技术领域本实用新型涉及导电膜技术领域，尤其涉及一种增亮阻隔膜及具有该增亮阻隔膜的背光模组。
背景技术：
请参阅图1，所示为用于液晶显示器背后的一种较常见的侧光式LED背光源，包括导光板1，依次层设在导光板1上的第一扩散膜2、量子点膜3、棱镜膜4与第二扩散膜5，以及设置在导光板1一侧的LED光源6。第一扩散膜2与第二扩散膜5可对透过的光线做散射处理，让光分布更加均匀，量子点膜3用于提供量子点，可以在LED发出的光的激发下发光。量子点发出的光与LED发出的光经混合可以形成白光，增强液晶显示器的显示效果。量子点膜3包括量子点层301及设置在量子点层301两侧的阻隔膜层302，量子点层301为含有量子点的聚合物层，量子点需对氧气和水密封，通过阻隔膜层302以阻隔氧气与水。由于量子点膜3的聚光性不佳，经过量子点膜3后需经过棱镜膜4聚光增亮，使得侧光式LED背光源层结构相对较复杂，且棱镜膜4的增光效果不理想。
技术实现要素：
鉴于以上所述，本实用新型研发一种具有较佳增光效果的增亮阻隔膜。一种增亮阻隔膜，具有基材层，依次层设在基材层顶面上的无机镀层、聚合物层，以及设置在基材层底面的增亮层，增亮层呈连续式半圆球结构分布。进一步地，所述无机层采用SiNx层、SiOy层、硅铝氧化物层、硅钛氧化物层或以上几种交互堆叠的复合式无机层，x取值1至4/3之间，y取值1.8至2之间。进一步地，所述无机层总厚度介于5-200nm之间。进一步地，所述聚合物层采用掺杂无机粒子的有机涂层。进一步地，所述无机粒子选用氧化硅、氧化钛、氧化铝颗粒、氧化锆颗粒、氧化锑颗粒或氧化锌颗粒粒子。进一步地，所述基材层顶面上形成有N层无机镀层与聚合物层组成的复合层，N≤5层，更佳地为N≤3层。进一步地，所述基材层与无机层之间形成有一平滑涂层，平滑涂层表面粗糙度小于7nm。进一步地，所述半圆球底面宽度介于12-60nm之间，优选为23-55nm之间，底角圆弧处切线与水平面夹角介于60-120度之间，优选为80-100度之间。此外，本实用新型有必要提供一种具有所述增亮阻隔膜的量子点膜。一种量子点膜，包括量子点层以及设置在量子点层一侧的普通阻隔膜，在量子点层相对普通阻隔膜的一侧设置有所述的增亮阻隔膜。再有，本实用新型有必要提供一种具有所述增亮阻隔膜的侧光式LED背光源。一种侧光式LED背光源，包括导光板，依次层设在导光板上的第一扩散膜、量子点膜与第二扩散膜，以及设置在导光板一侧的LED光源，所述量子点膜包括量子点层以及设置在量子点层一侧的普通阻隔膜，在量子点层相对普通阻隔膜的一侧设置有所述的增亮阻隔膜。本实用新型的有益效果，增亮阻隔膜通过在基材一表面设置增亮层，增亮层采用连续式半圆球状分布，可起到聚光效果，提高了亮度。附图说明上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了更清楚地说明本实用新型的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，描述中的附图仅仅是对应于本实用新型的具体实施例，对于本领域普通技术人员来说，在不付出创造性劳动的前提下，在需要的时候还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有侧光式LED背光源的结构示意图；图2为本实用新型提供的一种的侧光式LED背光源的结构示意图；图3为图2所示的侧光式LED背光源的量子点膜的层结构示意图；图4为本实用新型提供另一种量子点膜的层结构示意图；图5为本实用新型提供第三种量子点膜的层结构示意图；图6为本实用新型量子点膜的增亮层的半圆球截面图。具体实施方式为了详细阐述本实用新型为达成预定技术目的而所采取的技术方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的部分实施例，而不是全部的实施例，并且，在不付出创造性劳动的前提下，本实用新型的实施例中的技术手段或技术特征可以替换，下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。请参阅图2，一种侧光式LED背光源，包括导光板10，依次层设在导光板10上的第一扩散膜20、量子点膜30与第二扩散膜40，以及设置在导光板10一侧的LED光源50。LED光源50发出光线经过第一扩散膜20后，均匀进入量子点膜30，量子点膜30提供量子点，在LED发出的光的激发下发光，并且连同LED的光线进入第二扩散膜40，第二扩散膜40对透过的光线做散射处理，让光分布更加均匀。量子点膜30包括量子点层31以及设置在量子点层31两侧的普通阻隔膜32与增亮阻隔膜33，量子点膜30的普通阻隔膜31的一侧邻接第一扩散膜20，量子点膜30的增亮阻隔膜33的一侧邻接第二扩散膜40。请参阅图3，增亮阻隔膜33的第一较佳实施例，包括基材层331、依次形成在基材层331一表面上的无机层332、聚合物层333，以及形成在基材层331另一表面的增亮层334。基材层331材质选用PET、PEN、PC、COP或COC任一种或几种的组合，优选PET基材层。基材层331厚度12-260um之间。无机层332采用SiNx层、SiOy层、硅铝氧化物层、硅钛氧化物层或以上几种交互堆叠的复合式无机层，x取值1至4/3之间，y取值1.8至2之间。无机层总厚度需介于5-200nm之间，优选10-150nm。无机镀层332采用SiNx层时，SiNx层通过以溅镀或蒸镀方式形成在基材层331表面，N与Si的比例需控制在x＝1–4/3之间，才能达到Si与N的完整键结状态。SiNx层厚度在5nm-40nm之间，较佳地选择在5nm-20nm之间，最佳为10nm-20nm之间。无机镀层332采用SiOy层时，SiOy层通过溅射法、真空蒸镀法、离子镀法或等离子体CVD法制作在基材层331表面，O与Si比例需控制在y＝1.8-2之间，若y低于1.8则会造成折射率偏高，影响整体光学设计。SiOy层厚度20nm-120nm间,较佳地选择在30nm-120nm之间，最佳为在30nm-90nm之间。无机镀层332采用硅铝氧化物层时，厚度在10nm-90nm之间；无机镀层332采用硅钛氧化物层时，厚度在10nm-90nm之间聚合物层333为有机涂层或掺杂无机粒子的有机涂层。有机涂层材料为：丙烯酸酯类树脂、有机硅氧烷树脂、丙烯酸酯改性聚氨酯、丙烯酸酯改性有机硅树脂或环氧树脂。无机粒子主要为氧化硅、氧化钛粒子。聚合物层333厚度为0.3um-10um之间，较佳地选择在0.5um-5um间。增亮层334呈连续式半圆球结构分布，请参阅图6，每一半圆球结构底面宽度L介于12-60nm之间，优选为23-55nm之间，底角圆弧处切线与水平面夹角α介于60-120度间，优选为80-100度之间，通过限定底层宽度以及夹角α，可得到最佳的增亮效果。增亮层334折射率需大于1.5，优选为1.53以上。增亮层334采用的材质为：丙烯酸酯类树脂、有机硅氧烷树脂、丙烯酸酯改性聚氨酯、丙烯酸酯改性有机硅树脂或环氧树脂。通过设置增亮层334，增亮层334采用连续式半圆球状分布，可起到聚光效果，提高了亮度。请参阅图4，本实用新型中增亮阻隔膜33的第二较佳实施例，相较于实施例一，在基材层331与无机层332之间进一步涂布一平滑涂层335，平滑涂层335用于改善PET表面细小缺陷，使表面更为平滑达到更佳的阻隔效果，其材质为：丙烯酸酯类树脂、有机硅氧烷树脂、丙烯酸酯改性聚氨酯、丙烯酸酯改性有机硅树脂或环氧树脂，表面粗糙度为7nm以下。请参阅图5，本实用新型中增亮阻隔膜33的第三较佳实施例，相较于实施例一，在聚合物层333上进一步层叠无机层332，在无机层332上接着形成聚合物层333，即无机层332与聚合物层333成组继续交替层叠。可视为形成在基材层331上的无机层332与聚合物层333为第1组复合层，进而层叠第2组…至第N组复合层；N≤5层。通过设置多组复合层，可提高阻隔效果，但同时也会降低生产效率，因此复合层以5层以下为佳，更加地为3层以下。综上，本实用新型增亮阻隔膜通过在基材一表面设置增亮层，增亮层采用连续式半圆球状分布，可起到聚光效果，提高了亮度。使用所述增亮阻隔膜的量子点膜，同时兼具增量与薄型化的效果。以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质，在本实用新型的精神和原则之内，对以上实施例所作的任何简单的修改、等同替换与改进等，均仍属于本实用新型技术方案的保护范围之内。