技术特征：
技术总结
本发明公开了一种双面对位的曝光机对位台，包括底座、第一台板和第二台板，第一台板被第一驱动装置驱动相对于底座运动，第二台板被第二装置驱动相对于第一台板运动，也可以与第一台板一起同步运动，在第一台板上安有PCB板支撑架吸附固定件，在第二台板上安有下菲林框架吸附固定件。该对位台能够在不依赖通孔靶点、不翻转PCB板的情况下将PCB板分别与上下菲林进行对位，而且能够使体积更加紧凑，针对现有曝光机的有限空间直接替换原有对位机构，将原来需翻转PCB板进行的两次单面对位变成不翻转PCB板的双面对位。
技术研发人员：张惠光
受保护的技术使用者：保定来福光电科技有限公司
技术研发日：2016.11.09
技术公布日：2017.07.28