一种显示面板及其制作方法、显示装置与流程

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术：

液晶显示面板(liquidcrystaldisplay，lcd)是目前常用的平板显示器，液晶显示面板以其体积小、功耗低、无辐射、分辨率高等优点，被广泛地应用于现代数字信息化设备中。

液晶显示面板如图1所示，包括相对设置的阵列基板11和彩膜基板12，以及位于阵列基板11和彩膜基板12之间的液晶层(图中未示出)，阵列基板11和彩膜基板12均包括显示区13和非显示区，阵列基板11的非显示区不仅包括与彩膜基板12对应的且面积相等的非显示区部分14，还包括用于绑定驱动集成电路16的台阶区域15。

图1中沿aa1方向的截面图如图2所示，阵列基板11包括衬底基板110、依次位于衬底基板110上的有机膜层111、钝化层112和第一取向层113；彩膜基板12包括衬底基板110、依次位于衬底基板110上的黑矩阵121、色阻平坦层122和第二取向层123；另外，图1中沿aa1方向还包括位于阵列基板11和彩膜基板12之间的框胶21和隔垫物22。

如图2所示，现有技术在制作液晶显示面板的工艺制程中，需要经过一系列的冷热交替制程，这样会导致各材料间发生不同程度的热胀冷缩现象，由于各材料特性的差异，导致边缘位置(如图中箭头方向示出)形成一些微小裂纹，降低了液晶显示面板边框区域的界面结合力，图2中由于热胀冷缩的现象，各膜层间均有可能发生失效。

为了提升液晶显示面板边框区域的界面结合力，现有技术会采用提升框胶21与第一取向层113和第二取向层123的结合力的方式达到目的，但这种方式需要选取较高粘接力的框胶材料，或者选取具有较高粘附性的第一取向层和第二取向层材料，在实际生产过程中选材成本较高。另外，现有技术也可以采用控制框胶21的热膨胀系数的方式达到目的，但实际生产过程中控制框胶的热膨胀系数较困难。

综上所述，现有技术的液晶显示面板边框区域的界面结合力较差，而对于较窄边框的液晶显示面板，边框对应位置处的各膜层所占的面积更小，因此各膜层之间的接触面积也更小，这样由于热胀冷缩的现象，各膜层间边框区域的界面结合力更小，各膜层间发生失效的概率也更大，因此，提升液晶显示面板边框区域的界面结合力是十分必要的。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置，用以提升显示面板边框区域的界面结合力。

本发明实施例提供的一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和对向基板，以及设置在所述阵列基板和所述对向基板之间的框胶；

所述框胶在所述阵列基板上的正投影区域位于所述阵列基板的边框区域；

所述阵列基板包括衬底基板、位于所述衬底基板上的有机膜层；其中：

与所述框胶对应位置处的所述有机膜层包括至少一突起柱和至少一凹槽。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，包括：

提供一衬底基板，在所述衬底基板上采用构图工艺制作有机膜层，使得所述有机膜层包括至少一突起柱和至少一凹槽；

在完成上述步骤的所述衬底基板与预先制作形成的对向基板之间制作框胶，所述突起柱的位置和所述凹槽的位置均与所述框胶的位置对应，并对所述衬底基板和所述对向基板进行对盒；其中：所述框胶在所述衬底基板上的正投影区域位于所述衬底基板的边框区域。

本发明实施例至少具有以下有益效果：

由本发明实施例提供的显示面板，包括相对设置的阵列基板和对向基板，以及设置在阵列基板和对向基板之间的框胶；阵列基板包括衬底基板、位于衬底基板上的有机膜层；其中：与框胶对应位置处的有机膜层包括至少一突起柱和至少一凹槽。由于有机膜层包括至少一凹槽，因此在凹槽位置处能够增大框胶与阵列基板的接触面积，在一定程度上提升了显示面板边框区域的界面结合力；并且，由于有机膜层还包括至少一突起柱，而突起柱能够承担一部分框胶所承受的拉应力，从而能够起到阻裂功能，因此突起柱的设置能够提升显示面板边框区域的界面结合力；与现有技术相比，本发明实施例有机膜层包括的突起柱和凹槽的搭配设置能够很好的提升显示面板边框区域的界面结合力。

附图说明

图1为液晶显示面板的平面结构示意图；

图2为图1中沿aa1方向的截面结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图；

图4为图3中沿bb1方向的截面结构示意图；

图5为本发明实施例提供的另一显示面板的平面结构示意图；

图6为图5中沿cc1方向的截面结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种显示面板的边框位置的截面结构示意图；

图8为本发明实施例提供的又一显示面板的边框位置的截面结构示意图；

图9为本发明实施例提供的一种显示面板的边框位置的俯视结构示意图；

图10为本发明实施例提供的另一显示面板的边框位置的俯视结构示意图；

图11为本发明实施例提供的又一显示面板的边框位置的俯视结构示意图；

图12为本发明实施例提供的再一显示面板的边框位置的俯视结构示意图；

图13为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法流程图。

具体实施方式

本发明实施例提供了一种显示面板及其制作方法、显示装置，用以提升显示面板边框区域的界面结合力。

为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

下面结合附图详细介绍本发明具体实施例提供的显示面板。

附图中各膜层厚度和区域大小、形状不反应各膜层的真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

如图3和图4所示，图3为本发明实施例提供的一种显示面板的平面结构示意图，图4为图3中沿bb1方向的截面结构示意图；本发明具体实施例提供了一种显示面板，包括相对设置的阵列基板11和对向基板41，以及设置在阵列基板11和对向基板41之间的框胶21，其中：

框胶21在阵列基板11上的正投影区域位于阵列基板11的边框区域，本发明具体实施例中阵列基板11的非显示区不仅包括与对向基板41对应的且面积相等的非显示区部分，还包括用于绑定驱动集成电路16的台阶区域15；

阵列基板11包括衬底基板110、位于衬底基板110上的有机膜层，其中：与框胶21对应位置处的有机膜层包括至少一突起柱42(图4中仅示出了四个突起柱42)和至少一凹槽43(图4中仅示出了一个凹槽43)。

这里，需要说明的是：本发明具体实施例中的有机膜层有一个标准高度，该标准高度的具体值根据实际生产设置，如：有机膜层的标准高度可以以凸起结构的底部到该有机膜层与下面的其它膜层的接触面之间的距离作为标准高度。本发明具体实施例中高于该标准高度的凸起结构称为突起柱42，低于该标准高度的凹陷部分称为凹槽43。

具体实施时，如图3和图4所示，本发明具体实施例与框胶21对应位置处的有机膜层包括围绕显示区13设置的一圈凹槽43，本发明具体实施例中的凹槽43可以为贯穿有机膜层的凹陷部分，也可以为不完全贯穿有机膜层的凹陷部分。当然，在实际设计时，本发明具体实施例与框胶21对应位置处的有机膜层还可以包括围绕显示区13设置的多圈凹槽43，也可以包括围绕显示区13设置的多段凹槽43。

在实际设计时，本发明具体实施例中的有机膜层可以位于阵列基板的显示区13和非显示区，也可以仅位于阵列基板的非显示区。具体实施时，本发明具体实施例位于显示区13的有机膜层可以设置为预设高度的有机膜层，如：位于显示区13的有机膜层的预设高度可以以有机膜层与上面的其它膜层的接触面到该有机膜层与下面的其它膜层的接触面之间的距离作为预设高度，该预设高度的具体值根据实际生产设置；当然位于显示区13的有机膜层还可以在部分区域设置低于预设高度的凹槽和/或设置高于预设高度的突起柱。

具体地，如图4所示，本发明具体实施例中的有机膜层包括：突起柱42、凹槽43和标准高度有机膜层44；本发明具体实施例中突起柱42的材料与标准高度有机膜层44的材料相同，突起柱42与标准高度有机膜层44可以通过生产工艺一体成型，也可以分别形成，具体形成方法将在下面的制作方法部分做详细的介绍。

具体实施时，本发明具体实施例中可以将彩膜层制作在对向基板41上，也可以将彩膜层制作在阵列基板11上，彩膜层的具体制作方式与现有技术类似，这里不再赘述。

具体地，本发明具体实施例中的阵列基板11还包括位于衬底基板110上的薄膜晶体管、像素电极、公共电极、钝化层和取向层等膜层，本发明具体实施例中的薄膜晶体管、像素电极、公共电极、钝化层和取向层等膜层的结构由于不涉及到本发明具体实施例的改进点，因此这里不再详细介绍这些膜层的具体设置位置。本发明具体实施例中的图4中仅示出了位于衬底基板110上的有机膜层的情况，具体实施时，本发明具体实施例中的有机膜层可以位于公共电极和薄膜晶体管的源漏极金属层之间。

下面简单的说明一下本发明具体实施例中的突起柱的设置能够提升显示面板边框区域的界面结合力的原因：

断裂力学认为：任何材料都存在宏观缺陷(如缺口、孔洞、裂纹等)和结构缺陷(如位错、晶界、相界等)，那么材料在外力作用下产生破坏的过程就是材料裂缝的快速扩展并最终断裂的过程。而纤维增强复合材料的断裂可能会通过塑性形变、裂纹增长与分叉、界面分离、出现分层或纤维拨出与拉断等方式进行，这是一个能量耗散的过程，纤维在复合材料内是通过间隔阻断作用材料得以增强的。

根据以上断裂力学观点，突起柱42在框胶21中主要也是起到阻裂功能，同时增强了框胶21与阵列基板11侧的界面效应。框胶21实际上是一种由框胶及添加物粘结在一起的集料组合体，通过突起柱42与添加物的作用形成较大的摩擦角，加上突起柱42与框胶的粘聚作用，可以将框胶21所承受的拉应力传递给突起柱42来承担一部分即，突起柱42能够有效释放了裂纹的应力，起到强化框胶与阵列基板的结合力。

由于本发明具体实施例中的有机膜层包括至少一凹槽，因此在凹槽位置处能够增大框胶与阵列基板的接触面积，在一定程度上提升了显示面板边框区域的界面结合力；并且，由于本发明具体实施例中的有机膜层还包括至少一突起柱，根据以上断裂力学观点，突起柱能够承担一部分框胶所承受的拉应力，从而能够起到阻裂功能，因此突起柱的设置也能够提升显示面板边框区域的界面结合力；与现有技术相比，本发明具体实施例不仅可以通过有机膜层包括的凹槽提升显示面板边框区域的界面结合力，还可以通过有机膜层包括的突起柱提升显示面板边框区域的界面结合力，本发明具体实施例通过有机膜层包括的突起柱和凹槽的搭配设置能够很好的提升显示面板边框区域的界面结合力。

进一步地，为了更好的提升显示面板边框区域的界面结合力，本发明具体实施例在与至少一凹槽43对应位置处的对向基板41上设置隔垫物51，如图5和图6所示，图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的平面结构示意图，图6为图5中沿cc1方向的截面结构示意图；本发明具体实施例中隔垫物51在阵列基板11上的正投影位于凹槽43中，根据断裂力学观点，本发明具体实施例中隔垫物51也能承担一部分框胶21所承受的拉应力，从而能起到阻裂功能，本发明具体实施例突起柱42和隔垫物51搭配使用，能够更进一步的承担框胶21所承受的拉应力，从而能够更进一步的起到阻裂功能，因此能够更好的释放裂纹扩展的拉应力，从而能够进一步提升显示面板边框区域的界面结合力。

具体实施时，如图7所示，图7为本发明实施例提供的一种显示面板的边框位置的截面结构示意图，本发明具体实施例中的对向基板41包括衬底基板110、设置在衬底基板110上的黑矩阵413、红色滤光层411和蓝色滤光层412，本发明具体实施例中的隔垫物51可以直接设置在对向基板41的衬底基板110上，也可以设置在黑矩阵413上，还可以设置在蓝色滤光层412上，当然，实际设计时，隔垫物51还可以设置在红色滤光层411上，以及还可以设置在绿色滤光层(图中未示出)上，这样，隔垫物51的设置方式更加灵活、多变；本发明具体实施例中的衬底基板110可以为玻璃基板，也可以为石英基板，还可以为陶瓷基板等材料的基板。其中，上述色阻设置在非显示区域，这些设置在非显示区域的色阻能够提降低阵列基板的显示区域和非显示区域之间的高度差，这是由于显示区域要设置用于滤光的色阻，而非显示区域无需设置色阻，这导致了显示区域和非显示区域之间存在高度差，平整度较低。在本发明实施例中，如果显示区域和非显示区域存在段差，隔垫物51的高度与框胶的厚度比值较小，对裂纹的阻止效果较差。因此，本实施例中将隔垫物51设置在色阻上能进一步增强阻裂功能，从而能够进一步提升显示面板边框区域的界面结合力。

下面介绍一下隔垫物的具体设置位置。

在一种具体地实施例中，如图8所示，图8为本发明实施例提供的又一显示面板的边框位置的截面结构示意图，本发明具体实施例中的有机膜层包括三个凹槽43和五个突起柱42，其中图8中示出的三个凹槽43可以是围绕阵列基板的显示区设置的有机膜层分三圈挖槽后形成的凹槽43，当然，实际设计时，本发明具体实施例形成的多个凹槽也可以是围绕阵列基板的显示区设置的有机膜层仅一圈挖槽分成很多段后形成的凹槽，本发明具体实施例在与图8最左侧位置处的凹槽43对应位置处的对向基板41上设置隔垫物51，在与图8中间位置处的凹槽43对应位置处的对向基板41上设置隔垫物51，在与图8最右侧位置处的凹槽43对应位置处的对向基板41上不设置隔垫物。

当然，在另一种具体实施例中，本发明具体实施例还可以仅在与图8最左侧位置处的凹槽43对应位置处的对向基板41上设置隔垫物51，在与图8中间位置处的凹槽43对应位置处的对向基板41，以及在与图8最右侧位置处的凹槽43对应位置处的对向基板41上均不设置隔垫物。

为了更进一步地提升显示面板边框区域的界面结合力，优选地，本发明具体实施例中一个凹槽43对应至多个隔垫物51，如图9和图10所示，图9为本发明实施例提供的一种显示面板的边框位置的俯视结构示意图，图10为本发明实施例提供的另一显示面板的边框位置的俯视结构示意图，根据断裂力学观点，本发明具体实施例中多个隔垫物51的设置能够更大限度的承担框胶21所承受的拉应力，能够更大程度的起到阻裂功能，从而能够更进一步地提升显示面板边框区域的界面结合力；其中，图9为图6对应的俯视图，图10为图8对应的俯视图。

具体实施时，如图9和图10所示，本发明具体实施例中一个凹槽43的位置处可以对应一排隔垫物51，也可以对应两排隔垫物51，当然，还可以仅对应一个隔垫物51，也可以不对应隔垫物51。

优选地，本发明具体实施例中相邻两隔垫物51之间的距离大于或等于2.5微米(μm)，由于框胶21中包含有若干粒径为2μm到2.5μm的添加物，因此隔垫物51之间的距离大于或等于2.5μm时能够保证添加物在框胶21中的均匀分布。

具体地，本发明具体实施例中的突起柱42呈错位排列，如图9和图10所示，错位排列的突起柱42能够保证在多个位置处能起到阻裂功能，从而能够进一步提升显示面板边框区域的界面结合力。优选地，本发明具体实施例中相邻两突起柱42之间的距离大于或等于2.5μm，这时能够很好的保证添加物在框胶21中的均匀分布。

具体实施时，如图6所示，本发明具体实施例中突起柱42的高度满足公式：h2/3<h1<h2；其中：h1表示突起柱42的高度，h2表示有机膜层的高度，即h2表示突起柱42的高度与标准高度有机膜层44的高度之和。本发明具体实施例中若突起柱42的高度太低，则起不到很好的阻裂功能，当本发明具体实施例中的突起柱42的高度满足h2/3<h1<h2时，突起柱42起到的阻裂效果最佳。

具体地，本发明具体实施例中突起柱42的截面形状为方形、长条形、圆形或椭圆形，这里的截面形状指突起柱42的上底面或下底面向阵列基板的垂直投影的形状。当然，在实际生产时，本发明具体实施例中的突起柱42的截面形状还可以为其它形状，如：可以为圆弧形，本发明具体实施例并不对突起柱42的截面形状做限定。

具体地，本发明具体实施例中凹槽的截面形状为方形、长条形、圆形、椭圆形或折线形，这里的截面形状指凹槽的底面向阵列基板的垂直投影的形状。当然，在实际生产时，本发明具体实施例中的凹槽的截面形状还可以为其它形状，如：可以为圆弧形，本发明具体实施例并不对凹槽的截面形状做限定。具体实施时，凹槽的截面形状为折线形时如图11所示，图11为本发明实施例提供的又一显示面板的边框位置的俯视结构示意图，凹槽的截面形状为方形时如图12所示，图12为本发明实施例提供的再一显示面板的边框位置的俯视结构示意图。

如图9、图10、图11和图12所示，本发明具体实施例中突起柱、凹槽和隔垫物的设置方式更加灵活、多变，且通过突起柱、凹槽和隔垫物的不同设置方式的搭配使用，能够对框胶所承受的拉应力起到缓冲作用，从而能够更好的起到阻裂功能，能够进一步很好的提升显示面板边框区域的界面结合力。

需要说明的是，图9、图10、图11和图12中，为了清楚的表明有机膜44的挖槽位置，位于有机膜44上的框胶已经省略，仅仅示意出了位于有机膜凹槽中的框胶。实际实施例中框胶的位置可以参考图3至图6。

基于同一发明构思，本发明具体实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本发明具体实施例提供的上述显示面板，该显示装置可以为：手机、平板电脑、液晶电视、oled电视、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不予赘述。

基于同一发明构思，如图13所示，图13为本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法流程图，本发明具体实施例提供的显示面板的制作方法包括：

s1301、提供一衬底基板，在所述衬底基板上采用构图工艺制作有机膜层，使得所述有机膜层包括至少一突起柱和至少一凹槽；

s1302、在完成上述步骤的所述衬底基板与预先制作形成的对向基板之间制作框胶，所述突起柱的位置和所述凹槽的位置均与所述框胶的位置对应，并对所述衬底基板和所述对向基板进行对盒；其中：所述框胶在所述衬底基板上的正投影区域位于所述衬底基板的边框区域。

具体实施时，本发明具体实施例对向基板的具体制作方法、框胶的具体制作方法，以及将衬底基板与对向基板进行对盒的具体方法均与现有技术类似，这里不再赘述。

下面详细的介绍一下本发明具体实施例中制作有机膜层的具体方法。

在其中的一种具体实施方式中：

本发明具体实施例中在衬底基板上采用构图工艺制作有机膜层，包括：

在衬底基板上涂覆一层正性光阻层；

采用灰阶或半阶掩膜板对正性光阻层进行曝光，其中灰阶或半阶掩膜板的完全透光区域对应需要形成凹槽的区域，完全不透光区域对应需要形成突起柱的区域，部分透光区对应衬底基板上其它需要形成有机膜层的区域；

对完成上述步骤的正性光阻层进行显影，形成有机膜层。

具体实施时，本发明具体实施例可以采用旋涂的方式在衬底基板上涂覆一层正性光阻层；接着，采用灰阶或半阶掩膜板对正性光阻层进行曝光，灰阶或半阶掩膜板包括完全透光区域、完全不透光区域和部分透光区域(如：光的透过率为20％到50％)。

之后，对曝光后的正性光阻层进行显影，完全透光区域对应位置处的有机膜层被完全去掉，这样在完全透光区域对应位置处形成贯穿有机膜层的凹槽，完全不透光区域对应位置处的有机膜层被完全的保留下来，这样在完全不透光区域对应位置处形成突起柱，部分透光区对应位置处的有机膜层被部分的去掉，这样在部分透光区对应位置处形成标准高度有机膜层。

当然，在实际生产过程中，本发明具体实施例还可以采用旋涂的方式在衬底基板上涂覆一层负性光阻层，此时制作形成有机膜层的方法与采用正性光阻层制作形成有机膜层的方法类似，所不同的是，此时灰阶或半阶掩膜板完全透光区域对应需要形成突起柱的区域，完全不透光区域对应需要形成凹槽的区域，部分透光区对应衬底基板上其它需要形成有机膜层的区域。不过实际生产过程中，正性光阻层较负性光阻层的性能更加稳定，本发明具体实施例优选使用正性光阻层形成有机膜层。

在另一种具体实施方式中：

本发明具体实施例中在衬底基板上采用构图工艺制作有机膜层，包括：

在衬底基板上涂覆一层正性光阻层；

采用掩膜板对正性光阻层进行曝光，其中掩膜板包括第一透光区、第二透光区和第三透光区，第一透光区的透过率大于第二透光区的透过率，第二透光区的透过率大于第三透光区的透过率，第一透光区对应需要形成凹槽的区域，第三透光区对应需要形成突起柱的区域，第二透光区对应衬底基板上其它需要形成有机膜层的区域；

对完成上述步骤的正性光阻层进行显影，形成有机膜层。

具体实施时，本发明具体实施例可以采用旋涂的方式在衬底基板上涂覆一层正性光阻层，采用掩膜板对正性光阻层进行曝光时，第一透光区的透过率可以为80％，第二透光区的透过率可以为50％，第三透光区的透过率可以为10％。此外，第三透光区可以为上述实施例中的完全不透光区，即透过率为0％。

对曝光后的正性光阻层进行显影时，第一透光区对应位置处的有机膜层被去掉的厚度值最大，但并没有完全被去掉，这样在第一透光区对应位置处形成凹槽，形成的凹槽并不贯穿有机膜层；第三透光区对应位置处的有机膜层被去掉的厚度值最小，这样在第三透光区对应位置处形成突起柱，第二透光区对应位置处的有机膜层被去掉的厚度值介于第一透光区对应位置处的有机膜层被去掉的厚度值和第三透光区对应位置处的有机膜层被去掉的厚度值，这样在第二透光区对应位置处形成标准高度有机膜层。

当然，在实际生产过程中，本发明具体实施例还可以采用旋涂的方式在衬底基板上涂覆一层负性光阻层，此时制作形成有机膜层的方法与采用正性光阻层制作形成有机膜层的方法类似，所不同的是，此时第一透光区对应需要形成突起柱的区域，第三透光区对应需要形成凹槽的区域，第二透光区对应衬底基板上其它需要形成有机膜层的区域。

具体地，本发明具体实施例提供的显示面板的制作方法还包括：采用构图工艺在对向基板上制作至少一隔垫物，隔垫物与至少一凹槽的位置对应，本发明具体实施例中的构图工艺包括光刻胶的涂覆、曝光、显影、刻蚀、去除光刻胶的部分或全部过程。

具体实施时，本发明具体实施例可以采用旋涂的方式在对向基板上涂覆一层正性光阻层，采用掩膜板对正性光阻层进行曝光，其中掩膜板完全透光区域对应不需要形成隔垫物的区域，掩膜板的完全不透光区域对应需要形成隔垫物的区域，之后对曝光后的正性光阻层进行显影，形成隔垫物。

当然，在实际生产过程中，本发明具体实施例还可以采用负性光阻层形成隔垫物，采用负性光阻层形成隔垫物的方法与采用正性光阻层形成隔垫物的方法类似，所不同的是，此时掩膜板完全透光区域对应需要形成隔垫物的区域，掩膜板的完全不透光区域对应不需要形成隔垫物的区域。

综上所述，本发明具体实施例提供一种显示面板，包括相对设置的阵列基板和对向基板，以及设置在阵列基板和对向基板之间的框胶；框胶在阵列基板上的正投影区域位于阵列基板的边框区域；阵列基板包括衬底基板、位于衬底基板上的有机膜层；其中：与框胶对应位置处的有机膜层包括至少一突起柱和至少一凹槽。由于本发明具体实施例中的有机膜层包括至少一凹槽，因此在凹槽位置处能够增大框胶与阵列基板的接触面积，在一定程度上提升了显示面板边框区域的界面结合力；并且，由于本发明具体实施例中的有机膜层还包括至少一突起柱，而突起柱能够承担一部分框胶所承受的拉应力，从而能够起到阻裂功能，因此突起柱的设置能够提升显示面板边框区域的界面结合力；与现有技术相比，本发明具体实施例有机膜层包括的突起柱和凹槽的搭配设置能够很好的提升显示面板边框区域的界面结合力。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。