光栅耦合器及其制作方法与流程

文档序号:12287212阅读:来源:国知局
技术总结
一种光栅耦合器及其制作方法,该光栅耦合器包括衬底层(10)、设置于衬底层(10)上的反射层(11)、设置于反射层(11)上的第一限制层(12)、设置于第一限制层(12)上的波导芯层(13)以及设置于波导芯层(13)上的第二限制层(14)。波导芯层(13)包括亚微米波导(130)、锥形波导(131)、扇形衍射光栅(132)和弧形分布布拉格反射光栅(133)。亚微米波导(130)与锥形波导(131)的窄端连接,锥形波导(131)的宽端与扇形衍射光栅(132)的凹面连接,扇形衍射光栅(132)的凸面与弧形分布布拉格反射光栅(133)的凹面连接。该光栅耦合器在垂直耦合的基础上,易于高密度集成、耦合损耗小。

技术研发人员:涂鑫;付红岩;赵飞
受保护的技术使用者:华为技术有限公司
文档号码:201480077242
技术研发日:2014.03.18
技术公布日:2017.02.22

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