的导纳误差降到近似为零，该发明直接针对半波孔进行设计和优化，不再回避半波孔，具有理想的透射带宽。该发明具有针对性强、品质高、简单易行的特点。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本发明属于光学薄膜领域，具体涉及一种消除半波孔的短波通滤光片。 一种消除半波孔的短波通滤光片
【背景技术】
[0002] 在光学薄膜中，短波通截止滤光片是经常用到的一种膜系，它要求在长波截 止，短波透过；它的基本周期结构为（0.5L H 0.5L)，其中H、L分别表示光学厚度为1 /4 参考波长的高、低折射率膜层。在短波通滤光片的实际制备中往往会在通带区域，即反射 带中心波长的一半处出现一个反射峰，我们称之为半波孔，也有称它为滤光片的半波跌落。 它的出现极大地影响了短波通滤光片的光，谱性能，甚至可能根本无法使用。
[0003] 对于产生半波孔的原因，国内外许多专家学者进行了广泛研究。普遍认为薄膜 折射率的非均质性是造成短波通半波孔的一个重要原因。对于常规的薄膜设计软件，其设 计参数主要包含折射率和膜层厚度等，但不包含折射率非均质性，因此，在设计薄膜时，无 法解决由折射率非均质性引起的半波孔问题，也因此无法制备出消除半波孔的短波通滤光 片。
【发明内容】
[0004] 本发明利用常规薄膜设计软件，提供了一种可消除半波孔的简单设计方法，由此 可制备出消除半波孔的短波通滤光片。
[0005] 本发明提出的消除半波孔的短波通滤光片，所述滤光片包括基板、薄膜周期结构 和导纳匹配层，所述薄膜周期结构为0. 5LH0. 5LHL，周期为N，参考波长为高反射带中心波 长，其中：Η，L分别表示光学厚度为1 /4参考波长的高、低折射率膜层；采用常规薄膜设 计软件，在基板与薄膜周期结构之间，空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层；基本周 期的总厚度为参考波长的一个波长光学厚度。
[0006] 对于HO. 5LH，设高折射率材料Η、低折射率材料L和基板在半波处的折射率分别为 /V，和&，则新结构导纳为：
【权利要求】
1. 一种消除半波孔的短波通滤光片，其特征在于所述滤光片包括基板、薄膜周期结构 和导纳匹配层，所述薄膜基本周期结构为0. 5LH0. 5LHL，周期为N，参考波长为高反射带中 心波长，其中：Η，L分别表示光学厚度为1 /4参考波长的高、低折射率膜层；采用常规薄 膜设计软件，在基板与薄膜周期结构之间，空气与薄膜周期结构之间分别添加匹配层；基本 周期的总厚度为参考波长的一个波长光学厚度。
【文档编号】G02B5/28GK104101932SQ201410336342
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2014年7月16日 优先权日:2014年7月16日
【发明者】焦宏飞, 赵阳, 鲍刚华, 程鑫彬, 王占山 申请人:同济大学