一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置，包括光刻机模板和光源，所述光刻机模板，模板的一次相模对应点，设置为二个正方形对应点，二次相模对应点右移一位后设置为小圆点对应点，三次相模对应点，设置为小圆点对应点；所述光源，设置为同轴的二个红外光源，即在中心光源的外围，有辅助光源。具有提高了对位精度，又大大提高了生产效率，通用性好的优点。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及半导体玻璃钝化器件光刻【技术领域】。 一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置
【背景技术】
[0002] 目前，半导体玻璃钝化器件光刻技术，玻璃钝化、立体结构的半导体器件光刻工 艺，如附图1所不现有光刻机模板的不意图，图中的一次相模板1的对应点2,二次相模板3 的对应点4,以及三次相模板5的对应点6,采用人工对位方式，人工对位精确性差，效率低， 影响晶片制造品质及单位成本。
【发明内容】
[0003] 为解决前述光刻机存在的问题，本实用新型提供一种玻璃钝化器件光刻机的自动 对位
[0004] 装置，包括光刻机模板和光源，所述光刻机模板，模板的一次相模对应点，设置为 二个
[0005] 正方形对应点，二次相模对应点右移一位后设置为小圆点对应点，三次相模对应 点，设
[0006] 置为小圆点对应点；所述光源，设置为同轴的二个红外光源，即在中心光源的外 围，有
[0007] 辅助光源。
[0008] 本实用新型的优点是，红外线辅助内外同轴光源，增加玻璃光刻胶表面材料透过 率，降低表面材料反光影响，有利于图像传感器对电子或半导体功率芯片器件结构与光刻 模板图像辨识、比对；采用新设计的光刻模板和同轴光源，能够实现自动对位，实现光刻过 程自动化，既提高了对位精度，又大大提高了生产效率。可适用于多种型号的电子或半导体 功率芯片器件，对具有立体结构或表面材料存在反光器件的都具有通用性。
【专利附图】
【附图说明】
[0009] 图1是现有光刻机模板示意图；
[0010] 图2是本实用新型的光刻机模板示意图；
[0011] 图3是同轴二个光源结构图；
[0012] 图中标号说明；
[0013] 1- -次相模板；2- -次相模板对应点；3-二次相模板；4-二次相模板对应点； 5-三次相模板；6-三次相模板对应点；7、8_二个方形相模板对应点；9、10-小圆点对应点；
[0014] 11-同轴辅助光源；12-同轴中心主光源；13-辅助光源的光；14-中心主光源的 光。
【具体实施方式】
[0015] 请参阅附图1、2所示，本实用新型模板的一次相模板1对应点，设置为二个正方形 对应点7、8,二次相模板3对应点，右移一位后设置为小圆点对应点9,三次相模板5对应 点，设置为小圆点对应点10 ;所述光源，设置为同轴的二个红外光源11、12,即在中心光源 12发出的红外光14的外围，设有辅助光源11发出的红外光13。
[0016] 在光刻对位时，采用红外辅助光源、晶片上方形对位点（酸蚀刻及表面材料覆盖已 不规则）中心，与光刻模板上圆形对位点中心精确定位，调整晶片使晶片两对位中心与光刻 模板两对位中心重合实现光刻的对位。采用方形一次相对位点避免酸蚀刻造成结构变化使 中心定位偏差，二三次对位点采用小的圆形增加对位区域一次对位点清晰度及中心点准 确计算；二三次相对位点分开避免玻璃工艺后结果对三次对位的影响。从而保证对位精确 性玻璃钝化器件自动化光刻可行。
【权利要求】
1. 一种玻璃钝化器件光刻机的自动对位装置，包括光刻机模板和光源，其特征在于，所 述光刻机模板，模板的一次相模对应点，设置为二个正方形对应点，二次相模对应点右移一 位后设置为小圆点对应点，三次相模对应点，设置为小圆点对应点；所述光源，设置为同轴 的二个红外光源，即在中心光源的外围，有辅助光源。
【文档编号】G03F7/20GK203909469SQ201420279753
【公开日】2014年10月29日 申请日期:2014年5月29日 优先权日:2014年5月29日
【发明者】孙镇江, 叶海峰, 张继稳, 吴爱国, 魏敦林, 郝昌玲 申请人:上海旭福电子有限公司, 敦南微电子（无锡）有限公司, 敦南科技（无锡）有限公司