1.一种测量设备，包括：
光学系统，用以将照射辐射提供至周期性结构上的光斑中，且用以接收由所述周期性结构重新导向的辐射，所述光学系统包括：
第一光阑，用以阻挡来自所述周期性结构的零阶辐射且允许非零阶辐射穿过；和
第二光阑，用以阻挡穿过所述第一光阑的零阶辐射且允许所述非零阶辐射穿过；以及
辐射检测器，在所述光学系统的下游，并用以接收所述非零阶辐射。
2.根据权利要求1所述的测量设备，其中所述第一光阑包括反射镜。
3.根据权利要求2所述的测量设备，还包括用以将所述照射辐射提供至所述反射镜的辐射输入件，所述反射镜被配置以朝向所述周期性结构上的所述光斑提供所述照射辐射。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的测量设备，其中所述第一光阑是棱镜的一部分、在所述棱镜中或在所述棱镜上。
5.根据权利要求4所述的测量设备，其中所述第二光阑是所述棱镜的一部分、在所述棱镜中或在所述棱镜上。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的测量设备，其中所述第二光阑是棱镜的一部分、在所述棱镜中或在所述棱镜上。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的测量设备，其中所述第二光阑是板的一部分、在所述板中或在所述板上。
8.根据权利要求7所述的测量设备，其中所述板被安装于铰链上。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的测量设备，其中所述第二光阑是由框架可释放地支撑的支撑臂结构的一部分、在所述支撑臂结构中或在所述支撑臂结构上。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的测量设备，其中所述第二光阑是不透明特征。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的测量设备，其中所述第二光阑是散射或反射特征。
12.根据权利要求1至11中任一项所述的测量设备，其中所述第二光阑可移动至被重新导向的辐射的路径中和从被重新导向的辐射的路径中移出。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的测量设备，其中所述检测器被配置以由所接收的非零阶辐射来确定对准。
14.一种光刻设备，包括：
图案形成子系统，被配置以将图案转印至衬底；
测量子系统，被配置以测量所述衬底相对于所述图案形成子系统的位置，
其中所述图案形成子系统被布置以使用由所述测量子系统测量的所述位置而将所述图案施加于所述衬底上的所需位置处，且其中所述测量子系统包括根据权利要求1至13中任一项所述的测量设备。
15.一种测量方法，所述方法包括：
将辐射提供至周期性结构上的光斑中；
接收由所述周期性结构重新导向的辐射，被重新导向的辐射包括零阶辐射和非零阶辐射；
使用第一光阑阻挡被重新导向的辐射的零阶辐射，同时允许非零阶辐射通过所述第一光阑；
使用第二光阑阻挡通过所述第一光阑的零阶辐射，同时允许非零阶辐射通过所述第二光阑；和
在所述第一光阑和所述第二光阑下游的辐射检测器处接收所述非零阶辐射。
16.根据权利要求15所述的方法，其中所述第一光阑包括反射镜，且所述方法进一步包括将照射辐射提供至所述反射镜，所述反射镜朝向所述周期性结构上的所述光斑提供所述照射辐射。
17.根据权利要求15或16所述的方法，其中所述第一光阑是棱镜的一部分、在所述棱镜中或在所述棱镜上。
18.根据权利要求17所述的方法，其中所述第二光阑是所述棱镜的一部分、在所述棱镜中或在所述棱镜上。
19.根据权利要求15或16所述的方法，其中所述第二光阑是棱镜的一部分、在所述棱镜中或在所述棱镜上。
20.根据权利要求12至16中任一项所述的方法，进一步包括将所述第二光阑移动至被重新导向的辐射的路径中和从被重新导向的辐射的路径中移出。
21.根据权利要求20所述的方法，其中所述第二光阑是安装于铰链上的板的一部分、在所述板中或在所述板上，且其中移动所述第二光阑包括围绕所述铰链旋转所述板。
22.根据权利要求20所述的方法，其中所述第二光阑是由框架可释放地支撑的支撑臂结构的一部分、在所述支撑臂结构中或在所述支撑臂结构上。
23.根据权利要求15至22中任一项所述的方法，其中所述第二光阑是散射或反射特征。
24.一种制造器件的方法，其中使用光刻过程将器件图案施加至衬底，所述方法包括通过参考形成于所述衬底上的周期性结构的所测量位置来定位所施加的图案，所测量位置是根据权利要求15至23中任一项所述的方法而获得。