液晶显示面板及显示设备的制作方法

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板及显示设备。

背景技术：

液晶显示器(tft-lcd)因其体积小，功耗低和无辐射等特点，在当前平板显示市场占据主导地位。

请参阅图1，液晶显示面板一般包括阵列基板、彩膜基板及设于所述阵列基板及所述彩膜基板之间的液晶层。所述彩膜基板与所述阵列基板相对，且所述彩膜基板朝向所述阵列基板的一面设有公共电极(cf_vcom)。所述阵列基板上包括阵列设置的薄膜晶体管(tft)、与所述薄膜晶体管电连接的像素电极、交叉设置的数据线(dataline)及扫描线(gateline)。其中，所述扫描线用来开启薄膜晶体管(tft)开关，所述数据线通过开启的tft开关向像素电极中充入用于不同亮度显示的不同的数据电压。通过所述像素电极中充入的电压的不同，使得所述像素电极与所述彩膜基板上的公共电极之间产生电压差，从而控制所述液晶层中的液晶转动，进而实现画面显示。并且，所述阵列基板的像素电极与所述彩膜基板的公共电极(cf_vcom)，以及所述像素电极与所述公共电极之间的液晶层形成液晶电容clc；且所述阵列基板的所述扫描线与所述彩膜基板的公共电极之间也会形成耦合电容cp。

而当液晶面板进行驱动时，数据线(dataline)会间隔输出正极性与负极性的驱动电压。数据线上的正极性数据电压与负极性数据电压频繁切换时，会经由耦合电容cp对彩膜基板一侧的公共电极vcom_cf造成藕合，使公共电极cf_vcom电压产生变化，从而会产生水平串扰的现象。例如，以图2中所述的显示画面为例，其中，中间白色区域s1的灰阶为255灰阶，周围灰色区域s2的灰阶为127灰阶，且该液晶显示面板为tn型液晶显示面板，其极性反转方向为正极性帧反转，所述扫描线由上至下的一行行开启某一行的薄膜晶体管。在白色区域s1水平范围内的第一条扫描线将该区域水平范围内的第一行薄膜晶体管开启时，由于中间白色区域s1的的灰阶高于周围灰色区域s2的灰阶，所述白色区域s1内的所有数据线的数据线电压同时被提高，由于所述数据线与所述公共电极vcom_cf之间耦合电容cp的电容耦合作用的存在，会使得所述公共电极vcom_cf的电压同时被拉高。当所述扫描线将该行的所述薄膜晶体管关闭时，所述公共电极vcom_cf的电压仍然未恢复至设定电压，从而使得该行的所述薄膜晶体管对应的像素电极与公共电极之间的电压差实际上比设定值更小，从而使得实际显示的画面比实际的亮度更暗，从而出现一条水平的暗线a。同理，在白色区域s1水平范围下方灰色区域s2内的第一条扫描线将对应的一行薄膜晶体管开启时，所述公共电极vcom_cf的电压会由于所述数据线电压的降低而同时被降低。当所述扫描线将该行的所述薄膜晶体管关闭时，所述公共电极vcom_cf的电压仍然未恢复至设定电压，从而使得该行的所述薄膜晶体管对应的像素电极与公共电极之间的电压差实际上比设定值更大，从而使得实际显示的画面比实际的亮度更亮，从而出现一条水平的亮线b。其中，所述水平的案件a及水平的亮线b的出现即说明所述液晶显示面板产生水平串扰的现象，使得所述液晶显示面板的显示质量受到影响。

技术实现要素：

本发明的提供一种液晶显示面板及显示设备，减少公共电极层由于耦合电容cp的耦合作用而产生的电压变化的变化量，从而减轻水平串扰现象。

所述液晶显示面板，包括阵列基板、彩膜基板及设于所述阵列基板及所述彩膜基板之间的液晶层；所述彩膜基板包括第一衬底基板、依次层叠于所述第一衬底基板上的导电层、彩色光阻层及设于所述彩膜光阻层上的公共电极层，所述导电层、所述公共电极层与所述彩色光阻层形成附属电容，以增加所述公共电极的总电容。

其中，所述导电层为透明薄膜导电层。

其中，所述导电层与所述公共电极层的材料相同，所述导电层的形成材料为ito材料。

其中，所述导电层覆盖所述第一衬底基板。

其中，所述彩色光阻层包括黑矩阵及阵列并间隔设置的多个彩色光阻区块，所述黑矩阵位于任意相邻的两个所述彩色光阻区块之间的间隙中，所述导电层与所述黑矩阵相对，所述导电层在所述彩色光阻层内的投影位于所述黑矩阵内。

其中，所述导电层为金属薄膜导电层。

其中，所述阵列基板包括第二衬底基板及依次层叠于所述第二衬底基板上的第一金属层、半导体层、第二金属层及像素电极层，所述导电层与所述第一金属层或所述第二金属层的材料相同。

其中，所述导电层的厚度为500nm～1000nm。

其中，所述导电层包括金属薄膜导电部及透明薄膜导电部；所述金属薄膜导电部与所述黑矩阵相对，所述透明薄膜导电部与所述彩色光阻区块相对。

所述显示设备包括所述液晶显示面板。

本发明提供的所述液晶显示面板，通过在所述彩膜基板的第一衬底基板及所述彩色光阻层之间形成所述导电层，使得所述导电层、所述公共电极层与所述彩色光阻层形成附属电容，从而增加公共电极的总电容，减小由于所述耦合电容的耦合作用而使所述公共电极层上产生的电压变化的变化量，进而减轻所述液晶显示面板的水平串扰现象。

附图说明

为更清楚地阐述本发明的构造特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。

图1为现有技术中的所述液晶显示面板的一个像素单元的电路结构图；

图2为现有技术中的所述液晶显示面板的显示示意图；

图3是本发明一实施例的截面示意图；

图4是本发明另一实施例的截面示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。其中，附图仅用于示例性说明，表示的仅是示意图，不能理解为对本专利的限制。

请参阅图3，本发明提供一种液晶显示面板100。所述液晶显示面板100包括阵列基板10、彩膜基板20及设于所述阵列基板20及所述彩膜基板之间的液晶层30。通过变化加载在所述液晶层30两侧的不同区域的电压，从而实现所述液晶显示面板100进行不同的画面显示。

所述阵列基板10包括第二衬底基板11及依次层叠于所述第二衬底基板11上的第一金属层12、半导体层13、第二金属层14、钝化层15及像素电极层16。所述第一金属层12与所述第二金属层14的材料可以相同，也可以为不同的材料。本实施例中，所述第一金属层12与所述第二金属层14为相同的材料形成。所述阵列基板10包括阵列设置的薄膜晶体管及与所述薄膜晶体管电连接的数据线、扫描线等。所述第一金属层12包括所述薄膜晶体管的栅极及所述扫描线，且所述薄膜晶体管的栅极与所述扫描线的通过同一制程形成。所述第二金属层14包括所述薄膜晶体管的源极、漏极以及所述数据线，且所述薄膜晶体管的源极、漏极及所述数据线通过同一制程形成。所述像素电极层16包括阵列设置的像素电极，每个像素电极通过过孔与一个所述薄膜晶体管电连接。所述扫描线控制所述薄膜晶体管的开闭，所述数据线通过所述薄膜晶体管往与所述薄膜晶体管对应的所述像素电极上输入不同的数据信号，进而控制所述液晶显示面板进行不同的画面显示。

所述彩膜基板20包括第一衬底基板21、依次层叠于所述第一衬底基板21上的导电层22、彩色光阻层23及设于所述彩膜光阻层上的公共电极层24。

所述导电层22通过气相沉积、旋涂、喷墨打印或者溅镀等工艺沉积于所述第一衬底基板21上。具体的，根据所述导电层22的材料不同选择不同的形成工艺。其中，所述导电层22可以为透明的导电薄膜层或者非透明的薄膜导电层，且所述导电层22也可以全部覆盖所述第一衬底基板21，也可以部分覆盖所述第一衬底基板21。本实施例中，所述导电层22为透明的氧化铟锡(ito)薄膜导电层，通过将ito材料通过喷墨打印的方式形成于所述第一衬底基板21上并全部覆盖所述第一衬底基板21。本发明中，所述导电层22具有一定的厚度，从而防止所述导电层22过薄而容易从所述第一衬底基板21上脱落的现象产生。同时，又需要避免所述导电层22的厚度过厚，保证所述液晶显示面板100的薄型化，同时保证所述导电层22所述液晶显示面板100的具有较高的光线透过率，以保证所述液晶显示面板100的显示效果。本实施例中，所述导电层22的厚度为500nm～1000nm。

所述彩色光阻层23包括黑矩阵231及阵列并间隔设置的多个彩色光阻区块232，所述黑矩阵231位于任意相邻的两个所述彩色光阻区块232之间的间隙中。所述彩色光阻层23的具体形成方法为：在所述导电层22上形成黑矩阵材料层，图案化所黑矩阵材料层，以得到具有阵列并间隔设置的多个开口的黑矩阵231。进一步的，在所述黑矩阵231的开口内沉积不同颜色的彩色光阻材料，以形成多个彩色光阻区块232，从而得到所述彩色光阻层23。

所述公共电极层24层叠于所述彩色光阻层23上并覆盖所述彩色光阻层23。并且，所述公共电极层24为透明的导电材料形成，以避免所述公共电极层24对所述液晶显示面板100光线透过率的影响。本实施例中，所述公共电极层24为与所述导电层22相同的氧化铟锡(ito)材料形成，从而减少所述液晶显示面板100制备过程中使用的材料种类，进而简化所述液晶显示面板100的制备过程及制作成本。所述导电层22、所述公共电极层24与所述彩色光阻层23形成附属电容c3。其中，所述附属电容c3以所述导电层22及所述公共电极层24作为附属电容c3的电极板，以所述导电层22及所述公共电极层24之间的彩色光阻层23作为介质。由于所述导电层22与所述公共电极层24之间形成附属电容c3，从而增加所述公共电极层24的总电容c2。其中，所述公共电极层24的总电容c2为以所述公共电极层24作为一个电极板的所有电容的和，包括以所述公共电极层24及所述像素电极作为电极板的液晶电容clc，以及以所述公共电极层24及数据线作为电极板的耦合电容cp等。本发明中，通过增加一个所述附属电容c3，从而增加所述公共电极层24的总电容。根据公共电极层24上电压变化量的经验公式：

δu＝δv×clc/c2

其中，所述δu为公共电极层24上电压变化量，δv为输入所述像素电极的数据信号的电压变化量，clc为数据线与所述公共电极层24形成的耦合电容的大小，c2为所述公共电极层24的总电容大小。本发明中，输入所述像素电极的数据信号的电压变化量δv根据设定值进行输入；所述数据线与所述公共电极层24形成的耦合电容的大小c1在所述数据线结构及所述公共电极层24结构不变的情况下，所述c1的大小不变。而本申请中，通过增加所述公共电极层24的总电容c2的大小，能够减小由于所述耦合电容cp的耦合作用而使所述公共电极层24上产生的电压变化的变化量，从而减轻水平串扰现象，使得所述液晶显示面板100好的显示效果。

请参阅图4，本发明还提供另一种液晶显示面板200，所述液晶显示面板200与所述液晶显示面板100的差别在于：所述导电层22为不透明的金属导电材料包括但不限于为金属铜薄膜层、金属银薄膜层或者金属铝薄膜层等。由于所述导电层22为不透明的金属导电材料，因此需要对所述导电层22进行图案化，使得所述导电层22仅部分覆盖所述第一衬底基板21，从而避免所述导电层22对所述液晶显示面板100出光的影响。具体的，本实施例中，通过对所述导电层22进行图案化，使得所述导电层22与所述彩色光阻层的黑矩阵231相对，使得所述导电层22在所述彩色光阻层23内的投影位于所述黑矩阵231内，从而避免不透光的所述导电层22影响所述液晶显示面板100的出光。进一步的，本实施例中，所述导电层22的材料与所述阵列基板10的第一金属层12或者所述第二金属层14的材料相同，从而减少制作所述阵列基板10时使用材料的种类，进而减少所述阵列基板10制作成本。进一步的，所述导电层22的图案化区域，即与所述彩色光阻区块所对应的区域内填充所述彩色光阻材料，或者填充透明材料，以避免所述彩色光区块的厚度过厚，使得所述液晶显示面板具有较好的显示效果。可以理解的是，在本发明一些实施例中，所述透明材料可以为透明导电材料，即所述导电层包括金属薄膜导电部及透明薄膜导电部。其中，所述金属薄膜导电部与所述黑矩阵相对，所述透明薄膜导电部与所述彩色光阻区块相对。换句话说，所述金属薄膜导电部在所述彩色光阻层上的投影位于所述黑矩阵内，所述彩色光阻区块在所述导电层22上的投影位于所述透明薄膜导电部内。从而在保证所述液晶显示面板100的显示效果的同时，增加所述附属电容c3的大小，从而增加所述所述公共电极层24的总电容c2的大小，减轻水平串扰的产生。

本发明提供的所述液晶显示面板，通过在所述彩膜基板的第一衬底基板及所述彩色光阻层之间形成所述导电层，使得所述导电层与所述公共电极层之间形成一附属电容，从而增加公共电极的总电容，进而减小由于所述耦合电容cp的耦合作用而使所述公共电极层上产生的电压变化的变化量，减轻水平串扰现象，提高所述液晶显示面板的显示效果。

本发明还提供一种显示设备，所述显示设备包括所述的液晶显示面板。所述显示设备可以为手机、平板、电脑、智能手表、电子书、电子报纸等各种显示设备。

以上所述为本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。