1.一种波长可调的标准具，其特征在于，该标准具包括矩形基片（1）和楔形基片（2），所述矩形基片（1）包括第一反射面S1（11）和第二反射面S2（12），所述楔形基片（2）包括第三反射面S3（21）和第四反射面S4（22），所述第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之间形成谐振腔（3），所述第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之间的距离L为谐振腔（3）的腔长，所述第三反射面S3（21）为相对于第二反射面S2（12）倾斜的斜面，所述第三反射面S3（21）与第二反射面S2（12）之间的夹角α为0.1′-1′，所述矩形基片（1）垂直固定在基座（4）上，所述楔形基片（2）下端通过微调驱动基座（5）设置在基座（6）上，通过微调驱动基座（5）上下运动带动楔形基片（2）沿竖直方向上下移动，楔形基片（2）上下移动从而达到腔长L的改变，从而实现中心波长λ的改变，所述楔形基片的高度为H，所述楔形基片上下移动的变化值记为ΔH，所述腔长的变化值记为ΔL，所述ΔL=ΔH×tanα。
2.根据权利要求1所述的波长可调的标准具，其特征在于，入射的光束在第二反射面S2（12）和第三反射面S3（21）之间多次反射形成多光束干涉，多光束干涉的中心波长λ与厚度L之间的关系为：多光束干涉的中心波长λ=2×n×L×cosθ/k，所述n为矩形基片（1）和楔形基片（2）之间的空气的折射率，θ为光束在第二反射面S1（12）和第三反射面S3（21）的入射角，k为干涉级数，k取值为正整数。
3.根据权利要求1所述的波长可调的标准具，其特征在于，所述微调驱动基座为毫米量级微电子机械调节基座。
4.根据权利要求1所述的波长可调的标准具，其特征在于，所述微调驱动基座为毫米量级压电陶瓷微调基座。
5.一种权利要求2所述的波长可调的标准具的调节方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤1，由中心波长计算公式λ=2×n×L×cosθ/k可知，中心波长变化值Δλ=2×n×ΔL×cosθ/k，根据Δλ值、空气的折射率n值，光束的入射角θ值和干涉级数k值，计算出腔长的变化量ΔL；
步骤2，由公式ΔL=ΔH×tanα，根据夹角α值和所述步骤1计算得到的ΔL值，得出ΔH值，
步骤3，根据所述步骤2得到的ΔH值，沿竖直方向移动楔形基片（2），
步骤4，当ΔH值小于零时，则沿竖直方向向上移动楔形基片（2），向上移动的距离为ΔH；当ΔH值大于零时，则沿竖直方向向下移动楔形基片（2），向下移动的距离为|ΔH |。