含荧光体薄膜及背光单元的制作方法

文档序号:17486059发布日期:2019-04-20 06:49阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种即使在含有量子点等荧光体的薄膜中形成层叠结构之后剪裁成所期望的尺寸的情况下也能够抑制荧光体的劣化的含荧光体薄膜、以及具备该含荧光体薄膜作为波长转换部件的背光单元。本发明的含荧光体薄膜具有:含荧光体层,其离散配置有多个包含暴露于氧时与氧反应而劣化的荧光体的荧光区域,并在离散配置的多个荧光区域之间配置有对氧具有不透过性的树脂层;及第1基材薄膜及第2基材薄膜,分别层叠在含荧光体层的两个主表面上;树脂层的努氏硬度为115N/mm2~285N/mm2,蠕变恢复率为22%以下,弹性恢复率为60%以上。

技术研发人员:关口惠;大场达也;柿下健一;楠本将之;筑紫翔
受保护的技术使用者:富士胶片株式会社
技术研发日:2017.08.30
技术公布日:2019.04.19
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