本实用新型属于曝光机结构设计技术领域，尤其是涉及一种双面冷光源曝光机。
背景技术：
在现有的技术中，普通曝光机多采用汞灯光源，但是由于汞灯光源的功率过大，容易造成热面积的累计，而且普通的曝光机并不能对光源与凸镜之间的距离进行调节，造成曝光机的调节很不便捷，同时普通的曝光机多采用风冷散热，散热效果很有限。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种双面冷光源曝光机，该曝光机可实现双面曝光，大大提高了曝光机的加工效率，而且该曝光机采用水循环式散热器，提高了曝光机的散热效率。
为达上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种双面冷光源曝光机，包括支撑架、曝光光源结构架、LED紫外光源、快门板、光源距离调节尺、凸透镜、载片台和水冷式散热器，其特征在于：两个所述曝光光源结构架分别设置在所述支撑架的上下两端，所述载片台设置在两个所述曝光光源结构架中间，所述LED紫外光源设置在所述曝光光源结构架内部，所述LED紫外光源的光束依次穿过所述快门板和所述凸透镜达到载片台上，所述光源距离调节尺与所述支撑架相连，所述水冷式散热器与所述LED紫外光源相连。
优选地，所述快门板与控制电机相连。
优选地，所述曝光光源结构架通过滑动轨道与所述支撑架相连。
优选地，所述水冷式散热器通过循环管与水冷储存器相连。
本实用新型具有的优点和积极效果是：由于采用上述技术方案，使得该曝光机能够实现双面曝光，大大提高曝光机的曝光效率，另外该曝光机可通过光源距离调节尺来实现光源与凸镜之间的距离调节，利用水冷式散热器能够大大改善传统风冷散热器的散热效率。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图；。
图中：1、支撑架；2、曝光光源结构架；3、LED紫外光源；4、快门板；5、光源距离调节尺；6、凸透镜；7、载片台；8、水冷式散热器。
具体实施方式
下面对照附图，通过对实施例的描述，对本实用新型的具体实施方式，如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明。
如图1所示，本实用新型提供一种双面冷光源曝光机，包括支撑架1、曝光光源结构架2、LED紫外光源3、快门板4、光源距离调节尺5、凸透镜6、载片台7和水冷式散热器8，两个曝光光源结构架2分别设置在支撑架1的上下两端，载片台7设置在两个曝光光源结构架2中间，LED紫外光源3设置在曝光光源结构架2内部，LED紫外光源3的光束依次穿过快门板4和凸透镜6达到载片台7上，光源距离调节尺5与支撑架1相连，水冷式散热器8与LED紫外光源3相连。
优选地，快门板4与控制电机相连。
优选地，曝光光源结构架2通过滑动轨道与支撑架1相连。
优选地，水冷式散热器8通过循环管与水冷储存器相连。
本实用新型具有的优点和积极效果是：由于采用上述技术方案，使得该曝光机能够实现双面曝光，大大提高曝光机的曝光效率，另外该曝光机可通过光源距离调节尺来实现光源与凸镜之间的距离调节，利用水冷式散热器能够大大改善传统风冷散热器的散热效率。
以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。