技术特征：
技术总结
文中公开了几种方法，用在图案形成过程中，用于减小设计布局的一部分的Bossung曲线的倾斜、一个或多个图案位移误差、对比度损失、最佳聚焦偏移，所述图案形成过程用于使用光刻设备将所述部分成像到衬底上。所述方法包括：使用一个或多个规则，基于从以下各项构成的群组中选择的一个或多个参数，确定或调整一个或多个辅助特征的一个或多个特性：在所述部分中的一个或多个设计特征的一个或多个特性、所述图案形成过程的一个或多个特性、所述光刻设备的一个或多个特性、和/或选自前述各项的组合。
技术研发人员：D.-F.S.苏;库尔特·E·万普勒
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2015.09.23
技术公布日：2017.08.29