一种基于微纳光栅的多光谱红外滤光片阵列的制作方法

技术特征：

1.一种基于微纳光栅的多光谱红外滤光片阵列，其特征在于，包括多个呈马赛克形式排列的光栅滤光片，每个所述光栅滤光片的结构由上到下依次为二维金属光栅层和基底结构层，所述二维金属光栅层的材料为金，所述基底结构层的材料为熔融石英。

2.如权利要求1所述的基于微纳光栅的多光谱红外滤光片阵列，其特征在于，每个所述光栅滤光片均通过调节光栅参数来获取所需的光谱曲线。

3.如权利要求2所述的基于微纳光栅的多光谱红外滤光片阵列，其特征在于，所述光栅滤光片调节光栅参数的方法具体通过最优化目标函数min g(P,f,h,h1,Δε)＝F_ideal(λ_max,Δλ)-f(P,f,h,h1,Δε)实现，其中，F_ideal(λ_max,Δλ)为理想光谱曲线，f(P,f,h,h1,Δε)为不同光栅参数对应的光谱仿真曲线，P为光栅周期，0＜P＜λ，λ为入射光波长，f为占空比，0＜f＜1，h为基底结构层的厚度，h1为光栅槽深度，h1＞0，Δε为光栅调制系数，λ_max为中心波长位置，Δλ为带宽。

4.如权利要求3所述的一种基于微纳光栅的多光谱红外滤光片阵列，其特征在于，所述光栅调制系数Δε通过公式得出，其中，n_g为二维金属光栅层的折射率，n_s为基底结构层的折射率。

5.如权利要求3或4所述的一种基于微纳光栅的多光谱红外滤光片阵列，其特征在于，所述占空比f由f＝w/P得出，其中，w为光栅槽的宽度，P为光栅周期。

6.如权利要求3或4所述的一种基于微纳光栅的多光谱红外滤光片阵列，其特征在于，所述光栅槽的深度h1取值范围为0.05-0.15μm，所述基底结构层的厚度h取值范围为0.4-0.7μm。