一种阵列基板、显示面板及显示装置的制作方法

文档序号:12906129阅读:156来源:国知局
一种阵列基板、显示面板及显示装置的制作方法

本实用新型涉及液晶显示技术领域,更具体地说,涉及一种阵列基板、显示面板及显示装置。



背景技术:

液晶显示装置由于具有低辐射、体积小及功耗低等优点,已被广泛应用于人们的生活和工作中,具体如应用在笔记本电脑、个人数字助理、平面电视、移动电话等电子设备中。

液晶显示面板包括阵列基板,彩膜基板,以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。其中,阵列基板与液晶层之间设置有配向膜,用于在没有外加电场下,使液晶分子长轴与配向层表面保持一个预倾角,以使液晶分子在外加电场下沿同一方向转动。

一般地,配向膜的制作过程包括,将配向液印刷至基板,采用摩擦布按照一定的方向对基板上的配向液进行摩擦,使配向液表层的分子链形成定向排列,从而使配向层对液晶分子具有一定的锚定能力,进而使液晶分子按照一定的预倾角进行排列。

但是,现有技术中,具有触控功能的显示面板容易出现显示效果不佳的情况。



技术实现要素:

有鉴于此,本实用新型提供了一种阵列基板、显示面板及显示装置,显示效果具有显著提高。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

一种阵列基板,包括显示区和围绕所述显示区的非显示区,包括:

衬底基板;

位于衬底基板上的触控电极;

多个并行排布的触控走线,所述触控走线与所述触控电极电连接;

多个与所述触控走线平行的虚置走线,其中,所述虚置走线与所述触控走线同层,且所述虚置走线位于所述非显示区内;

覆盖所述触控走线的配向层。

优选的,所述虚置走线之间的间隔距离与所述触控走线之间的间隔距离相等。

优选的,所述虚置走线的高度与所述触控走线的高度相等。

优选的,所述虚置走线为绝缘体。

优选的,所述虚置走线为导体,所述虚置走线包括多个虚置线段,所述多个虚置线段位于同一直线上。

优选的,所述虚置走线并行排布在所述触控走线的两侧,所述虚置走线与所述触控走线之间的间隔距离与所述触控走线之间的间隔距离相等。

优选的,所述触控走线的两侧分别设有至少2条所述虚置走线。

优选的,所述虚置走线位于所述触控走线的两端,任一触控走线对应两条虚置走线,所述两条虚置走线与对应触控走线位于同一直线上,且所述触控走线与对应的虚置走线绝缘。

优选的,所述虚置走线的长度大于或等于100μm。

一种显示面板,包括:上述的阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜板,和,位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层。

一种显示装置,包括上述方案中的任一显示面板。

与现有技术相比,本实用新型所提供的技术方案具有以下优点:

本实用新型实施例提供的阵列基板、显示面板及显示装置,在非显示区设置多个与所述触控走线平行,且与所述触控走线同层的虚置走线,以使阵列基板设置配向层一侧的表面,显示区与非显示区的形貌保持一致,进而避免配向层的形成过程中,摩擦布对基板上的配向液进行摩擦时,由于显示区 和非显示区形貌不一致造成的摩擦布绒毛方向的改变,导致的显示区分子链方向不一致的问题,进而提高了显示面板的显示效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一实施例中显示区分区示意图;

图2为本实用新型一实施例中阵列基板的结构示意图;

图3为本实用新型一实施例中虚置走线的结构示意图;

图4为本实用新型另一实施例中虚置走线的结构示意图;

图5为本实用新型一实施例中虚置走线的结构示意图;

图6为本实用新型又一实施例中虚置走线的结构示意图;

图7为本实用新型一实施例中显示面板的结构示意图;

图8为本实用新型一实施例中的显示装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型,但是本实用新型还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施,本领域技术人员可以在不违背本实用新型内涵的情况下做类似推广,因此本实用新型不受下面公开的具体实施例的限制。

其次,本实用新型结合示意图进行详细描述,在详述本实用新型实施例 时,为便于说明,表示器件结构的示意图会不依一般比例作局部放大,而且所述示意图只是示例,其在此不应限制本实用新型保护的范围。此外,在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。

如背景技术所述,配向膜的制作过程包括,将配向液印刷至基板,采用摩擦布按照一定的方向对基板上的配向液进行摩擦,使配向液表层的分子链形成定向排列,从而使配向层对液晶分子具有一定的锚定能力,进而使液晶分子按照一定的预倾角进行排列。

但是,现有技术中,具有触控功能的显示面板容易出现显示效果不佳的情况。

针对造成具有触控功能的显示面板出现显示效果不佳,发明人经过研究分析后发现,在显示面板的结构中,设置有晶体管阵列和对应的走线(如栅极线和数据线),以及覆盖晶体管阵列及其走线的平坦化层,以使显示面板表面保持平坦表面。在具有触控功能的显示面板中,设置有触控电极和触控走线,其中,触控电极和触控走线设置于显示面板的平坦化层之上。由于触控电极一般厚度较小,可以忽略,因此,平坦化层上的触控走线造成了显示面板表面不平坦,且由于触控走线仅位于显示区,造成了显示面板对应显示区和非显示区的表面,整体形貌不一致。

而在进行配向膜的制作过程中,摩擦布按照一定的方向对基板上的配向液进行摩擦,由于显示面板对应显示区和非显示区的表面的整体形貌不一致,造成了摩擦布绒毛方向的改变,导致对应显示区的配向层中,位于显示区边缘的分子链方向和位于显示区内部的分子链方向不一致,进而导致显示区内液晶分子的预倾角不一致,影响了显示面板的显示效果。

有鉴于此,本实用新型发明人提出一种阵列基板、显示面板和显示装置,包括显示区和围绕所述显示区的非显示区,包括:衬底基板;位于衬底基板上的触控电极;多个并行排布的触控走线,所述触控走线与所述触控电极电连接;多个与所述触控走线并行排布的虚置走线,其中,所述虚置走线与所述触控走线同层,且所述虚置走线位于所述非显示区内;覆盖所述触控走线的配向层。

其中,将本实用新型中的阵列基板的划分为显示区和围绕所述显示区的非显示区,显示区为阵列基板内部出射光线并进行图像显示的区域,非显示区为显示区外围的边框区域,具体的,可以在本实用新型公开的基础上根据实际情况进行设置。

所述衬底基板为透明材质的基板,如玻璃等,用于为阵列基板提供支撑。所述衬底基板上设置有晶体管阵列和走线,以及位于晶体管阵列和走线上方的像素电极和公共电极,其中,晶体管阵列和走线,用于对像素电极和公共电极进行控制,以使像素电极和公共电极形成对应的电场,进而控制液晶进行翻转,以控制光线的通过量。

在具有触控功能的阵列基板中,还在所述衬底基板上设置触控走线和触控电极。其中,在一些实施例中,触控电极可以与公共电极复用,以降低阵列基板的厚度。触控走线与触控电极电连接,用于为触控电极提供触控信号,进而对用户的触摸动作进行检测。

在本实用新型中,还包括多个与触控走线并行排布的虚置走线,其中,所述虚置走线与所述触控走线同层,且所述虚置走线位于所述非显示区内。通过在非显示区设置与触控走线并行排布的虚置走线,用于使阵列基板的非显示区与显示区的形貌保持一致,进而避免配向层的形成过程中,摩擦布对基板上的配向液进行摩擦时,由于显示区和非显示区形貌不一致造成的摩擦布绒毛方向的改变,导致的显示区分子链方向不一致的问题,进而提高了显示面板的显示效果。

以上是本申请的基础思想,为了使本实用新型实施例提供的技术方案更加清楚,下面对本实用新型上述技术方案进行详细描述。

本实用新型一个实施例提供了一种阵列基板,如图1所示,所述阵列基板包括显示区11和围绕所述显示区的非显示区12,其中,显示区11为阵列基板内部出射光线并进行图像显示的区域,非显示区12为显示区外围的边框区域。

如图2所示,所述衬底基板210为透明材质的基板,如玻璃等,用于为阵列基板提供支撑。所述衬底基板上设置有晶体管阵列201和走线202,其中, 所述走线202包括栅极线和数据线,以及,位于晶体管阵列201和走线202上方的像素电极203和公共电极204。通过晶体管阵列201和走线202,对像素电极203进行控制,以使像素电极203和公共电极204形成对应的电场,进而控制液晶进行翻转。

其中,衬底基板210上还设置有覆盖晶体管阵列201和走线202的平坦化层220,用于将衬底基板210设置有晶体管阵列201和走线202的表面进行平坦化。

在本实施例中,衬底基板210上设置有触控电极204,在本实施例中,所述触控电极复用所述公共电极,以降低所述阵列基板的厚度。在本实用新型的其他实施例中,也可以分别设置公共电极和触控电极,本领域技术人员可以在本实用新型公开的基础上进行设置,本实用新型在此不做限制。

并且,在本实施例中,阵列基板还包括多个并行排布的触控走线205,触控走线205与所述触控电极204电连接,用于为触控电极提供触控信号,进而对用户的触摸动作进行检测。

其中,在本实施例中,触控电极204和触控走线205都设置与平坦化层220上。具体的,像素电极203与触控走线交错设置在平坦化层220的表面,触控电极204位于像素电极203上,且触控电极204与像素电极203之间设置有绝缘层。

在本实施例中,所示阵列基板上还包括多个与所述触控走线205并行排布的虚置走线206,其中,所述虚置走线与所述触控走线同层,且所述虚置走线位于所述非显示区。通过在非显示区设置与触控走线并行排布的虚置走线206,用于使阵列基板的非显示区与显示区的形貌保持一致,进而避免配向层的形成过程中,摩擦布对基板上的配向液进行摩擦时,由于显示区和非显示区形貌不一致造成的摩擦布绒毛方向的改变,导致的显示区分子链方向不一致的问题。

其中,如图3所示,非显示区12内,所述虚置走线206之间的间隔距离D1与显示区11内的所述触控走线205之间的间隔距离D2相等,以使阵列基板的非显示区与显示区的形貌最大程度上保持一致。并且,还可以设置虚置走线206与所述触控走线205之间的间隔距离D3与所述触控走线之间的间隔 距离D2相等,以使阵列基板的非显示区与显示区的形貌最大程度上保持一致。

进一步的,所述虚置走线的高度与所述触控走线的高度相等,以使阵列基板的非显示区与显示区的形貌最大程度上保持一致。

并且,为避免虚置走线影响阵列基板的电学性能,可以设置所述虚置走线为绝缘体。在本实施例中,为简化工艺,设置虚置走线为导体,使虚置走线能够与触控走线在同一工艺中形成,进而使阵列基板形成配向层一侧的形貌保持一致。

在本申请另一实施例中,如图4所示,所述虚置走线为导体,为尽量减少虚置走线对阵列基板的电学性能的影响,设置虚置走线包括多个虚置线段,如图4中的206a、206b和260c,虚置线段之间相互绝缘,且该多个虚置线段位于同一直线上,以共同构成虚置走线。

并且,所述虚置走线206应该设置在非显示区中被对基板配向液进行摩擦的区域覆盖的区域。在负性液晶触控面板中,摩擦布对基板上的配向液进行摩擦的区域为触控走线以及触控走线的两侧的非显示区,因此,将所述虚置走线设置在触控走线的两侧,具体的,在本实用新型的一个实施例中,如图5所示,所述虚置走线206并行排布在所述触控走线205的两侧,所述虚置走线206与所述触控走线205之间的间隔距离D3与所述触控走线之间的间隔距离D2相等。

为保证效果,所述触控走线205的两侧分别设有至少2条所述虚置走线206。具体的,在本实施例中,如图5所示,触控走线205的两侧的虚置走线的条数分别为3条,在本申请的其他实施例中,所述虚置走线条数还可以为4条、5条、6条,其中,条数越多,对显示效果的改善越好,本领域技术人员可以在本申请公开的基础上进行对应的设置。

在本申请的又一实施例中,可以采用正性液晶触控面板,此时,摩擦布对基板上的配向液进行摩擦的区域为触控走线以及触控走线的两端的非显示区,因此,将所述虚置走线设置在触控走线的两端,具体的,如图6所示,所述虚置走线206位于所述触控走线205的两端,任一触控走线205对应两 条虚置走线206,所述两条虚置走线206与对应触控走线205位于同一直线上,且所述触控走线与对应的虚置走线绝缘。

具体的,在本实施例中,所述虚置走线206的长度大于或等于100μm。在本申请的其他实施例中,所述虚置走线还可以大于或等于150μm,或者,大于或等于200μm,其中,长度越大,对显示效果的改善越好,本领域技术人员可以在本申请公开的基础上进行对应的设置。

可以看出,本实用新型实施例中的阵列基板通过在对基板上的配向液进行摩擦的区域覆盖的非显示区内设置多个与所述触控走线平行,且与所述触控走线同层的虚置走线,以使阵列基板设置配向层一侧的表面,显示区与非显示区的形貌保持一致,进而避免配向层的形成过程中,摩擦布对基板上的配向液进行摩擦时,由于显示区和非显示区形貌不一致造成的摩擦布绒毛方向的改变,导致的显示区分子链方向不一致的问题,进而提高了显示面板的显示效果。

在本实用新型的一个实施例中,还提供了一种显示面板,如图7所示,所述显示面板包括阵列基板100和彩膜基板200,以及,位于阵列基板100和彩膜基板200之间的液晶层300,其中,虚线框内为显示区,虚线框外为非显示区,阵列基板上显示区内包括触控电极204,以及触控走线205,非显示区内包括与触控走线205平行的虚置走线206。

其中,本实用新型实施例中的显示面板通过在对基板上的配向液进行摩擦的区域覆盖的非显示区内设置多个与所述触控走线平行,且与所述触控走线同层的虚置走线,以使阵列基板设置配向层一侧的表面,显示区与非显示区的形貌保持一致,进而避免配向层的形成过程中,摩擦布对基板上的配向液进行摩擦时,由于显示区和非显示区形貌不一致造成的摩擦布绒毛方向的改变,导致的显示区分子链方向不一致的问题,进而提高了显示面板的显示效果。

在本实用新型的一个实施例中,还提供了一种显示装置,如图8所示,包括上述实施例中的显示面板400。

同样的,本实用新型实施例中的显示装置通过在对基板上的配向液进行摩擦的区域覆盖的非显示区内设置多个与所述触控走线平行,且与所述触控走线同层的虚置走线,以使阵列基板设置配向层一侧的表面,显示区与非显示区的形貌保持一致,进而避免配向层的形成过程中,摩擦布对基板上的配向液进行摩擦时,由于显示区和非显示区形貌不一致造成的摩擦布绒毛方向的改变,导致的显示区分子链方向不一致的问题,进而提高了显示面板的显示效果。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言,由于其与实施例公开的方法相对应,所以描述的比较简单,相关之处参见方法部分说明即可。

对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

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