1.一种混合模式复用器件的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：采用纵向的模式复用，设计的纵向多模波导层结构在纵向即垂直于芯片表面方向上支持三个或三个以上的多个模式。
S2：设计蚀刻衍射光栅来实现多个波长与模式的混合复用：
该纵向波导结构，以二氧化硅为衬底，以硅为波导芯层，覆盖层为空气或者二氧化硅，波导芯层高度大于0.5um，计算出对应各个工作波长下可支持的多个模式的有效折射率。
根据设计出来的波导结构，设计厚度相匹配的蚀刻衍射光栅来实现模式的复用与解复用。
2.根据权利要求1所述的混合模式复用器件的设计方法，其特征在于，所述步骤S2的具体过程如下：
S21：确定二个或以上的工作波长和衍射级次m；
S22：确定入射角θi为30～45°；
S23：确定中心波长下基模的衍射角θk为30～45°；
S24：根据光栅方程：
neffd(sinθi+sinθk)＝mλ (1)
对波导中存在的多个波长以及各个波长对应的多个模式，根据各个波长对应的其余各模式的等效折射率分别计算出其余各模式对应的衍射角；
S25：根据以上参数设计光栅齿面。