技术特征：
技术总结
本公开涉及一种光刻系统，包括光源、掩膜板、透镜和衬底台。光源被配置为提供光。掩膜板具有预定图案并被配置为基于预定图案遮挡光的至少一部分。透镜被配置为用经遮挡的光投影出预定图案的像。衬底台被配置为支撑衬底并使得预定图案的像被投影到衬底上的光刻胶中。预定图案至少包括第一图案和第二图案，第一图案和第二图案能够分别被透镜投影并且在被投影时具有不同的像距。衬底台被配置为在透镜的光轴方向上移动衬底，使得第一图案的像在光刻胶中的深度与第二图案的像在光刻胶中的深度之差小于第一图案与第二图案的像距之差。本公开还提供了一种光刻方法。
技术研发人员：张祥平;李天慧;许刚;藤井光一
受保护的技术使用者：德淮半导体有限公司
技术研发日：2018.08.03
技术公布日：2018.12.11