高折射率(HRI)衬底以及其制造方法与流程

本公开涉及用于有机发光二极管的多功能柔性衬底。

背景技术：

常规上，为了从有机发光二极管(oled)器件中提取内部光，其可以被捕获(例如，内反射)在氧化铟锡(ito)层和衬底之间，已经开发了某些结构化层。oled器件的低提取效率至少部分地归因于空气、衬底和有机/ito层之间的折射率的差异。提高这种低提取效率对于照明应用仍然是一个挑战。已经研究了各种技术，其可以减少oled器件中衬底、波导和表面等离子体激元(sr)模式，从而提高由oled器件的提取效率。因为在ito层和衬底之间制造的层或结构可导致ito层的表面粗糙度增加，产生高电流泄漏和低效率，所以存在对减小ito层和衬底之间的波导模式的限制。另外，这种方法需要复杂的制造工艺，导致高制作成本。

通过本公开的方面，解决了这些和其他缺点。

技术实现要素：

本公开的方面涉及高折射率(hri)衬底，其展现高提取效率、柔韧性、和高透射率性能。hri衬底包括在聚合物材料中分散的多个纳米颗粒。所述颗粒的大小范围为从1纳米(nm)至50nm或从大约1nm至大约50nm、或从大于100nm至200nm或从大于100至大约200nm。

在一些方面，hri衬底可以包括作为散射层的大小大于100nm的颗粒。包括这类颗粒的hri衬底可以展现由oled器件的较高提取效率。

一些方面涉及使用高折射率(hri)衬底以及其用于oled器件的各种制造方法。

在一些方面，将具有高折射率(n)(n＝1.7～2.5，或大约1.7至大约2.5)的纳米颗粒(小于50nm)与聚合物粒状物或聚合物溶液混合，然后将混合物挤出为衬底或膜层。另外，可以将大于100nm大小的颗粒混合入hri衬底，从而用作散射层。通过该途径，我们可以为oled器件应用和未来工业应用提供具有高提取效率、柔韧性、和高透射率性能的hri衬底。本公开还涉及包括这类柔性衬底的制品和制作这类制品和衬底的方法。

在仍其他方面，本公开涉及包括hri衬底的oled，制造hri衬底的方法和制造包括hri衬底的oled的方法。

附图说明

图1显示了高折射率衬底如何提高光提取的示意图。

图2呈现了根据折射率等级的结构的实例的示意图。

图3显示了通过原子层沉积制作的具有折射率等级的衬底的工艺示意图。

图4呈现了如何通过使用筛网印刷方法制造hri膜的示意图。

图5呈现了如何通过注射工艺产生的工艺示意图。纳米颗粒配料比范围从90wt.％至5％。

图6显示了hri衬底上透明电极的结构，hri衬底的ri范围从1.7至2.0。

图7显示了在hri衬底上透明电极形成的实例的说明。氧化铟锡(ito)、氧化锡(ii)(sno)、氧化铟镓锌(igzo)、氧化铟锌(izo)等金属氧化物可以被沉积至高耐热且高折射率衬底上。或者，可以通过强脉冲光烧结法涂覆和固化诸如ito、sno、igzo、izo的液体溶液的金属氧化物。在该情况中，ultem^tm被用于基础衬底。

图8a和8b呈现了集成有透明电极层的高折射率衬底的示意图。

具体实施方式

在一些方面，制造高折射率(hri)衬底，纳米颗粒包含在聚合物衬底内。纳米颗粒(具有高折射率(n＝1.7～2.5))分散至在聚合物粒状物或聚合物溶液或硅氧烷溶液中。然后可以使用常规技术使用该混合物制造衬底。

与常规玻璃衬底相比，当施加hri衬底至oled器件时，hri衬底——其可以减少来自oled器件的波导模式——可以展现提取效率和柔韧性。作为不同的实例，通过添加大小大于100nm的颗粒作为散射层，该hri衬底可以展现来自oled器件的更高的提取效率。由此，我们可以通过使用具有散射层的hri衬底实现更高的效率和柔性oled。额外地，hri衬底可以满足诸如低成本、薄厚度和高效率等的各种要求，替代刚性衬底比如玻璃。

图1显示了高折射率衬底100以及衬底如何可以提高光提取的示意图。具有高折射率的纳米颗粒102被分散在聚合物溶液104中，然后该层可以被形成为膜。

hri衬底

hri衬底可以包含基础衬底，其包括具有透明度的聚合物材料。适合的聚合物材料包括聚碳酸酯(pc)、聚对苯二甲酸乙二酯(pet)、聚萘二甲酸乙二酯(pen)、聚对苯二甲酸丁二酯(pbt)、聚酯、聚醚砜(pes)、聚醚醚酮(peek)以及其组合。在一些方面，基础衬底包括pen或pet。在进一步方面，基础衬底包括聚碳酸酯。在某些方面，基础衬底具有选自表面粗糙度、透明度和耐化学性的性质中的一种或多种。在一些方面，当包括在基础衬底中时，pen展现这些性质。出于操纵目的，基础衬底的初始厚度可以为100微米(μm)至150μm(或大约100μm至大约150μm)。虽然在一些方面中薄膜是期望的，但是太薄的膜可能难于控制。无论在基础衬底中的性质如何，涂覆的材料可以提供高性能阻挡层(barrier)。因此，可以使用优化涂覆的材料的密度的工艺的机器。涂覆层的厚度可以为100nm至150nm或从大约100nm至大约150nm。

在某些方面，衬底是柔性的并且具有在其中分散的纳米颗粒，所述颗粒的大小范围从5μm至250μm或大约5μm至大约250μm。在一些方面，衬底的折射率(n)为从1.7至2.5或从大约1.7至大约2.5。在具体的方面，衬底的透射率为从80％至95％或大约80％至大约95％。在进一步方面，衬底的水蒸气透过率(wvtr)为10^-6克每平方米每天(g/m²天)。相比于基本上类似的而没有无机精细颗粒的衬底，包括分散的无机精细颗粒的衬底可以展现提高的储存模量和减少的热膨胀效率。基本上类似可以意思是在容限内，在相同条件下制备的相同材料和结构。

额外地，优选的衬底在紫外(uv)波长范围中不具有光催化反应性并且具有2以下的黄色指数值。

如图2中所示，多个hri衬底可以驻留在聚合物支撑衬底上。在一些方面，hri衬底将在折射率方面改变。在具体方面，支撑衬底的折射率为1.58(聚合物衬底)并且随着hri衬底层离支撑衬底越远驻留，每个hri衬底层折射率更大。聚合物支撑衬底可以任选地没有无机纳米颗粒并且由上面对于hri衬底讨论的聚合物构建。

图3图解了形成具有折射率等级的hri衬底，其可以通过原子层沉积或夹缝式挤压型涂覆(slotdiecoating)制作。图3a呈现了衬底或聚合物膜，在图3b中向衬底或聚合物膜添加第一涂层粘合剂302。在图3c，例如，经由喷雾器306向第一涂层粘合剂302施加第一多个纳米颗粒304。如图3d中所示，可以施加第二涂层粘合剂308。如图3e中所示，可以向第二涂层粘合剂308施加第二多个纳米颗粒310。在图3f，可以施加第三粘合剂涂层312，由此形成图3g中所呈现的纳米颗粒多层。每个层的厚度范围从5nm至100nm，或从大约5nm至大约100nm。可以通过改变每个层的厚度而调节折射率。在进一步实例中，每个层(即，第一或第二，或随后的多个纳米颗粒)可以是每个具有各自折射率的不同纳米颗粒。

图4显示了如何经由示例性但非限制性筛网印刷方法制造hri膜的示意图。可以使用刮板(squeegee)420或其他涂布装置来布置纳米颗粒溶液422跨越(通过框架在适合位置保持的)426筛网424，其中筛网被布置紧邻聚合物衬底428的表面。衬底被保持在装配有真空压力的支撑体(诸如台430)处的适当位置。

图5显示了如何通过注射工艺生产hri层的一个工艺示意图。可以在容器564中组合聚合物560和纳米颗粒分散溶液562。可以在挤出机566中配料和粒化组合以形成粒状物568，然后在注射成型装置570中注射成型以提供膜或层。在一些方面，纳米颗粒配料比范围从5wt.％至90wt.％。

在某些方面，衬底是非常耐久的并且具有对酸、碱和/或有机溶剂的耐化学性。

纳米颗粒

在hri衬底层中使用的颗粒通常范围从5μm至250μm或从大约5μm至大约250μm。一些优选的颗粒的直径为小于50nm。

在一些方面，示例性颗粒包括纳米颗粒，其包括氧化锆(zro2)、氧化锌(zno)、氧化铝(al2o3)、氧化镁(mgo)、氧化钙(cao)、氮化铝(aln)、钛酸钡(batio3)、氧化铪(hfo2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铈(ceo2)、氧化钇(y2o3)、氧化钛(tio2)、氧化铟镓锌(igzo)、掺铟氧化锌(izo)和氧化锡(sno)中的一种或多种。另外，在某些方面，稳定的或部分稳定的氧化锆(如，y2o3-zro2、mgo-zro2、cao-zro2、ceo2-zro2、al2o3)可以被用作纳米颗粒。进一步，纳米颗粒可以在包括上面的纳米颗粒中的一种或多种的溶液中(或分散遍布溶液)。

阻挡层

任选的阻挡层可包括无机和有机材料中的一种或两种。例如，阻挡层可包括聚合物介质中的无机颗粒。该层可包括金属氧化物诸如铝、锆、锌、钛的氧化物，和硅氧烷(诸如al2o3、zro2、zno、tio2、tiox、sio2和siox)，和包括丙烯酸酯聚合物、聚对二甲苯、对二甲苯或乙二醇的聚合物。聚合物层可以通过分子层沉积(如，通过乙二醇的分子层沉积)、等离子体聚合物(如，通过等离子体的直接自由基聚合)或本领域技术人员已知的其它应用形成。在一些方面，阻挡层的厚度为从0.5μm至50μm，或从大约0.5μm至大约50μm。

电极层

在一些方面，电极层是透明的并且由以下材料构建：这些材料比如但不限于ito、sno2、zno、氧化铱锌、zno-al2o3(掺铝的氧化锌)、zno4ga2o3(掺镓的氧化锌)、掺铌nb的tio2、掺ta的tio2、金属诸如金au和铂pt、以及其组合。在某些方面，层的厚度为50μm至50nm或从大约50nm至大约1μm，或者为100nm至1μm或从大约100nm至大约1μm。

在某些方面，氧化氧化铟锡(ito)可以被用作阳极材料。在进一步方面，金属诸如钡和钙可以被用作阴极材料。

图6显示了hri衬底上透明电极的结构，hri衬底的折射率范围从1.7至2.0、或从大约1.7至大约2.0。

图7显示了在hri衬底上形成透明电极的说明。ito、sno、igzo、izo等金属氧化物可以被沉积至具有高折射率衬底的高耐热衬底上。可选地，在一些方面，可以通过强脉冲光烧结法涂覆和固化金属氧化物(如ito、sno、igzo、izo)的液体溶液。在具体方面中，ultem^tm(由sabic^tm可商业购买的无定形聚醚酰亚胺树脂)可被用于基础衬底。纳米颗粒740可以涂覆ultem^tm衬底742。例如，随后施加通过热源744的固化，形成块膜(bulkfilm)(透明电极)746。

磷光物质层

磷光物质层(或有机层)可包括聚合物中的磷光掺杂剂，当该层形成时该聚合物为透明的。不同的磷光掺杂剂在本领域是已知的并且可以基于期望的色彩输出和其它性质选择。这种掺杂剂包括但不限于使用yag:ce磷光物质用于黄色和casn:eu磷光物质用于红色。yag是钇铝石榴石(y3al5o12)。yag:ce是掺杂铈的yag(yag:ce)。casn是caalsin3和casn:eu是掺杂铕的casn。

硅氧烷诸如聚二甲基硅氧烷(pdms)或基于丙烯酸或氨基甲酸乙酯的材料可以被用作粘结剂材料。

聚合物

本文公开的各种聚合物可获得自商业来源。

聚碳酸酯

在形成柔性衬底中使用的一个优选聚合物是聚碳酸酯。如本文使用的术语“聚碳酸酯”包括共聚碳酸酯、均聚碳酸酯和(共)聚酯碳酸酯。

术语聚碳酸酯可以被进一步限定为具有式(1)的重复结构单元的组合物：

其中r¹基团的总数的至少60％是芳族有机自由基，并且其余量为脂肪族、脂环族或芳族自由基。在进一步方面中，每个r¹是芳族有机自由基，和更优选地为式(2)的自由基：

─a1─y1─a2─(2)，

其中a1和a2中的每一个是单环二价芳基自由基，和y1是具有将a1与a2分开的一个或两个原子的桥连自由基。在各个方面中，一个原子将a1与a2分开。例如，该类型的自由基包括但不限于自由基，诸如─o─、─s─、─s(o)─、─s(o2)─、─c(o)─、亚甲基、环己基-亚甲基、2-[2.2.1]-二环亚庚基、亚乙基、亚异丙基、亚新戊基、亚环己基、亚环十五烷基、亚环十二烷基和亚金刚烷基。桥连自由基y1优选地为烃基或饱和烃基，诸如亚甲基、亚环己基或亚异丙基。聚碳酸酯材料包括在美国专利号7,786,246中公开和描述的材料，其通过引用以其整体并入本文，用于公开各种聚碳酸酯组合物和用于制造其的方法的具体目的。

熔融聚碳酸酯产物可用于本结构和方法。熔融聚碳酸酯工艺基于熔融阶段中二羟基化合物和碳酸酯源的连续反应。该反应可以发生在一系列的反应器中，其中催化剂、温度、真空和搅拌的组合效应允许单体反应和去除反应副产物以移动反应平衡和实现聚合物链生长。在熔融聚合反应中制造的常见聚碳酸酯经由与碳酸二苯酯(dpc)的反应源自双酚a(bpa)。该反应可以通过例如四甲基氢氧化铵(tmaoh)或乙酸四丁基(tbpa)(其可以在被引入至第一聚合单元之前被添加至单体混合物)和氢氧化钠(naoh)(其可以被添加至第一反应器或第一反应器的上游并且在单体混合器之后)被催化。

聚醚酰亚胺

形成衬底的另一有用的聚合物是聚醚酰亚胺。如本文所公开，组合物可以包括聚醚酰亚胺。聚醚酰亚胺包括聚醚酰亚胺共聚物。聚醚酰亚胺可以选自(i)聚醚酰亚胺均聚物，如聚醚酰亚胺，(ii)聚醚酰亚胺共聚物，如聚醚酰亚胺砜(polyetherimidesulfone)，和(iii)其组合。聚醚酰亚胺是已知的聚合物并且由sabicinnovativeplastics以ultem^tm、extem^tm和siltem^tm商标出售。

在一个方面中，聚醚酰亚胺可以具有式(3)：

其中a大于1，例如10至1,000或更大，或更具体地10至500。在一个实例中，a可以为10-100、10-75、10-50或10-25。

式(3)中的基团v是包含醚基(如本文使用的“聚醚酰亚胺”)的四价连接基，或醚基和亚芳基砜基团(“聚醚酰亚胺砜”)的组合。这种连接基包括但不限于：(a)具有5至50个碳原子的取代的或未取代的、饱和的、不饱和的或芳族单环和多环基团，其任选地被醚基团、亚芳基砜基团、或醚基团和亚芳基砜基团的组合取代；和(b)具有1至30个碳原子的取代的或未取代的、直链或支链的、饱和的或不饱和烷基基团，并且任选地被醚基团或醚基团、亚芳基砜基团和亚芳基砜基团的组合取代；或包括前述的至少一种的组合取代。合适的另外的取代包括但不限于醚、酰胺、酯和包括前述的至少一种的组合。

式(3)中的r基团包括但不限于取代的或未取代的二价有机基团，诸如：(a)具有6至20个碳原子的芳族烃基团和其卤代衍生物；(b)具有2至20个碳原子的直链或支链的亚烷基基团；(c)具有3至20个碳原子的亚环烷基基团，或(d)式(4)的二价基团：

其中q1包括但不限于二价部分诸如-o-、-s-、-c(o)-、-so2-、-so-、-cyh2y-(y为1至5的整数)，和其卤代衍生物，包括全氟亚烷基基团。

本公开还使用了美国专利号8,784,719中公开的聚酰亚胺，其以整体并入本文。另外，聚醚酰亚胺树脂可选自例如如美国专利号3,875,116；6,919,422和6,355,723中所描述的聚醚酰亚胺，例如如美国专利4,690,997；4,808,686中所描述的硅氧烷聚醚酰亚胺，如美国专利号7,041,773中所描述的聚醚酰亚胺砜树脂，和其组合，这些专利中的每一篇以其整体并入本文。

聚醚酰亚胺可具有通过凝胶渗透色谱(gpc)测量的5,000至100,000克每摩尔(g/摩尔)的重均分子量(mw)。在一些方面中，mw可以为10,000至80,000。本文使用的分子量指绝对重均分子量(mw)。

其他聚合物

本文讨论的其它聚合物可获得自商业来源或可以由本领域技术人员已知的方法制造。

形成oled层

通过使用喷墨印刷、聚合物溶液或浆料的施加、卷对卷印刷、真空气相淀积操作或本领域技术人员已知的其它技术中的一种或多种可以形成oled的各种层。额外地，气溶胶-沉积方法可用于磷光物质层涂覆。

在某些方面，层中的一个或多个可以被层压。本公开考虑每个层的层压和非层压组装为单片的所有组合。

定义

应当理解，本文使用的术语仅是为了描述具体方面的目的，并且不旨在是限制性的。如说明书和权利要求书中所使用的，术语“包括”可包括实施方式“由……组成”和“基本上由……组成”。除非另外定义，本文使用的所有技术和科学术语具有与本公开内容所属领域普通技术人员通常所理解的相同的含义。在本说明书和所附权利要求书中，将参考将在本文限定的许多术语。

如说明书和所附权利要求书中所使用，单数形式“一(a,an)”和“该(the)”包括复数等效物，除非上下文以其它方式清楚指示。因此，例如提及“聚碳酸酯聚合物”包括两种或更多种聚碳酸酯聚合物的混合物。

如本文所使用，术语“组合”包括掺混物、混合物、合金、反应产物等。

范围在本文中可以表达为从一个具体值至另一个具体值。当表达此范围时，另一方面包括从一个具体值和/或至另一个具体值。类似地，当值被表达为近似值时，通过使用先行词“大约”，应当理解，具体的值形成另一方面。将进一步理解，每个范围的端点关于另一个端点和独立于另一个端点均是有意义的。还应当理解，本文公开了许多值，并且除了该值本身以外，每个值还在本文公开为“大约”该具体值。例如，如果公开了值“10”，那么也公开了“大约10”。还应当理解，还公开了两个具体单位之间的每个单位。例如，如果公开了10和15，那么也公开了11、12、13和14。

如本文所使用，术语“大约”和“在或大约”意思是讨论的量或值可以是指定一些近似地或大约相同的一些其它值的值。如本文所使用，通常理解，标称值指示±5％变化，除非另外指出或推断。该术语旨在传达，相似值产生权利要求中叙述的相同结果或效果。即，应理解，量、尺寸、配方、参数和其它数量和特征不是并且不需要是精确的，而是根据需要可以是近似的和/或更大或更小，反映公差、转换因子、四舍五入、测量误差等，以及本领域技术人员已知的其它因素。通常，量、尺寸、配方、参数或其它数量或特征为“大约”或“近似”，无论是否这样清楚地陈述。应理解，在定量值之前使用“大约”的地方，参数还包括具体的定量值本身，除非另外清楚地指出。

公开了用于制备本公开的组合物的组分以及在本文公开的方法内使用的组合物本身。本文公开了这些和其它材料，并且应理解，当这些材料的组合、子集、相互作用、组等被公开，而各个单个和共同的组合中的具体参照和这些化合物的排列不能被明确地公开时，每一个在本文被具体地考虑和描述。例如，如果公开和讨论了具体化合物，并且讨论了可以对包括化合物的许多分子做出的许多改进，具体而言，考虑了化合物的每个和每一个组合和排列，以及可能的改进，除非具体地相反指出。因此，如果公开了一类分子a、b和c，以及公开了一类分子d、e和f和组合分子a-d的实例，那么即使每个没有被单个叙述，每个是单个的和共同考虑的，这意味着组合a-e、a-f、b-d、b-e、b-f、c-d、c-e和c-f认为被公开。同样地，还公开了这些的任何子集或组合。因此，例如，认为公开了a-e、b-f和c-e的子组。该概念应用至该申请的所有方面，包括但不限于，制造和使用本公开内容的组合物的方法中的步骤。因此，如果可以进行多个另外的步骤，应理解，这些另外的步骤的每个可以用本公开内容的方法的任何具体方面或方面的组合进行。

如本文所使用，术语“透明”意思是公开的组合物的透射率水平大于50％。优选地，透射率至少为60％、70％、80％、85％、90％或95％，或源自上述示例值的透射率值的任何范围。在“透明”的定义中，术语“透射率”指根据astmd1003在3.2毫米的厚度处测量的穿过样品的入射光的量。

如本文所使用，术语“折射率(refractiveindex)”或“折射的指数(indexofrefraction)”指无量纲数，其为物质或介质中光速的量度。它通常被表达为真空中的光速相对于考虑的物质或介质中的光速的比。这可以被算术地书写为：

n＝真空中的光速/介质中的光速。

如本文所使用，术语“粘合剂”指能够将两个膜粘附在一起的粘性的、胶质的或发黏的物质。优选地，粘合剂是透明的。在粘合剂中可以添加干燥剂材料，用于改善wvtr性质。并且uv或热能对于固化粘合剂层可能是必须的。

“uv”代表紫外线。

缩写“nm”代表纳米。

缩写“μm”代表微米。

如本文所使用，术语组分的“重量百分数”、“wt.％”和“wt.％”——除非明确地相反陈述，其可以互换地使用——基于其中包括组分的制剂或组合物的总重量。例如如果组合物或制品中的具体元素或组分被认为具有按重量计8％，应理解，该百分数是相对于按重量计100％的总的组成百分数。

如本文所使用，术语“重均分子量”或“mw”可以互换地使用，并且由下式限定：

其中mi是链的分子量和ni是该分子量的链的数目。与mn相比，mw考虑给定链的分子量对于测定平均分子量的贡献。因此，给定链的分子量越大，链对于mw的贡献越多。使用分子量标准，例如聚碳酸酯标准或聚苯乙烯标准，优选地认证的或可追踪的分子量标准，通过本领域普通技术人员熟知的方法可以测定聚合物例如聚碳酸酯聚合物的mw。

水蒸气透过率(wvtr)可以通过任何适合的方法测定，包括但不限于氚测试和ca测试。mocon,ofminneapolis,mn为测量薄膜(诸如本文描述的那些)的wvtr提供设备。

黄色指数可以通过astme313确定。

除非本文以其它方式相反陈述，所有的测试标准是在提交该申请时生效的最近的标准。

方面

本公开包括至少下面的方面。

方面1.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述衬底包括聚合物材料和在其中分散的无机精细颗粒，第一无机精细颗粒的大小范围从大约1nm至大约50nm或从大于100nm至大约200nm。

方面2.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述衬底基本上由聚合物材料和在其中分散的无机精细颗粒组成，所述颗粒的大小范围从大约1nm至大约50nm。

方面3.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述衬底由聚合物材料和在其中分散的无机精细颗粒组成，所述无机精细颗粒的大小范围从大约1nm至大约50nm或从大于100nm至大约200nm。

方面4.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述衬底包括聚合物材料和在其中分散的无机精细颗粒，所述无机精细颗粒的大小范围从1nm至50nm或从大于100nm至大约200nm。

方面5.根据方面1-4中任一项的高折射率衬底，其中所述高折射率衬底是柔性的并且具有从大约5μm至大约250μm的范围中的厚度。

方面6.根据方面1-5中任一项的高折射率衬底，具有从大约1.7至大约2.5的折射率(n)。

方面7.根据方面1-5中任一项的高折射率衬底，具有从1.7至2.5的折射率(n)。

方面8.根据方面1-7中任一项的高折射率衬底，具有大于80％的透射率。

方面9.根据方面1-7中任一项的高折射率衬底，具有大于90％的透射率。

方面10.根据方面1-7中任一项的高折射率衬底，具有从大约80％至大约95％的透射率。

方面11.根据方面1-10中任一项的高折射率衬底，具有大约10^-6g/m²天的水蒸气透过率(wvtr)。

方面12.根据方面1-10中任一项的高折射率衬底，具有大约10^-6g/m²天的水蒸气透过率(wvtr)。

方面13.根据方面1-12中任一项的高折射率衬底，其中所述纳米颗粒的颗粒直径小于50nm。

方面14.根据方面1-13中任一项的高折射率衬底，其中所述聚合物材料包括聚碳酸酯或聚醚酰亚胺。

方面15.根据方面1-14中任一项的高折射率衬底，其中所述无机精细颗粒包括以下中的一种或多种：氧化锆(zro2)、氧化锌(zno)、氧化铝(al2o3)、氧化镁(mgo)、氧化钙(cao)、氮化铝(aln)、钛酸钡(batio3)、氧化铪(hfo2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铈(ceo2)、氧化钇(y2o3)、氧化钛(tio2)、氧化铟镓锌(igzo)、掺铟氧化锌(izo)、氧化锡(sno)以及稳定的或部分稳定的氧化锆。

方面16.根据方面1-15中任一项的高折射率衬底，其中所述衬底具有从120℃至250℃的耐热性。

方面17.根据方面1-16中任一项的高折射率衬底，其中所述衬底在紫外(uv)波长范围中不具有光催化反应性。

方面18.根据方面1-17中任一项的高折射率衬底，其中所述衬底在10nm至400nm波长范围中不具有光催化反应性。

方面19.根据方面1-18中任一项的高折射率衬底，其中所述衬底具有2以下的黄色指数值。

方面20.根据方面1-19中任一项的高折射率衬底，包括多个高折射率衬底层，其中所述层通过原子层沉积涂覆或夹缝式挤压型涂覆形成。

方面21.根据方面1-20中任一项的高折射率衬底，另外地包括透明电极层。

方面22.根据方面1-21中任一项的高折射率衬底，其中通过经由喷雾器或喷雾机构将所述无机精细颗粒沉积至所述粘合剂涂覆的衬底上实现折射率的等级。

方面23.根据方面1-22中任一项的高折射率衬底，其中大小范围从大约100nm至大约30μm的所述无机精细颗粒通过粘合剂转移法、涂覆法或沉积法形成。

方面24.一种oled，其包括阳极；磷光物质层；根据方面1-15中任一项的高折射率衬底；阳极层，所述阳极被布置邻近所述衬底；布置在所述阳极层上的磷光物质层；和布置在所述磷光物质层上的阴极层。

方面25.一种oled，其基本上由以下组成：阳极；磷光物质层；根据方面1-15中任一项的高折射率衬底；阳极层，所述阳极被布置邻近所述衬底；布置在所述阳极层上的磷光物质层；和布置在所述磷光物质层上的阴极层。

方面26.一种oled，其由以下组成：阳极；磷光物质层；根据方面1-15中任一项的高折射率衬底；阳极层，所述阳极被布置邻近所述衬底；布置在所述阳极层上的磷光物质层；和布置在所述磷光物质层上的阴极层。

方面27.根据方面16的oled，其中所述高折射率衬底是柔性的并且具有从大约5μm至大约250μm的范围中的厚度。

方面28.根据方面16的oled，其中所述高折射率衬底是柔性的并且具有从5μm至250μm的范围中的厚度。

方面29.根据方面16或方面17的oled，其中所述高折射率衬底具有从大约1.7至大约2.5的折射率(n)。

方面30.根据方面16或方面17的oled，其中所述高折射率衬底具有从1.7至2.5的折射率(n)。

方面31.根据方面16-18中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有大于80％的透射率。

方面32.根据方面16-18中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有大于85％的透射率。

方面33.根据方面16-18中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有从90％至95％的透射率。

方面34.根据方面16-18中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有从大约80％至大约95％的透射率。

方面35.根据方面16-18中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有从80％至95％的透射率。

方面36.根据方面16-19中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有大约10^-6g/m²天的水蒸气透过率(wvtr)。

方面37.根据方面16-19中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有10^-6g/m²天的水蒸气透过率(wvtr)，

方面38.根据方面16-20中任一项的oled，其中所述高折射率衬底包括无机精细颗粒，所述无机精细颗粒包括以下中的一种或多种：氧化锆(zro2)、氧化锌(zno)、氧化铝(al2o3)、氧化镁(mgo)、氧化钙(cao)、氮化铝(aln)、钛酸钡(batio3)、氧化铪(hfo2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铈(ceo2)、氧化钇(y2o3)、氧化钛(tio2)、氧化铟镓锌(igzo)、掺铟氧化锌(izo)、氧化锡(sno)以及稳定的或部分稳定的氧化锆。

方面39.根据方面16-21中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有从大约120℃至大约250℃的耐热性。

方面40.根据方面16-21中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有从120℃至250℃的耐热性。

方面41.适合于包括在oled中的衬底，所述衬底包括聚合物材料和在其中分散的纳米颗粒，纳米颗粒的大小范围从大于100nm至大约200nm。

方面42.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述高折射率衬底包括聚合物材料和在其中分散的纳米颗粒，纳米颗粒的大小范围从大于100nm至大约200nm。

方面43.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述高折射率衬底基本上由聚合物材料和在其中分散的纳米颗粒组成，纳米颗粒的大小范围从大于100nm至大约200nm。

方面44.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述高折射率衬底由聚合物材料和在其中分散的纳米颗粒组成，纳米颗粒的大小范围从大于100nm至大约200nm。

方面45.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述高折射率衬底包括聚合物材料和在其中分散的纳米颗粒，纳米颗粒的大小范围从大于100nm至大约200nm。

方面46.适合于包括在oled中的高折射率衬底，所述高折射率衬底包括聚合物材料和在其中分散的纳米颗粒，纳米颗粒的大小范围从大约1nm至大约50nm。

方面47.根据方面1-2中任一项的高折射率衬底，其中所述高折射率衬底是柔性的并且具有从大约5μm至大约250μm的范围中的厚度。

方面48.根据方面1-3中任一项的高折射率衬底，具有从大约1.7至大约2.5的折射率(n)。

方面49.根据方面1-3中任一项的高折射率衬底，具有从1.7至2.5的折射率(n)。

方面50.根据方面1-3中任一项的衬底，具有大于80％的透射率。

方面51.根据方面1-3中任一项的衬底，具有大于90％的透射率。

方面52.根据方面1-3中任一项的衬底，具有从大约80％至大约95％的透射率。

方面53.根据方面1-4中任一项的高折射率衬底，具有从80％至95％的透射率。

方面54.根据方面1-5中任一项的高折射率衬底，具有10^-6g/m²天的水蒸气透过率(wvtr)。

方面55.根据方面1-5中任一项的高折射率衬底，具有大约10^-6g/m²天的水蒸气透过率(wvtr)。

方面56.根据方面1-6中任一项的高折射率衬底，其中所述聚合物材料包括聚碳酸酯或聚醚酰亚胺。

方面57.根据方面1-7中任一项的高折射率衬底，其中所述纳米颗粒包括以下中的一种或多种：氧化锆(zro2)、氧化锌(zno)、氧化铝(al2o3)、氧化镁(mgo)、氧化钙(cao)、氮化铝(aln)、钛酸钡(batio3)、氧化铪(hfo2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铈(ceo2)、氧化钇(y2o3)、氧化钛(tio2)、氧化铟镓锌(igzo)、掺铟氧化锌(izo)、氧化锡(sno)以及稳定的或部分稳定的氧化锆。

方面58.根据方面1-8中任一项的高折射率衬底，其中相比于基本上类似的而没有纳米颗粒的衬底，包括在其中分散的所述纳米颗粒的所述高折射率衬底展现提高的储存模量和减少的热膨胀效率。

方面59.根据方面1-9中任一项的高折射率衬底，其中所述高折射率衬底在紫外波长范围中不具有光催化反应性。

方面60.根据方面1-10中任一项的高折射率衬底，其中所述高折射率衬底具有2以下的黄色指数值。

方面61.根据方面1-11中任一项的高折射率衬底，另外地包括透明电极层。

方面62.根据方面1-12中任一项的高折射率衬底，其中通过将粘合剂涂覆至所述高折射率衬底上和通过将所述纳米颗粒喷雾至所述粘合剂上实现折射率的等级。

方面63.根据方面1-13中任一项的高折射率衬底，其中大小范围从大约100nm至大约30μm的所述纳米颗粒通过粘合剂转移法、涂覆法或沉积法形成。

方面64.根据方面1-13中任一项的高折射率衬底，其中大小范围从100nm至30μm的所述纳米颗粒通过粘合剂转移法、涂覆法或沉积法形成。

方面65.一种oled，其包括阳极；磷光物质层；根据方面1-2中任一项的高折射率衬底；阳极层，所述阳极被布置邻近所述高折射率衬底；布置在所述阳极层上的磷光物质层；和布置在所述磷光物质层上的阴极层。

方面66.根据方面15的oled，其中所述高折射率衬底是柔性的并且具有从大约5μm至大约250μm的范围中的厚度。

方面67.根据方面15的oled，其中所述高折射率衬底是柔性的并且具有从5μm至250μm的范围中的厚度。

方面68.根据方面15或方面16的oled，其中所述高折射率衬底具有从大约1.7至大约2.5的折射率(n)。

方面69.根据方面15或16的oled，其中所述高折射率衬底具有从1.7至2.5的折射率(n)。

方面70.根据方面1-3中任一项的oled，具有大于80％的透射率。

方面71.根据方面1-3中任一项的oled，具有大于90％的透射率。

方面72.根据方面1-3中任一项的oled，具有从大约80％至大约95％的透射率。

方面73.根据方面1-4中任一项的oled，具有从80％至95％的透射率。

方面74.根据方面15-17中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有从大约80％至大约95％的透射率。

方面75.根据方面15-18中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有10^-6g/m²天的水蒸气透过率(wvtr)。

方面76.根据方面15-18中任一项的oled，其中所述高折射率衬底具有10^-6g/m²天的水蒸气透过率(wvtr)。

方面77.根据方面15-20中任一项的oled，所述高折射率衬底包括遍及分散的纳米颗粒，其中所述纳米颗粒包括以下中的一种或多种：氧化锆(zro2)、氧化锌(zno)、氧化铝(al2o3)、氧化镁(mgo)、氧化钙(cao)、氮化铝(aln)、钛酸钡(batio3)、氧化铪(hfo2)、氧化钽(ta2o5)、氧化铈(ceo2)、氧化钇(y2o3)、氧化钛(tio2)、氧化铟镓锌(igzo)、掺铟氧化锌(izo)、氧化锡(sno)以及稳定的或部分稳定的氧化锆。

实施例

通过下面的非限制性实例说明本公开。

如图2中构建oled的一部分。结构具有聚合物支撑衬底，在该支撑衬底上的五个hri衬底层(分别具有1.6、1.7、1.8、1.9和2.0的折射率)，驻留在第五个hri衬底层上的透明电极和驻留在透明电极上的有机层。

如图3-8b中所描绘构建生产hri衬底的各种实例。

图3显示了生产具有折射率等级的衬底，其通过原子层沉积或夹缝式挤压型涂覆制作。如所图解，可以提供衬底(聚合物膜)。可以向衬底施加第一涂覆粘合剂层。可以向第一涂覆粘合剂层施加纳米颗粒喷雾施加。如此，纳米颗粒可以粘附至衬底。在某些方面，纳米颗粒配置为形成单层。然而，其他配置是可能的。可以向邻近沉积的纳米颗粒的衬底堆叠施加第二粘合剂层。可以向第二涂覆粘合剂层施加纳米颗粒喷雾施加。如此，纳米颗粒可以粘附至衬底堆叠，形成第二纳米颗粒层(如，单层)。在某些方面，纳米颗粒配置为形成单层。在其他方面，可以形成多层纳米颗粒。

作为实例，每个层的厚度可以范围从5nm至100nm。可以通过改变厚度控制折射率。另一实例，每个层可以具有不同的纳米颗粒，其具有折射率。

图4显示了使用筛网印刷方法生产hri衬底膜。如所图解，衬底(聚合物膜)可以被布置在真空台上。包括框架和网部分的筛网可以被布置邻近衬底。可以向筛网的网部分施加纳米颗粒溶液和可以使用刮板或加载器件来向筛网施加负荷以使纳米颗粒溶液移动通过筛网并被施加至衬底。

图5显示了使用注射工艺生产hri衬底。如所图解，可以混合聚合物和纳米颗粒并递送至粒化器。可以将粒化器的输出进料至注射成型器件的输入，其可以加工混合的粒状物用于成形。作为实例，纳米颗粒配料比范围从总混合物的90wt％至5wt％。

本文中描述的工艺可以被用于形成hri衬底。hri衬底然后可以被用在其他应用中，诸如oled应用。作为实例，图6显示了hri衬底上的透明电极的结构，hri衬底的ri范围从1.7至2.0。作为进一步实例，图7显示了在hri衬底上生产透明电极。金属氧化物诸如ito、sno、igzo、izo可以被沉积至高耐热且高折射率衬底上。或者，可以通过强脉冲光烧结法涂覆和固化金属氧化物诸如ito、sno、igzo、izo的液体溶液。在该情况中，ultem^tm树脂被用于基础衬底。图解的方法是辊对辊工艺。作为进一步实例，图8a-b显示了作为两种类型的集成有透明电极层852a-b的高折射率衬底850a-b的示意图。透明电极材料可以使用ito、银纳米线(agn/w)、聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)pedot纳米颗粒、金属网(具有金属纳米颗粒的纳米纤维网)，ito/透明导电氧化物(tco)。图8a显示了hri颗粒854a被置于聚合物膜层851a的顶部上和图8b显示了hri颗粒854b被分散在整个衬底中。