技术总结
本发明涉及一种测量设备，包括：光学系统，用以将照射辐射提供至周期性结构上的光斑中，且用以接收由所述周期性结构重新导向的辐射，所述光学系统包括第一光阑和第二光阑，第一光阑用以阻挡来自所述周期性结构的零阶辐射且允许非零阶辐射穿过，第二光阑用以阻挡穿过所述第一光阑的零阶辐射且允许所述非零阶辐射穿过；以及所述光学系统下游的辐射检测器，其用以接收所述非零阶辐射。
技术研发人员：E·W·埃伯特;F·G·C·比基恩
受保护的技术使用者：ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
文档号码：201580045832
技术研发日：2015.05.29
技术公布日：2017.05.31