技术总结
本发明提供了一种提升全视场光刻成像均匀性的多目标光源和掩模优化方法，将目标函数构造为各视场点图形误差的平均值，从而在优化过程中综合考虑了光刻物镜的全视场偏振像差信息。因此，本发明优化得到的光源和掩模，不只适用于特定视场点的光刻成像，而且适用于全视场光刻成像。对于含有偏振像差的大视场光刻物镜，以上效果有助于提高全视场光刻成像均匀性，保证光刻工艺的良率。
技术研发人员：李艳秋;李铁;孙义钰;盛乃援
受保护的技术使用者：北京理工大学
技术研发日：2018.06.22
技术公布日：2018.10.23