技术特征：
技术总结
本发明提供一种掩膜台光栅尺测量系统和测量方法，这种结构包括一掩膜台的承版台、一固定于承版台侧面的光栅尺、光栅尺的刻线面垂直于承版台上固定光栅尺的侧面、承版台固定光栅尺的侧面上还固定有一反射面。本发明在入射光束入射光栅尺刻线面后发生衍射后，在被衍射光束发射到的掩膜台的侧面上设置反射面，使得原本被掩膜台遮挡的衍射光束被反射面反射出，这样所有的衍射光束皆可被机器接收，避免了掩膜台对光栅尺测量的影响，同时也不必增加光栅尺的质量和尺寸，节省了测量系统的空间，提高测量系统机械模态稳定性能。
技术研发人员：吴萍;张志平
受保护的技术使用者：上海微电子装备有限公司
技术研发日：2015.12.31
技术公布日：2017.07.07