受激发射损耗显微镜装置的制作方法

文档序号:11889975阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

包括:

输出受激发射损耗光的受激发射损耗光源;

输出激励光的激励光源;

呈现用于通过相位调制将所述受激发射损耗光成形为圆环状的第一相位图案的相位调制型的第一空间光调制器;

用于向观察对象区域照射所述激励光和相位调制后的所述受激发射损耗光的光学系统;

对从所述观察对象区域产生的荧光进行检测的检测器;和

控制所述第一相位图案的控制部,

所述控制部为了控制相位调制后的所述受激发射损耗光的圆环的内径而设定所述第一相位图案。

2.如权利要求1所述的受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

还包括呈现用于通过相位调制将所述激励光成形为圆形的第二相位图案的第二空间光调制器,

所述控制部还控制所述第二相位图案。

3.如权利要求2所述的受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

所述控制部分割所述受激发射损耗光并使用于向多个区域照射的图案与所述第一相位图案重叠,并且分割所述激励光并使用于向所述多个区域照射的图案与所述第二相位图案重叠。

4.如权利要求3所述的受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

所述检测器为二维检测器。

5.如权利要求4所述的受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

还包括使所述荧光在所述二维检测器的受光面上进行扫描的光扫描仪,

所述激励光和所述受激发射损耗光的照射时间间隔根据扫描方向上的所述受光面的像素的宽度和所述光扫描仪的扫描速度,以各像素不对所述荧光进行多次受光的方式设定。

6.如权利要求1~5中的任一项所述的受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

所述第一相位图案包含相位以某个点为中心螺旋状地从0rad增加至2π×n rad的图案,

所述控制部为了控制所述圆环的内径而设定整数n,

其中,n为1以上的整数。

7.如权利要求1~5中的任一项所述的受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

所述第一相位图案包含将以某个点为中心螺旋状地从0rad增加至2π rad的相位的增加重复进行n次的图案,

所述控制部为了控制所述圆环的内径而设定整数n,

其中,n为1以上的整数。

8.如权利要求1~7中的任一项所述的受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

还包括存储与所述受激发射损耗光的圆环的多个内径分别对应的多个图案的存储部,将从所述多个图案中选择的图案包含于所述第一相位图案。

9.如权利要求1~5中的任一项所述的受激发射损耗显微镜装置,其特征在于,

还包括输入所述圆环的内径的期望值的输入部,

所述第一相位图案包含相位以某个点为中心螺旋状地从0rad增加至m rad的图案,

所述控制部基于从所述输入部输入的所述圆环的内径的期望值,设定实数m,

其中,m为2π以上的实数。

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