彩膜片及其制作方法和彩膜基板与流程

文档序号:14713258发布日期:2018-06-16 00:50阅读:来源:国知局
彩膜片及其制作方法和彩膜基板与流程

技术特征:

1.一种彩膜片,包括:

第一量子点发光层,所述第一量子点发光层具有光入射表面和光出射表面,所述第一量子点发光层被配置为受到来自所述光入射面的第一波长的光激发后发出第二波长的光,

其中所述第一量子点发光层的所述光入射表面是凸形表面或所述第一量子点发光层的所述光出射表面是凸形表面。

2.根据权利要求1所述的彩膜片,所述彩膜片还包括:

第二量子点发光层,所述第二量子点发光层具有光入射表面和光出射表面,所述第二量子点发光层被配置为受到来自所述光入射面的第一波长的光激发后发出第三波长的光,其中所述第三波长不同于所述第二波长,

其中在所述第一量子点发光层的所述光入射表面是凸形表面时,所述第二量子点发光层的所述光入射表面是凸形表面;并且在所述第一量子点发光层的所述光出射表面是凸形表面时,所述第二量子点发光层的所述光出射表面是凸形表面。

3.根据权利要求1所述的彩膜片,所述彩膜片还包括:

用于透射第一波长的光的透明层。

4.根据权利要求2所述的彩膜片,其中所述第一波长的光为蓝光,所述第二波长的光为红光或绿光,并且所述第三波长的光为绿光或红光。

5.根据权利要求1所述的彩膜片,其中所述第一量子点发光层位于像素限定层的第一开口中,所述第一量子点发光层的凸形表面的曲率半径在所述第一开口的长度的1至5倍的范围内。

6.根据权利要求2所述的彩膜片,其中所述第二量子点发光层位于像素限定层的第二开口中,所述第二量子点发光层的凸形表面的曲率半径在所述第二开口的长度的1至5倍的范围内。

7.一种彩膜基板,包括根据权利要求1-6中任一项所述的彩膜片。

8.根据权利要求7所述的彩膜基板,所述彩膜基板还包括用于发射第一波长的光的光源和布拉格分布式反射镜层,所述布拉格分布式反射镜层位于所述光源和所述彩膜片之间,用于透射第一波长的光并且反射第二波长的光。

9.一种显示装置,包括根据权利要求1-6中任一项所述的彩膜片。

10.一种彩膜片的制作方法,所述方法包括:

提供包含第一量子点和第一树脂的第一量子点墨水,其中所述第一量子点被配置为受到来自所述光入射面的第一波长的光激发后发出第二波长的光;

将所述第一量子点墨水喷墨打印到像素限定层的第一开口中形成具有打印表面的所述第一量子点墨水层;和

在将所述打印表面朝下的情况下将所述第一量子点墨水层旋转干燥,以形成所述打印表面是凸形表面的第一量子点发光层。

11.根据权利要求10所述的制作方法,所述方法还包括:

在形成所述第一量子点发光层的同时或之后,提供包含第二量子点和第二树脂的第二量子点墨水,其中所述第二量子点被配置为受到来自所述光入射面的第一波长的光激发后发出第三波长的光,其中所述第三波长不同于所述第二波长;和

将所述第二量子点墨水喷墨打印到所述像素限定层的第二开口中形成具有打印表面的所述第二量子点墨水层;和

在将所述第二量子点墨水的所述打印表面朝下的情况下将所述第二量子点墨水层旋转干燥,以形成所述打印表面是凸形表面的第二量子点发光层。

12.根据权利要求10所述的制作方法,所述方法还包括:

所述方法在形成所述第一量子点发光层和/或所述第二量子点发光层之前、同时或之后,在所述像素限定层的第三开口中形成用于透射第一波长的光的透明层。

13.根据权利要求10所述的制作方法,其中所述第一量子点发光层的凸形表面的曲率半径在所述第一开口的长度的1至5倍的范围内。

14.根据权利要求11所述的制作方法,其中所述第二量子点发光层的凸形表面的曲率半径在所述第二开口的长度的1至5倍的范围内。

15.根据权利要求10所述的制作方法,其中所述第一量子点墨水的粘度为5-20cPs并且表面张力为20-40达因,并且所述第二发光量子点墨水的粘度为5-20cPs并且表面张力为20-40达因。

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