一种小芯径渐变折射率光纤的制作方法

文档序号:16242999发布日期:2018-12-11 23:17阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及一种小芯径渐变折射率光纤,包括有芯层和包层,所述的包层由内到外依次为内包层、下陷包层和外包层,其特征在于芯层折射率剖面呈抛物线形,分布指数α为1.9~2.1,芯层的半径R1为10~21μm,芯层中心最大相对折射率差Δ1max为0.7%~1.7%,所述的内包层为纯二氧化硅层或掺F的二氧化硅玻璃层,单边宽度(R2‑R1)为0.5~5μm,相对折射率差Δ2为‑0.4%~0%,所述的下陷包层单边宽度(R3‑R2)为2~10μm,相对折射率差Δ3为‑0.8%~‑0.2%,所述的外包层为纯二氧化硅玻璃层。本发明光纤不仅能与现有OM3/OM4多模光纤兼容,还能支持850nm~950nm波长范围内的波分复用技术;光纤的基模LP01的MFD与单模光纤进行匹配,能与单模光纤兼容,支持1310nm和1550nm的单模传输。

技术研发人员:肖武丰;王润涵;黄荣;王海鹰;张安林;杨笛;王铁军
受保护的技术使用者:长飞光纤光缆股份有限公司
技术研发日:2018.09.25
技术公布日:2018.12.11
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